权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

Development of technique of heat conduction control by condition of Si/SiO2 interface

Si/SiO2界面条件热传导控制技术的发展

基本信息

批准号：
20K14793
负责人：
Tomita Motohiro
金额：
$ 2.66万
依托单位：
Waseda University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2020
资助国家：
日本
起止时间：
2020-04-01 至 2022-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（9）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

分子動力学法を用いたSiO2/Si/SiO2薄膜内の低エネルギーフォノンの振動モード解析

利用分子动力学方法分析 SiO2/Si/SiO2 薄膜中低能声子的振动模式

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
富田基裕;横川凌;小椋厚志;渡邉孝信
通讯作者：
渡邉孝信

分子動力学法を用いたSiGe中の低エネルギーフォノンモードの変位解析

利用分子动力学方法分析 SiGe 中低能声子模式的位移

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
富田基裕;Sylvia Yuk Yee Chung;横川凌;小椋厚志;渡邉孝信
通讯作者：
渡邉孝信

分子動力学法を用いたSiGe混晶内の低エネルギー局在フォノンの振動モード解析

利用分子动力学方法分析 SiGe 混晶中低能局域声子的振动模式

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
富田基裕;S. Y;Y. Chung;横川凌;小椋厚志;渡邉孝信
通讯作者：
渡邉孝信

Atomic mass dependency of a localized phonon mode in SiGe alloys

DOI：
10.1063/5.0071699
发表时间：
2021-11
期刊：
AIP Advances
影响因子：
1.6
作者：
Sylvia Yuk Yee Chung;M. Tomita;R. Yokogawa;A. Ogura;Takanobu Watanabe
通讯作者：
Sylvia Yuk Yee Chung;M. Tomita;R. Yokogawa;A. Ogura;Takanobu Watanabe

Dependency of a localized phonon mode intensity on compositional cluster size in SiGe alloys

DOI：
10.1063/5.0055307
发表时间：
2021-07
期刊：
AIP Advances
影响因子：
1.6
作者：
S. Chung;M. Tomita;Junya Takizawa;R. Yokogawa;A. Ogura;Haidong Wang;Takanobu Watanabe
通讯作者：
S. Chung;M. Tomita;Junya Takizawa;R. Yokogawa;A. Ogura;Haidong Wang;Takanobu Watanabe

DOI：
{{ item.doi }}
发表时间：
{{ item.publish_year }}
期刊：
{{ item.journal_name }}
影响因子：
{{ item.factor }}
作者：
{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ patent.updateTime }}

Tomita Motohiro其他文献

Enhanced nickelidation rate in silicon nanowires with interfacial lattice disorder

界面晶格无序的硅纳米线镍化率提高

DOI：
10.1063/1.4999195
发表时间：
2017
期刊：
Journal of Applied Physics
影响因子：
3.2
作者：
Hashimoto Shuichiro;Yokogawa Ryo;Oba Shunsuke;Asada Shuhei;Xu Taiyu;Tomita Motohiro;Ogura Atsushi;Matsukawa Takashi;Masahara Meishoku;Watanabe Takanobu
通讯作者：
Watanabe Takanobu

Nano-scale evaluation of electrical tree initiation in silica/epoxy nano-composite thin film

二氧化硅/环氧树脂纳米复合薄膜中电树引发的纳米级评价

DOI：
10.23919/iseim.2017.8088759
发表时间：
2017
期刊：
Conference Proceedings of International Symposium Electrical Insulating Materials (ISEIM) 2017
影响因子：
0
作者：
Onishi Takuya;Hashimoto Shuichiro;Tomita Motohiro;Watanabe Takanobu;Mura Kotaro;Tsuda Toshihiro;Yoshimitsu Tetsuo
通讯作者：
Yoshimitsu Tetsuo

Development of interatomic potential of Ge(1- x-y )SixSny ternary alloy semiconductors for classical lattice dynamics simulation

用于经典晶格动力学模拟的 Ge(1- x-y )SixSny 三元合金半导体原子间势的发展

DOI：
10.7567/jjap.57.04fb04
发表时间：
2018
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Tomita Motohiro;Ogasawara Masataka;Terada Takuya;Watanabe Takanobu
通讯作者：
Watanabe Takanobu

Study on the Effect of Methoxy Intermediate Diffusion on Methanol Decomposition on Pt/TiO2(110)

甲氧基中间扩散对Pt/TiO2(110)上甲醇分解影响的研究

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Zhan Tianzhuo;Sahara Keita;Takeuchi Haruki;Yokogawa Ryo;Oda Kaito;Jin Zhicheng;Deng Shikang;Tomita Motohiro;Wu Yen-Ju;Xu Yibin;Matsuki Takeo;Wang Haidong;Song Mengjie;Guan Sujun;Ogura Atsushi;Watanabe Takanobu;劉燦，三輪寛子，小倉正平，福谷克之，高敏，長谷川淳也，清水研一，朝倉清高，高草木達
通讯作者：
劉燦，三輪寛子，小倉正平，福谷克之，高敏，長谷川淳也，清水研一，朝倉清高，高草木達

Evaluation of controlled strain in silicon nanowire by UV Raman spectroscopy

通过紫外拉曼光谱评估硅纳米线中的受控应变

DOI：
10.7567/jjap.56.06gg10
发表时间：
2017
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Yokogawa Ryo;Hashimoto Shuichiro;Asada Shuhei;Tomita Motohiro;Watanabe Takanobu;Ogura Atsushi
通讯作者：
Ogura Atsushi