Research on lithography using projection exposure of stereophonic surface
Research on lithography using projection exposure of stereophonic surface
立体声表面投影曝光光刻技术研究
批准号：
20K05293
负责人：
Horiuchi Toshiyuki
金额：
$2.83万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2020
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
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DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Toshiyuki Horiuchi;J. Iwasaki;Hiroshi Kobayashi]
通讯作者：
Toshiyuki Horiuchi;J. Iwasaki;Hiroshi Kobayashi
放物面ミラーを用いた立体リソグラフィ投影露光光学系の検討
抛物面镜立体光刻投影曝光光学系统的研究
抛物面镜立体光刻投影曝光光学系统的研究
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[堀内敏行, 小林宏史]
通讯作者：
小林宏史
青色発光ダイオードでコリメート照明した対向放物面鏡立体投影 リソグラフィによるスプーン面へのパターン形成の実証
使用蓝色发光二极管进行准直照明的相对抛物面镜的三维投影 使用光刻技术演示勺子表面上的图案形成
使用蓝色发光二极管进行准直照明的相对抛物面镜的三维投影 使用光刻技术演示勺子表面上的图案形成
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[竹内 美洋, 菅洋志, 王映樵, 若原孝次, 塚越一仁, 堀内 敏行，小林 宏史]
通讯作者：
堀内 敏行，小林 宏史
立体面投影露光装置
三维投影曝光设备
三维投影曝光设备
DOI：
--
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
Situation of Stereophonic Lithography Using Parabolic Mirrors, Abstract p.59
使用抛物面镜进行立体光刻的情况，摘要第 59 页
使用抛物面镜进行立体光刻的情况，摘要第 59 页
DOI：
--
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Toshiyuki Horiuchi, Jun-ya Iwasaki, Hiroshi Kobayashi]
通讯作者：
Hiroshi Kobayashi
共 17 条
Research on fabrication technology of micro-lens arrays utilizing cross section profile control of thick resist patterns
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批准号：17K05021
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.08万
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财政年份：2017
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负责人：Horiuchi Toshiyuki
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依托单位：