Ultraprecise dimensional measurement of semiconductor nanostructures
Ultraprecise dimensional measurement of semiconductor nanostructures
半导体纳米结构的超精密尺寸测量
批准号：
19K14865
负责人：
Kizu Ryosuke
金额：
$2.66万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2023-03-31
中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(13)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
Photoresist shrinkage observation by a metrological tilting-AFM
通过计量倾斜 AFM 观察光刻胶收缩
通过计量倾斜 AFM 观察光刻胶收缩
DOI：
10.1117/12.2655566
发表时间：
2023
期刊：
Proc. SPIE
影响因子：
--
作者：
[Kizu Ryosuke, Misumi Ichiko, Hirai Akiko, Gonda Satoshi]
通讯作者：
Gonda Satoshi
Comparison of SEM and AFM performances for LER reference metrology
LER 参考计量的 SEM 和 AFM 性能比较
LER 参考计量的 SEM 和 AFM 性能比较
DOI：
10.1117/12.2551468
发表时间：
2020
期刊：
Proc. of SPIE
影响因子：
--
作者：
[Kizu Ryosuke, Misumi Ichiko, Hirai Akiko, Gonda Satoshi]
通讯作者：
Gonda Satoshi
粗さ解析のための方法及び情報処理システム
粗糙度分析方法及信息处理系统
粗糙度分析方法及信息处理系统
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
High-resolution sidewall observation and LER measurement of a photoresist pattern by a metrological tilting-AFM
通过计量倾斜 AFM 进行光刻胶图案的高分辨率侧壁观察和 LER 测量
通过计量倾斜 AFM 进行光刻胶图案的高分辨率侧壁观察和 LER 测量
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Kizu Ryosuke, Misumi Ichiko, Hirai Akiko, Gonda Satoshi]
通讯作者：
Gonda Satoshi
ラインエッジラフネスが制御されたシリコンラインパターンの作製と評価
具有受控线边缘粗糙度的硅线图案的制作和评估
具有受控线边缘粗糙度的硅线图案的制作和评估
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[木津良祐, 三隅伊知子, 平井亜紀子, 権太聡, 高橋哲]
通讯作者：
高橋哲
共 10 条
Absolute evaluation of a probe-tip shape for the reduction of uncertainty of linewidth calibration using an AFM
-
批准号：16K18119
-
项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
-
资助金额：$2.66万
-
财政年份：2016
-
负责人：Kizu Ryosuke
-
依托单位：