Elucidation of mechanism of high heat resistance on Si doped DLC film for design the functionality of DLC film

阐明Si掺杂DLC薄膜的高耐热机理，用于设计DLC薄膜的功能

• 批准号: 16K05991
• 负责人: ikenaga noriaki
• 金额: $ 3.16万
• 依托单位: Kanazawa Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2016
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2016-04-01 至 2019-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16K05991/
• 关键词: DLC膜; 耐熱性膜; 機能性膜; 元素添加膜; 耐熱性; 機能性薄膜; DLC薄膜

项目成果

Heat-resistance Evaluation of Si Doped DLC Thin Films

Si掺杂DLC薄膜的耐热性评价

• 发表时间: 2017
• 作者: Noriaki Ikenaga ;Ryo Nakazawa ;Atunori Akizawa ;Kazunari Ishii ;Naoki Osawa
• 通讯作者: Naoki Osawa

炭素系薄膜を用いた赤外光学窓材料用保護膜の検討

碳基薄膜红外光学窗口材料保护膜的研究

• 发表时间: 2017
• 作者: Noriaki Ikenaga ;Yuki Hoshino ;Naoki Osawa;池永訓昭;石井一成，池永訓昭
• 通讯作者: 石井一成，池永訓昭

Si添加DLC膜の耐熱性発現メカニズムに関する研究

加Si DLC薄膜耐热发展机理研究

• 发表时间: 2017
• 作者: 秋澤 充悟;中澤 諒;池永 訓昭
• 通讯作者: 池永 訓昭

Effect of TiO2 interlayer in PZT thin film for improving crystal growth

PZT薄膜中TiO2中间层促进晶体生长的作用

• 发表时间: 2019
• 作者: Noriaki Ikenaga ;Yuki Hoshino ;Naoki Osawa
• 通讯作者: Naoki Osawa

Ion energy in plasma doping process

等离子体掺杂过程中的离子能量

• 发表时间: 2016
• 作者: N. Sakudo;N. Ikenaga
• 通讯作者: N. Ikenaga