Global Investigation of Electrical Damage Introduced into p-GaN Films by Plasma Ion Bombardments
等离子离子轰击对 p-GaN 薄膜造成电损伤的全球调查
基本信息
- 批准号:19K04497
- 负责人:
- 金额:$ 2.83万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2019
- 资助国家:日本
- 起止时间:2019-04-01 至 2022-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(19)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Photobactericidal Activity of Anatase Titanium Dioxide Nanoparticles Annealed with the Assistance of Nonequilibrium Atmospheric-Pressure Oxygen Plasma
非平衡常压氧等离子体辅助退火锐钛矿型二氧化钛纳米粒子的光杀菌活性
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Retsuo Kawakami;Mimoto Yuki;Shirai kihiro;Yanagiya Shin-ichiro;Niibe Masahito;Nakano Yoshitaka;Takashi Mukai
- 通讯作者:Takashi Mukai
Effects of air-based nonequilibrium atmospheric pressure plasma jet treatment on characteristics of polypropylene film surfaces
- DOI:10.1016/j.apsusc.2019.144910
- 发表时间:2020-04-15
- 期刊:
- 影响因子:6.7
- 作者:Kawakami, Retsuo;Yoshitani, Yuki;Mukai, Takashi
- 通讯作者:Mukai, Takashi
高温度真空中アニール処理したb-Ga2O3(-201)単結晶の欠陥準位評価
真空高温退火b-Ga2O3(-201)单晶的缺陷等级评价
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:豊留 彬;中野 由崇
- 通讯作者:中野 由崇
Nonequilibrium Atmospheric-Pressure O2 Plasma-Assisted Annealing Effect on Photocatalytic Activity of Anatase/Rutile-Mixed Phase TiO2 Nanoparticles
非平衡大气压 O2 等离子体辅助退火对锐钛矿/金红石混合相 TiO2 纳米粒子光催化活性的影响
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Mimoto Yuki;Kawakami Retsuo;Yanagiya Shin-ichiro;Masahito Niibe;Nakano Yoshitaka;Mukai Takashi
- 通讯作者:Mukai Takashi
高温度アニール処理したSiドープb-Ga2O3(010)単結晶の電気特性評価
高温退火处理的Si掺杂b-Ga2O3(010)单晶电性能评价
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:中野 由崇;豊留 彬;鈴木 陸;安田 優綺
- 通讯作者:安田 優綺
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
Nakano Yoshitaka其他文献
Characteristics of N2 and O2 Plasma-Induced Damages on AlGaN Thin Film Surfaces
AlGaN 薄膜表面 N2 和 O2 等离子体损伤特性
- DOI:
10.1002/pssa.201700393 - 发表时间:
2017 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Kawakami Retsuo;Niibe Masahito;Nakano Yoshitaka;Tanaka Ryo;Azuma Chisato;Mukai Takashi - 通讯作者:
Mukai Takashi
LHDプラズマにおける低次磁場揺動強度のプラズマパラメータ依存性の研究
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- DOI:
- 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Kawakami Retsuo;Yoshitani Yuki;Shirai Akihiro;Yanagiya Shin-ichiro;Koide Hirofumi;Mimoto Yuki;Kajikawa Kosuke;Niibe Masahito;Nakano Yoshitaka;Azuma Chisato;Mukai Takashi;山田健聖 - 通讯作者:
山田健聖
Bulk-Related Current Collapses in Carbon-Doped AlGaN/GaN/GaN:C Hetero-Structures Grown on Si Substrates
在 Si 衬底上生长的碳掺杂 AlGaN/GaN/GaN:C 异质结构中的体相关电流崩溃
- DOI:
- 发表时间:
2017 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Chikamatsu Akihito;Nakano Yoshitaka - 通讯作者:
Nakano Yoshitaka
Electrical Investigation of Bulk-Related Current Collapses in AlGaN/GaN/GaN:C Hetero-Structures Grown on Si Substrates
在 Si 衬底上生长的 AlGaN/GaN/GaN:C 异质结构中体相关电流崩塌的电学研究
- DOI:
- 发表时间:
2017 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Nakano Yoshitaka;Chikamatsu Akihito - 通讯作者:
Chikamatsu Akihito
Generation of electrical damage in n-GaN films following treatment in a CF4 plasma
CF4 等离子体处理后 n-GaN 薄膜中产生电损伤
- DOI:
10.7567/apex.10.116201 - 发表时间:
2017 - 期刊:
- 影响因子:2.3
- 作者:
Nakano Yoshitaka;Kawakami Retsuo;Niibe Masahito - 通讯作者:
Niibe Masahito
Nakano Yoshitaka的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
相似海外基金
位相制御高周波バイアス法を利用したプラズマイオン衝撃環境の高度制御
使用相控射频偏置方法对等离子体离子轰击环境进行高级控制
- 批准号:
11750617 - 财政年份:1999
- 资助金额:
$ 2.83万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)