Development of Si doped DLC film deposition technology for high-precision Si dopping and elucidation of mechanism of low friction
Development of Si doped DLC film deposition technology for high-precision Si dopping and elucidation of mechanism of low friction
高精度Si掺杂Si DLC薄膜沉积技术的开发及低摩擦机理的阐明
批准号：
20K04187
负责人：
ikenaga noriaki
金额：
$2.75万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2020
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
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メッシュを用いた PBII＆D 法におけるプラズマ計測
使用网格进行 PBII&D 方法中的等离子体测量
使用网格进行 PBII&D 方法中的等离子体测量
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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作者：
[柳 才智, 池永 訓昭]
通讯作者：
池永 訓昭
メッシュを用いた PBII&D 法における DLC 膜厚均一性の改善
使用网格改善 PBII&D 方法中 DLC 膜厚均匀性
使用网格改善 PBII&D 方法中 DLC 膜厚均匀性
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[浦 尚輝, 池永 訓昭]
通讯作者：
池永 訓昭
Fe2O3を用いた高温環境用感湿材料の検討
Fe2O3高温环境湿敏材料的研究
Fe2O3高温环境湿敏材料的研究
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[内藤光佑, 佐々木恭平, 池永訓昭]
通讯作者：
池永訓昭
ステンレスメッシュを用いたプラズマの高密度化
使用不锈钢网的高密度等离子体
使用不锈钢网的高密度等离子体
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[佐藤 凌, 李 渊, 田中康平・池永訓昭・中川嵩也・高橋宏典]
通讯作者：
田中康平・池永訓昭・中川嵩也・高橋宏典
Elucidation of mechanism of high heat resistance on Si doped DLC film for design the functionality of DLC film
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批准号：16K05991
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.16万
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财政年份：2016
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负责人：ikenaga noriaki
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依托单位：