Development of artificial neural circuits based on solid-state ionics
基于固态离子学的人工神经电路的发展
基本信息
- 批准号:21H03412
- 负责人:
- 金额:$ 11.23万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2021
- 资助国家:日本
- 起止时间:2021-04-01 至 2024-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
リチウム(Li)イオン伝導体のリチウムリン酸窒化物(LiPON)上にLiイオンと電子の混合伝導体であるコバルト酸リチウム(LCO)チャネルを1次元配列させた、神経細胞(ニューロン)の側方抑制を模倣する素子を構築した。チャネルに電圧パルスを印加しときの起こるLiPON中のLiイオン移動とLCOチャネルへのインターカレーション/デインターカレーションにより入力電圧パターンの境界(エッジ)付近で出力のチャネル電流対比が増大し、錯視のマッハバンド効果を再現する。この特性を利用して画像信号を入力すると、明暗のエッジ検出が材料特性だけで可能となることを見い出した。LiPON/LCO素子ではチャネル電流変化の時定数が10秒以上あり、視覚素子応用には応答速度が遅い。異なるアプローチとして、プロトン伝導体のキトサン上に酸化インジウム亜鉛チャネルを1次元配列したニューロン素子を作製した。高いプロトン伝導性により、チャネル電流変化の時定数は100ミリ秒以下に低減できた。これは一般的なカメラのフレームレートより速い。この結果は素子性能を材料特性によって劇的に向上できることを示唆しており、当初予想していなかった新しい成果である。微細加工プロセスに必要な平坦な薄膜形成の手段として、Li固体電解質の原子層堆積(ALD)成膜を目指している。リン酸リチウムへの窒素ドープ(窒化)に必要なアンモニア(NH3)プラズマの条件出しを行った。その結果、5%以上の窒化が可能なNH3ガスの投入量範囲を特定し、イオン伝導度が室温で1×10-6 S/cm程度まで向上することを確認した。
リチウム(Li)イオン伝 conductor のリチウムリン acid sulfide (LiPON) on にLi イオンとelectronic の hybrid 伝 conductor であるコバルThe トリチウム (LCO) チャネルを1-dimensional arrangement させた, the side suppression of the divine cell (ニューロン) を imitation するatomic child を construction した.チャネルに电姧パルスをINDICA しときの起こるLiPON中のLiイオンmobileとLCOチャネルへのインターカレーション/デインターカレーションによりEnter the power electric pressure electric field (エッジ) pay close to the output The のチャネルcurrent ratio is increased and the trompe l'oeil effect is reproduced.この characteristics を Utilize し て image signal を enter force す る と, light and dark の エ ッ ジ が material properties だ け で と な る こ と を 见 い 出 し た. The LiPON/LCO element can change the current at a fixed time of more than 10 seconds, depending on the element's response speed. Acidification of different conductor and conductorジウム亜チャネルを1-dimensional arrangement したニューロン真子をproduced した. High conductivity and high conductivity, constant current change times are less than 100 milliseconds, and low reduction is required.これはGeneral なカメラのフレームレートより速い.このRESULTS は element properties を material properties に よ っ て drama に UP で き る こ と を INDUSTRY し て お り, originally conceived し て い な か っ た 新し い results で あ る. Microprocessing requires flat thin film formation methods and atomic layer deposition (ALD) film forming methods for Li solid electrolytes.リアンモニア(NH3) プラズマのconditions outしを行った. The results are as follows: 5% or more of suffocation is possible, the input amount of NH3 is specified, the conductivity is at room temperature, and the degree of 1×10-6 S/cm is confirmed.
项目成果
期刊论文数量(5)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Ionic Nanoarchitectonics for Exploring Memristive Characteristics
用于探索忆阻特性的离子纳米结构
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Terabe;T. Tsuchiya;T. Tsuruoka
- 通讯作者:T. Tsuruoka
Impact of moisture absorption on the resistive switching characteristics of a polyethylene oxide-based atomic switch
- DOI:10.1039/d1tc01654g
- 发表时间:2021-07
- 期刊:
- 影响因子:6.4
- 作者:K. Krishnan;A. Gubicza;M. Aono;K. Terabe;I. Valov;T. Tsuruoka
- 通讯作者:K. Krishnan;A. Gubicza;M. Aono;K. Terabe;I. Valov;T. Tsuruoka
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鶴岡 徹其他文献
原子層堆積法によるリン酸マグネシウム固体電解質膜の作製
原子层沉积法制备磷酸镁固体电解质膜
- DOI:
- 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
鶴岡 徹;蘇 進;辻田卓司;西谷雄;濱村朋史;稲富友;名倉健祐;寺部 一弥 - 通讯作者:
寺部 一弥
hfac吸着表面へのGCIB照射によるNiの原子層エッチング
hfac吸附表面GCIB辐照对Ni的原子层刻蚀
- DOI:
- 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
鶴岡 徹;蘇 進;辻田卓司;西谷雄;濱村朋史;稲富友;名倉健祐;寺部 一弥;植松 功多, 豊田 紀章 - 通讯作者:
植松 功多, 豊田 紀章
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- 资助金额:
$ 11.23万 - 项目类别:
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