International and Interdisciplinary Research in Chemistry between Spatiotemporal Pattern Formation and Molecular Chirality
International and Interdisciplinary Research in Chemistry between Spatiotemporal Pattern Formation and Molecular Chirality
批准号:
20KK0122
负责人:
深見 一弘
金额:
$11.9万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research (B))
财政年份:
2020
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2020-10-27 至 2024-03-31
中文摘要
本年度は新たな系としてPd-Cu二元系合金電析における時空間パターン形成に取り組んだ。平滑電極上でPd-Cu二元系合金を電析すると,自発的な相分離がみられ,電析条件によってはスパイラルの時空間パターンが自発的に形成することを見出した。この電析物の断面を観察すると自発的にPd-richとCu-richの領域が多層構造を形成していることが分かった。この電析をポーラスアルミナ(シリンダー状ナノポア)電極を用いて実施したところ,ナノポア内部においてPd-rich領域が自発的にらせん状構造へと自己組織化することを見出した。この自己組織化メカニズムについて,反応-拡散モデルをもとに説明することに成功した。その他,派生する研究課題として,CdSe/CdSコアシェル型の量子ロッドをポリマーフィルム中に分散させ、延伸法でロッドを配向させることにより直線偏光発光性(LPL)フィルムを作製した。LPLフィルムと位相差フィルムを組み合わせた「発光式円偏光コンバータ」を提案し、高輝度かつ高純度の円偏光を容易に作り出せることを実証した。また,中抵抗および低抵抗シリコンのPtナノ触媒のアシストによるシリコンのエッチングを行い,垂直孔とメソポーラス層の複合ポーラス構造を作製することに成功した。抵抗率によって垂直孔の長さとメソポーラス層の厚さの割合が大きく変化することがあきらかとなった。電気化学測定や数値シミュレーションにより,シリコンの抵抗率によるエッチング挙動の違いを考察した。
英文摘要
本年度は新たな系としてPd-Cu二元系合金電析における時空間パターン形成に取り組んだ。平滑電極上でPd-Cu二元系合金を電析すると,自発的な相分離がみられ,電析条件によってはスパイラルの時空間パターンが自発的に形成することを見出した。この電析物の断面を観察すると自発的にPd-richとCu-richの領域が多層構造を形成していることが分かった。この電析をポーラスアルミナ(シリンダー状ナノポア)電極を用いて実施したところ,ナノポア内部においてPd-rich領域が自発的にらせん状構造へと自己組織化することを見出した。この自己組織化メカニズムについて,反応-拡散モデルをもとに説明することに成功した。その他,派生する研究課題として,CdSe/CdSコアシェル型の量子ロッドをポリマーフィルム中に分散させ、延伸法でロッドを配向させることにより直線偏光発光性(LPL)フィルムを作製した。LPLフィルムと位相差フィルムを組み合わせた「発光式円偏光コンバータ」を提案し、高輝度かつ高純度の円偏光を容易に作り出せることを実証した。また,中抵抗および低抵抗シリコンのPtナノ触媒のアシストによるシリコンのエッチングを行い,垂直孔とメソポーラス層の複合ポーラス構造を作製することに成功した。抵抗率によって垂直孔の長さとメソポーラス層の厚さの割合が大きく変化することがあきらかとなった。電気化学測定や数値シミュレーションにより,シリコンの抵抗率によるエッチング挙動の違いを考察した。
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Multilayer-type luminescence-based circular polarization converter for time-multiplexing optical information
用于时分复用光学信息的多层型基于发光的圆偏振转换器
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[H. Shimizu, Y. Okazaki, K. Hachiya, T. Sagawa]
通讯作者:
T. Sagawa
汎用蛍光分子の一軸配向に基づく発光型円偏光コンバータの作製と評価
基于通用荧光分子单轴取向的发光圆偏振光转换器的制备和评估
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[K. Mishima, T. Sakai, K. Yokota, M. Taniguchi, Y. Aso, Y. Ie, K. Yamashita, 赤瀬川怜,岡﨑豊,塚本桂大,蜂谷寛,佐川尚]
通讯作者:
赤瀬川怜,岡﨑豊,塚本桂大,蜂谷寛,佐川尚
深見一弘 Publication list
深见一宏 著作列表
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Electrochemical Investigation of the Effect of Hydrogen Peroxide Concentration on Platinum-Particle-Assisted Etching of p-Type Silicon in a Hydrofluoric Acid Solution
氢氟酸溶液中过氧化氢浓度对 p 型硅铂粒子辅助蚀刻影响的电化学研究
DOI:
10.1149/1945-7111/ac330e
发表时间:
2021
期刊:
Journal of The Electrochemical Society
影响因子:
3.9
作者:
[Matsumoto Ayumu, Furukawa Kyohei, Majima Shun, Iwamoto Keishi, Yae Shinji]
通讯作者:
Yae Shinji
多層型発光性円偏光コンバータによる光情報の多重化および時間分解分光法による読み出し
使用多层发光圆偏振转换器对光学信息进行复用并使用时间分辨光谱进行读出
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Chatterjee, T. Ohto, H. Tada, S. Jinnai, Y. Ie, 清水快樹,岡﨑豊,蜂谷寛,佐川尚]
通讯作者:
清水快樹,岡﨑豊,蜂谷寛,佐川尚
共 36 条
Production of high-entropy alloy thin films by nano-encapsulated electrodeposition
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批准号:22K18887
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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资助金额:$4.16万
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财政年份:2022
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负责人:深見 一弘
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依托单位:
Systematic understanding on surface processing by anodization of SiC, and its application in structural and electronic materials
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批准号:21H01670
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.07万
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财政年份:2021
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负责人:深見 一弘
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依托单位:
金属電析反応と電気化学振動とのカップリングによるナノ秩序構造形成法の開拓
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批准号:05J09682
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.15万
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财政年份:2005
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负责人:深見 一弘
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依托单位:
海外基金