Study on Next Generation of High Precision Processing Using Ultrashort Pulse X-ray Laser

下一代超短脉冲X射线激光高精度加工研究

• 批准号: 19K15402
• 负责人: DINH THANH HUNG
• 金额: $ 2.66万
• 依托单位: National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
• 财政年份: 2019
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2019-04-01 至 2021-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K15402/
• 关键词: 超微細加工; 超短パルスX線レーザー

项目成果

Laser-induced damage thresholds and mechanism of silica glass induced by ultra-short soft x-ray laser pulse irradiation

超短软X射线激光脉冲辐照石英玻璃激光损伤阈值及机理

• DOI: 10.1364/ol.389288
• 发表时间: 2020
• 期刊: Optics Letters
• 影响因子: 3.6
• 作者: Mikami Katsuhiro;Ishino Masahiko;Dinh Thanh-Hung;Motokoshi Shinji;Hasegawa Noboru;Kon Akira;Inubushi Yuichi;Owada Shigeki;Kinoshita Hiroo;Nishikino Masaharu
• 通讯作者: Nishikino Masaharu

Self-organization of nano-structures induced by an intense pulse of femtosecond EUV laser

飞秒 EUV 激光强脉冲诱导纳米结构的自组织

• 发表时间: 2021
• 作者: Thanh-Hung Dinh;Masahiko Ishino;Yoshiteru Yonetani;Toshiki Kitamura;Noboru Hasegawa;Masaharu Nishikino
• 通讯作者: Masaharu Nishikino

Recent activities of ultra-high intensity laser-driven x-ray generation at KPSI Japan

日本 KPSI 近期开展的超高强度激光驱动 X 射线发生活动

• 发表时间: 2019
• 作者: Thanhhung Dinh;Michiaki Mori;Noboru Hasegawa;Masaharu Nishikino;Kiminori Kondo;Tetsuya Kawachi
• 通讯作者: Tetsuya Kawachi

超短パルス軟Ｘ線レーザー特有の表面加工メカニズムを解明－ナノスケールの超精密・直接加工が可能に！－

阐明超短脉冲软X射线激光器特有的表面加工机制——纳米级超精密直接加工现在成为可能！

Controlled strong excitation of silicon as a step towards processing materials at sub-nanometer precision

• DOI: 10.1038/s42005-019-0253-2
• 发表时间: 2019-11-28
• 期刊: COMMUNICATIONS PHYSICS
• 影响因子: 5.5
• 作者: Thanh-Hung Dinh;Medvedev, Nikita;Nishikino, Masaharu
• 通讯作者: Nishikino, Masaharu