Enhancement of surface acoustic wave harmonics excitation using bonded dissimilar-material structures and its application to next-generation super-high frequency filters

利用粘合异种材料结构增强表面声波谐波激励及其在下一代超高频滤波器中的应用

基本信息

  • 批准号：
    20H02181
  • 负责人：
    Shoji Kakio
  • 金额：
    $ 11.65万
  • 依托单位：
    University of Yamanashi
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份：
    2020
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2020-04-01 至 2023-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（23）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
LiTaO3と水晶の接合構造を用いたリーキーSAW共振子の高周波特性
使用LiTaO3和晶体结结构的漏SAW谐振器的高频特性
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    浅川詩織;鈴木雅視，垣尾省司，手塚彩水，水野潤
  • 通讯作者：
    鈴木雅視，垣尾省司，手塚彩水，水野潤
Enhancement of leaky surface acoustic wave harmonics excitation using bonded dissimilar-material structures
使用粘合异种材料结构增强泄漏表面声波谐波激励
  • DOI：
    10.35848/1347-4065/abeff2
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
    Jpn. J. Appl. Phys.
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Shiori Asakawa;Masashi Suzuki;Shoji Kakio;Ami Tezuka;and Jun Mizuno
  • 通讯作者：
    and Jun Mizuno
<Session Invited> High-performance SAW devices using bonded dissimilar-material structures
<会议邀请>使用粘合异种材料结构的高性能SAW器件
  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    G. Wolfowicz;F. J. Heremans;C. P. Anderson;S. Kanai;H. Seo;A. Gali;G. Galli;and D. D. Awschalom,;Shoji Kakio
  • 通讯作者：
    Shoji Kakio
異種材料接合構造を用いたリーキーSAW高調波の強勢励振
使用异种材料粘合结构增强泄漏 SAW 谐波的激励
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    浅川詩織;鈴木雅視，垣尾省司，手塚彩水，水野潤
  • 通讯作者：
    鈴木雅視，垣尾省司，手塚彩水，水野潤
垣尾・鈴木研究室HP
柿尾/铃木实验室 HP
  • DOI：
  • 发表时间：
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
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  • 期刊：
  • 影响因子：
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  • 通讯作者：
    別府孝介，飯田陽介，足立秀明，藤井一郎，和田隆博
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  • 影响因子：
    1.5
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  • 通讯作者：
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  • DOI：
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Ami Tezuka;Hiroyuki Kuwae;Kosuke Yamada;Shoji Kakio;Shuichi Shoji;and Jun Mizuno;垣尾 省司，林 純貴，浅川 詩織，鈴木 雅視，手塚 彩水，桑江 博之，横田 裕章，米内 敏文，岸田 和人，水野 潤
  • 通讯作者：
    垣尾 省司，林 純貴，浅川 詩織，鈴木 雅視，手塚 彩水，桑江 博之，横田 裕章，米内 敏文，岸田 和人，水野 潤
Increase of electromechanical coupling coefficient in c-axis oriented AlN films by chromium doping at low concentrations
低浓度铬掺杂提高c轴取向AlN薄膜的机电耦合系数
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Yusei Takano;Ryusei Hayakawa;Masashi Suzuki;Shoji Kakio
  • 通讯作者：
    Shoji Kakio

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