三次元フォトリソグラフィ

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３次元リソグラフィ用のマスの最適設計を行う計算機システムを開発し，これを応用したマスクの試作と，試作したマスクを用いて，３次元構造の露光実験に着手した．試行実験により，レジストの厚膜塗布の均一性，現像時のパターン倒れなどの課題を確認した．このうち，現像時のパターン倒れについては，表面張力を抑制する従来の超臨界現像方式を参考に，現像液の流動と抑制した専用の低表面張力現像機を作製した．，これにより，表面張力と流動によるパターン倒れなどの欠陥が抑制できた．これと並行して，露光実験を行い，これまでに３次元ピラミッドフレーム状構造，傾斜梁構造などの３次元構造の空間結像性について評価をおこなった．ビラミッドフレームについては，これまでの先行実験での結果を，別形状で検証できた．一方，傾斜梁構については，現像時のパターン倒れにより，一部の構造が形成できている状態に留まった．これらの実験結果より，一括露光による３次元空間での結像の確認と，表面張力によるパターン崩れなどの今後の課題が抽出と，解決策の一部が検証できた．