Development of technique of heat conduction control by condition of Si/SiO2 interface
Development of technique of heat conduction control by condition of Si/SiO2 interface
Si/SiO2界面条件热传导控制技术的发展
批准号：
20K14793
负责人：
Tomita Motohiro
金额：
$2.66万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2020
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2020-04-01 至 2022-03-31
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分子動力学法を用いたSiO2/Si/SiO2薄膜内の低エネルギーフォノンの振動モード解析
利用分子动力学方法分析 SiO2/Si/SiO2 薄膜中低能声子的振动模式
利用分子动力学方法分析 SiO2/Si/SiO2 薄膜中低能声子的振动模式
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[富田 基裕, 横川 凌, 小椋 厚志, 渡邉 孝信]
通讯作者：
渡邉 孝信
分子動力学法を用いたSiGe中の低エネルギーフォノンモードの変位解析
利用分子动力学方法分析 SiGe 中低能声子模式的位移
利用分子动力学方法分析 SiGe 中低能声子模式的位移
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[富田基裕, Sylvia Yuk Yee Chung, 横川 凌, 小椋 厚志, 渡邉 孝信]
通讯作者：
渡邉 孝信
分子動力学法を用いたSiGe混晶内の低エネルギー局在フォノンの振動モード解析
利用分子动力学方法分析 SiGe 混晶中低能局域声子的振动模式
利用分子动力学方法分析 SiGe 混晶中低能局域声子的振动模式
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[富田 基裕, S. Y, Y. Chung, 横川 凌, 小椋 厚志, 渡邉 孝信]
通讯作者：
渡邉 孝信
DOI：
10.1063/5.0071699
发表时间：
2021-11
期刊：
AIP Advances
影响因子：
1.6
作者：
[Sylvia Yuk Yee Chung;M. Tomita;R. Yokogawa;A. Ogura;Takanobu Watanabe]
通讯作者：
Sylvia Yuk Yee Chung;M. Tomita;R. Yokogawa;A. Ogura;Takanobu Watanabe
DOI：
10.1063/5.0055307
发表时间：
2021-07
期刊：
AIP Advances
影响因子：
1.6
作者：
[S. Chung;M. Tomita;Junya Takizawa;R. Yokogawa;A. Ogura;Haidong Wang;Takanobu Watanabe]
通讯作者：
S. Chung;M. Tomita;Junya Takizawa;R. Yokogawa;A. Ogura;Haidong Wang;Takanobu Watanabe
共 8 条
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