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Development of Fabrication Process for Hard Ceramic Coatings in Liquid Phase Based on Chemical Equilibrium Theory and Their Structural Control
基于化学平衡理论的液相硬质陶瓷涂层制备工艺及其结构控制研究
基本信息
- 批准号：23K04433
- 负责人：
- 金额：$ 3万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2023
- 资助国家：日本
- 起止时间：2023-04-01 至 2026-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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久保田 雄太其他文献
液中成膜プロセスによる酸化セリウム膜の形態制御と抵抗変化型メモリへの応用
浸没式薄膜沉积氧化铈薄膜形貌控制及其在阻变存储器中的应用
- DOI：
- 发表时间：
2021 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
青木 俊悟;久保田 雄太;松下 伸広 - 通讯作者：
松下 伸広
ラングミュア膜界面をテンプレートとした数nm厚CeO2シートの作製
使用 Langmuir 薄膜界面作为模板制造几纳米厚的 CeO2 片
- DOI：
- 发表时间：
2020 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
永井 俊;久保田 雄太;松下 伸広 - 通讯作者：
松下 伸広
ラングミュア膜界面を反応場としたSnO2ナノシートの作製
使用 Langmuir 膜界面作为反应场制备 SnO2 纳米片
- DOI：
- 发表时间：
2021 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
和崎 啓汰;久保田 雄太;松下 伸広 - 通讯作者：
松下 伸広
SnO2ナノシートの均一合成を可能とするラングミュア膜界面を反応場とした溶液プロセス
使用 Langmuir 膜界面作为反应位点的溶液工艺，可均匀合成 SnO2 纳米片
- DOI：
- 发表时间：
2021 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
和崎 啓汰;久保田 雄太;松下 伸広 - 通讯作者：
松下 伸広
抵抗変化型メモリに向けた液中成膜酸化セリウム膜の酸素空孔量変化と抵抗変化特性評価
电阻变化存储器液体沉积氧化铈薄膜的氧空位量变化和电阻变化特性评价
- DOI：
- 发表时间：
2021 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
青木 俊悟;久保田 雄太;松下 伸広 - 通讯作者：
松下 伸広
久保田 雄太的其他文献
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Development Synthesis Route of Oxide Nanosheets with Single-unit-cell Thickness by Utilizing Langmuir Film Interface as Reaction Field
利用Langmuir薄膜界面作为反应场开发单胞厚度氧化物纳米片合成路线
- 批准号：
20K05262 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 3万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)