Challenge to the realization of dopant-free flexible solar cells that expand the application area of photovoltaics

挑战实现无掺杂柔性太阳能电池,扩大光伏应用领域

基本信息

  • 批准号:
    20K20998
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
  • 财政年份:
    2020
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2020-07-30 至 2022-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(16)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
ベイズ最適化を援用した高性能パッシベーティングコンタクトの実現 ~TiOx/結晶Siヘテロ構造への適用~
利用贝叶斯优化实现高性能钝化接触〜在TiOx/晶体硅异质结构中的应用〜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    宮川晋輔;後藤和泰;沓掛健太朗;黒川康良;宇佐美徳隆
  • 通讯作者:
    宇佐美徳隆
太陽電池用の結晶成長やセルプロセスへのインフォマティクス応用
信息学在太阳能电池晶体生长和电池工艺中的应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    小山 陽太;尾崎 信彦;小田 久哉;池田 直樹;杉本 喜正;秩父重英;宇佐美 徳隆
  • 通讯作者:
    宇佐美 徳隆
Silicon nanopyramid texture fabricated by one-step solution process and its application to silicon heterojunction solar cells
一步溶液法制备硅纳米金字塔织构及其在硅异质结太阳能电池中的应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yuqing Li;Hitoshi Sai;Takuya Matsui;and Noritaka Usami
  • 通讯作者:
    and Noritaka Usami
TiOx/結晶Siヘテロ構造における電極製膜後のパッシベーション性能の定量的評価の検討
TiOx/晶硅异质结构电极成膜后钝化性能定量评价研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    深谷 昌平;後藤 和泰;松井 卓矢;齋 均;黒川 康良;宇佐美 徳隆
  • 通讯作者:
    宇佐美 徳隆
脱炭素社会実現を加速する次世代太陽電池への期待
对加速实现脱碳社会的下一代太阳能电池的期望
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Takafumi Uemura and Tsuyoshi Sekitani;宇佐美 徳隆
  • 通讯作者:
    宇佐美 徳隆
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Usami Noritaka其他文献

Preferred orientation of BaSi 2 thin films fabricated by thermal evaporation
热蒸发制备BaSi 2 薄膜的择优取向
  • DOI:
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    2017
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  • 影响因子:
    0
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  • 通讯作者:
    Usami Noritaka
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通过 FIB 制造用于扫描探针的 NV 中心托管金刚石尖端
  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
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  • 通讯作者:
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Scalable fabrication of GaN on amorphous substrates via MOCVD on highly oriented silicon seed layers
通过 MOCVD 在高度取向的硅种子层上可扩展地在非晶衬底上制造 GaN
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  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.8
  • 作者:
    Hainey Mel;Robin Yoann;Avit Geoffrey;Amano Hiroshi;Usami Noritaka
  • 通讯作者:
    Usami Noritaka
Effect of hydrogen plasma treatment on the passivation performance of TiOx on crystalline silicon prepared by atomic layer deposition
氢等离子体处理对原子层沉积晶体硅TiOx钝化性能的影响
  • DOI:
    10.1116/1.5134720
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.9
  • 作者:
    Miyagawa Shinsuke;Gotoh Kazuhiro;Ogura Shohei;Wilde Markus;Kurokawa Yasuyoshi;Fukutani Katsuyuki;Usami Noritaka
  • 通讯作者:
    Usami Noritaka
イオンを利用した新しいエレクトロニクス
使用离子的新型电子产品
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Nakagawa Yuta;Gotoh Kazuhiro;Wilde Markus;Ogura Shohei;Kurokawa Yasuyoshi;Fukutani Katsuyuki;Usami Noritaka;小野新平
  • 通讯作者:
    小野新平

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    24360001
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

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    21H03753
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 3.58万
  • 项目类别:
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作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了