Development Synthesis Route of Oxide Nanosheets with Single-unit-cell Thickness by Utilizing Langmuir Film Interface as Reaction Field

利用Langmuir薄膜界面作为反应场开发单胞厚度氧化物纳米片合成路线

基本信息

  • 批准号:
    20K05262
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.75万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2020
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2020-04-01 至 2024-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本年度は、昨年度にSnO2ナノシート形成メカニズムの理解のために行った気液界面に形成させるラングミュア膜の形成条件や合成のpH、温度、時間の検討から得られた知見に基づいて、Cu2Oナノシートの合成とCeO2ナノシートの合成を中心に行った。種々条件の調整によりCu2Oでは、厚さ1.7-3.2 nm程度、横に数から数十um程度の形状を有するCu2Oナノシートが形成された。ただし、得られたシートはシートが横に繋がったような形状をしており、所々に孔の空いた特徴的な形状であった。孔のサイズは横に数十um程度の形状を有する試料で数百nmから数um程度であった。詳細に合成時間を振って各試料を観察したところ、孔のサイズは合成時間が長くなるにつれて増大する傾向にあった。Cu2Oナノシートの形成においては、気液界面で形成されたナノ粒子が気液界面に沿って凝集、成長することにより円形に近い形状のナノシートが形成され、その後シート同士の接合による孔の形成、シートサイズの増大が起こり、溶液中での溶解再析出、ラングミュア膜崩壊に伴う気液界面の原料イオン濃縮領域の崩壊による溶解再析出の促進により、円形に近い形状の孔が形成されたものと考えている。従って、今回のCu2Oナノシートのようなナノ粒子の凝集からナノシートが形成される場合には、合成時間、およびラングミュア膜の安定性が試料形状に大きな影響を及ぼすと考えられる。CeO2では、厚さ約3.9 nm、横に数百umのナノシートが形成された。合成条件の検討により、これまで本研究で合成したCeO2ナノシートと比較してシートサイズが数百倍になったものの、厚みが3倍となった。従来は厚さ1.3 nm程度で単位格子2-3個分の厚みであったが、今回は単位格子7-8個分の厚みであった。なお、CeO2においてもCu2O同様に円形に近い形状の孔が形成された。
In this year and last year, the SnO2 system was formed. This year, we understand that the liquid interface is affected by the formation of film formation conditions. The synthesis of pH, temperature and time are sensitive to the temperature and temperature. The synthesis of CeO2 is very sensitive to the temperature and temperature. A variety of conditions to adjust the thickness of Cu2O, thickness of 1.7-3.2 nm, horizontal count of tens of um, the shape has a Cu2O effect on the formation of temperature. The shape of the hole is empty, and the shape is special. There are several hundred um levels in the shape of the hole, several hundreds of nm, and several um levels. The synthesis time of each material is monitored. The synthesis time of each material is long-term. The interface between Cu2O and liquid is formed, and the interface between the particles and the liquid is formed. The interface is agglutinated along the interface, the shape of the interface is close to the shape of the interface, and the hole is formed after the contact of the same person. The hole is formed, and the solution is dissolved and reprecipitated. The film collapse is accompanied by the liquid interface, the raw material, the field, the disintegration, the dissolution and the precipitation, the shape is close to the shape, and the hole is formed. This time, the Cu2O test was used to determine the concentration of particles, the synthesis time, the stability of the film, the shape of the film, the shape of the material and the temperature. The thickness of the CeO2 is about 3.9 nm, and the thickness is about hundreds of um. In this study, CeO2 was synthesized and the thickness was 3 times thicker than that of others. There are 2-3 nm-level squares, and this time there are 7-8 squares. The shape of the hole is the same as that of the CeO2. The hole is close to the shape. The hole forms the hole.

项目成果

期刊论文数量(9)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
ラングミュア膜界面を反応場とする機能性酸化物ナノシート合成に向けた新規溶液プロセスの開拓
使用朗缪尔膜界面作为反应场开发合成功能性氧化物纳米片的新溶液工艺
  • DOI:
  • 发表时间:
    2023
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    内山 岳;久保田 雄太;松下 伸広
  • 通讯作者:
    松下 伸広
ラングミュア膜界面をテンプレートとしたCeO2ナノシートの作製
以Langmuir膜界面为模板制备CeO2纳米片
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    永井 俊;久保田 雄太;松下 伸広
  • 通讯作者:
    松下 伸広
ラングミュア膜界面を反応場としたCu2-xOポーラスナノシートの作製と新規材料作製に向けたプロセス開拓
使用 Langmuir 膜界面作为反应场制备 Cu2-xO 多孔纳米片以及生产新材料的工艺开发
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    和崎 啓汰;久保田 雄太;松下 伸広
  • 通讯作者:
    松下 伸広
単位格子厚SnO2シート作製に向けたラングミュア膜界面を反応場とした溶液プロセス開拓
开发一种溶液工艺,使用 Langmuir 膜界面作为反应场来制造具有晶胞厚度的 SnO2 片
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    和崎 啓汰;久保田 雄太;松下 伸広
  • 通讯作者:
    松下 伸広
ラングミュア膜界面を利用した新規溶液ナノシート合成プロセスの開拓とCeO2ナノシート合成
利用 Langmuir 膜界面和 CeO2 纳米片合成开发新的溶液纳米片合成工艺
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    内山 岳;久保田 雄太;松下 伸広
  • 通讯作者:
    松下 伸広
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久保田 雄太其他文献

液中成膜プロセスによる酸化セリウム膜の形態制御と抵抗変化型メモリへの応用
浸没式薄膜沉积氧化铈薄膜形貌控制及其在阻变存储器中的应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    青木 俊悟;久保田 雄太;松下 伸広
  • 通讯作者:
    松下 伸広
抵抗変化型メモリに向けた液中成膜酸化セリウム膜の酸素空孔量変化と抵抗変化特性評価
电阻变化存储器液体沉积氧化铈薄膜的氧空位量变化和电阻变化特性评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    青木 俊悟;久保田 雄太;松下 伸広
  • 通讯作者:
    松下 伸広
抵抗変化型メモリへの応用に向けた液中酸化セリウム膜の作製
液体中制备氧化铈薄膜用于阻变存储器
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    青木 俊悟;久保田 雄太;松下 伸広
  • 通讯作者:
    松下 伸広
固液界面での不均一核生成を利用したCeO2成膜の低環境負荷プロセス
利用固液界面异质成核形成 CeO2 薄膜的低环境影响工艺
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    齋藤 健介;久保田 雄太;松下 伸広
  • 通讯作者:
    松下 伸広
フィリピンにおける再定住のためのコーポラティブ型社会住宅政策
菲律宾移民合作社会住房政策
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    青木 俊悟;久保田 雄太;松下 伸広;白石レイ
  • 通讯作者:
    白石レイ

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Development of Fabrication Process for Hard Ceramic Coatings in Liquid Phase Based on Chemical Equilibrium Theory and Their Structural Control
基于化学平衡理论的液相硬质陶瓷涂层制备工艺及其结构控制研究
  • 批准号:
    23K04433
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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