Improvement of interface and metal crystallinity by multi-shot flash lamp annealing method
Improvement of interface and metal crystallinity by multi-shot flash lamp annealing method
批准号:
20K05334
负责人:
盧 柱亨
金额:
$2.75万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2020
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2020-04-01 至 2024-03-31
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英文摘要
将来、ウェアラブルデバイスなどの電子回路基板材として応用可能なフレキシブルフィルムの中で、LCP(Liquid Crystal Polymer)、COP(Cyclo Olefin Polymer)に加え、高機能熱可塑性樹脂であるPEEK(Poly(Ether) Ether Ketone)フィルムにも無電解銅めっきと電気銅めっきによる微細パターンを安定的に形成させることに成功し、Multi-shot FLA(Flash Lamp Annealing)の最適な条件(パルス光の照射距離、パルス幅、Multi-shotの周波数など)の範囲を見出すことができ、無電解めっき金属薄膜の強い密着性が得られる最適条件を見極めている。さらに発想を変えて、裏面からのFlash Lamp光の照射を試みたところ、表面への照射に比べて約60~80%ほどのアニーリング効果があることがわかり、Flash Lamp光を表面と裏面に同時照射することによりアニーリング効果の極大化の可能性を見出すことが出来た。しかし、両面照射の場合、サンプルを垂直方向に固定すると薄いフィルムのため、角の部分に微細なうねりが生じる可能性が高いため、多層積層には難点があると予想され、サンプル固定方法やFlash Lamp光の照射方法などの検討を見極める必要がある。さらに、銅の結晶性を改善するため、FE-SEM(Scanning Electron Microscope)による表面状態(平滑性)とEBSD (Electron Back Scatter Diffraction)によるGrain sizeの肥大化についてもより詳しく調べ・改善することにより信号の高速伝送特性向上を目指す。
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フラッシュランプアニーリング処理が銅皮膜の電気伝導性に及ぼす影響
闪光灯退火处理对铜膜导电率的影响
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
材料の化学と工学
影响因子:
--
作者:
[石井智之, 盧 柱亨, 本間英夫, 渡邊充広]
通讯作者:
渡邊充広
無電解めっきによるPEEK樹脂へのレジストレス微細パターニング
通过化学镀在 PEEK 树脂上进行无电阻精细图案化
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
電子情報通信学会論文誌 C
影响因子:
--
作者:
[信夫 勇佑, 堀内 義夫, 盧 柱亨, 本間 英夫, 荒川 太郎]
通讯作者:
荒川 太郎
Multi-Shot FLA による Flexible フィルム上の銅被膜の熱処理
使用 Multi-Shot FLA 对柔性薄膜上的铜涂层进行热处理
DOI:
--
发表时间:
2023
期刊:
影响因子:
--
作者:
[李 東宰, 朴 鍾永, 本間 英夫, 盧 柱亨]
通讯作者:
盧 柱亨
Electronic devices and surface treatment technology for Beyond 5G/6G and IoT
面向Beyond 5G/6G和IoT的电子器件和表面处理技术
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Md E. Karim, A. Rajib, Y. Nasuno, T. Ukai, S. Kurosu, M. Tokuda, Y. Fujii, T. Hanajiri, R. Ishikawa, K. Ueno, H. Shirai, 庭瀬 敬右, Joo-Hyong Noh]
通讯作者:
Joo-Hyong Noh
Beyond 5G/6G に向けた電子デバイスと表面処理技術
面向Beyond 5G/6G的电子器件及表面处理技术
DOI:
--
发表时间:
2023
期刊:
MECHANICAL SURFACE TECH
影响因子:
--
作者:
[K. Yokoyama, A. Rajib, A. Kuddus, T. Shida, K. Ueno, and H. Shirai, 盧 柱亨]
通讯作者:
盧 柱亨
共 7 条
MEE法による量子ナノ構造光変調デバイスの作製に関する研究
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批准号:12750036
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.34万
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财政年份:2000
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负责人:盧 柱亨
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依托单位:
海外基金