液相原子層堆積法に立脚した低温・低環境負荷セラミックスコーティング技術の開発
液相原子層堆積法に立脚した低温・低環境負荷セラミックスコーティング技術の開発
批准号:
20J11961
负责人:
谷口 有沙子
金额:
$1.09万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2020
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2020-04-24 至 2022-03-31
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二年目は、次の2テーマを中心に研究を進めた。研究1:交互積層法によるNi(OH)2/FeOOHナノヘテロ構造の構築と触媒活性の制御研究1では、シンプルな交互積層法を用いて優れた酸素生成触媒活性を示すNi(OH)2/FeOOHナノヘテロ構造体の作製を行った。本手法では、まず親水化処理を施した基板を75℃に加熱した原料溶液に10秒間浸漬することで、基板表面に金属イオンを吸着させた。続いて、水洗後、75℃に加熱したKOH溶液に10秒間浸漬することで、吸着金属イオンとOH-との反応により水酸化物層を析出させた。以上を1サイクルとして、サイクル毎にNi, Fe溶液を任意に選択し、膜中のNi(OH)2層、FeOOH層の積層構造を制御することで、大幅な触媒活性の増強が見られた。また、Fe2+溶液を用いて製膜することが高触媒活性を得るために重要な要因であることを明らかにした。研究2:電気化学堆積法によるNi(OH)2/FeOOHヘテロ積層膜の作製と酸素生成触媒への応用研究2では、Ni(OH)2とFeOOHからなるヘテロ構造体の作製手法として、電気化学堆積法(ED法)に着目した。本手法は、一般に導電性基板上に金属水酸化物層を簡便、迅速かつ大面積に堆積することができる。ここでは、2段階のED法を用いて、触媒活性増強効果を有するNi(OH)2/FeOOH二層触媒の作製を試みた。FTO基板を負極、ステンレス板を正極としてFe溶液中で3 V定電圧を印加することにより、FTO基板上に水酸化鉄層を堆積した。続いて、Ni溶液中で同様の電析処理を行うことで、水酸化鉄層上に水酸化ニッケル層を堆積した。FeOOH層がNi(OH)2層によって完全に被覆された場合、最も高い触媒活性を得た。本研究で作製した触媒は、最先端のNi(OH)2/FeOOH触媒が示す値と同等以上の低過電圧、高耐久性を示した。
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Aqueous phase layer-by-layer deposition of crystalline hematite thin films without post-growth annealing
无需后生长退火的结晶赤铁矿薄膜的水相逐层沉积
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Asako Taniguchi, Yuta Kubota, Nobuhiro Matsushita, Kento Ishii, Tetsuo Uchikoshi, Yoshikazu Suzuki]
通讯作者:
Yoshikazu Suzuki
DOI:
10.1016/j.matlet.2022.132118
发表时间:
2022-03
期刊:
Materials Letters
影响因子:
3
作者:
[Asako Taniguchi;Kento Ishii;Thi Kim Ngan Nguyen;T. Uchikoshi;Y. Kubota;N. Matsushita;Yoshikazu Suzuki]
通讯作者:
Asako Taniguchi;Kento Ishii;Thi Kim Ngan Nguyen;T. Uchikoshi;Y. Kubota;N. Matsushita;Yoshikazu Suzuki
水溶液を用いた交互反応法によるヘマタイト薄膜のナノスケール成長制御
水溶液交替反应法控制赤铁矿薄膜纳米级生长
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
作者:
[谷口有沙子, 鈴木義和, 石井健斗, 打越哲郎, 久保田雄太, 松下伸広]
通讯作者:
松下伸広
DOI:
10.1021/acsaem.1c01505
发表时间:
2021-08-09
期刊:
ACS APPLIED ENERGY MATERIALS
影响因子:
6.4
作者:
[Taniguchi,Asako, Kubota,Yuta, Suzuki,Yoshikazu]
通讯作者:
Suzuki,Yoshikazu
電気化学堆積法によるNi(OH)2/FeOOHヘテロ積層膜の作製と酸素生成触媒への応用
电化学沉积法制备Ni(OH)2/FeOOH杂层薄膜及其在制氧催化剂中的应用
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[谷口有沙子, 石井健斗, Thi Kim Ngan Nguyen, 打越哲郎, 久保田雄太, 松下伸広, 鈴木義和]
通讯作者:
鈴木義和
共 8 条
水素社会に向けた触媒製造プロセスイノベーション
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批准号:22KJ3241
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$2.83万
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财政年份:2023
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负责人:谷口 有沙子
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依托单位:
希土類元素によるNi(OH)2酸素生成触媒の活性化:構造と触媒活性の制御、相関解明
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批准号:23K13725
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项目类别:Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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资助金额:$3.0万
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财政年份:2023
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负责人:谷口 有沙子
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依托单位:
海外基金