Systematization of Non-Charging Exposure Conditions in Electron Beam Lithography
Systematization of Non-Charging Exposure Conditions in Electron Beam Lithography
电子束光刻中非充电曝光条件的系统化
批准号：
19K04519
负责人：
KOTERA MASATOSHI
金额：
$2.75万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
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電子ビームリソグラフィにおける無帯電条件について
关于电子束光刻中的非静态条件
关于电子束光刻中的非静态条件
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[小島 健太郎, 久保 建統, 河野 由伸, 小寺 正敏, 小寺正敏]
通讯作者：
小寺正敏
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Kento Kubo, Hideya Mizuno, Kentaro Kojima and Masatoshi Kotera]
通讯作者：
Kentaro Kojima and Masatoshi Kotera
走査電子顕微鏡における散乱電子の定量的評価のための吸収電流の測定
测量吸收电流以定量评估扫描电子显微镜中的散射电子
测量吸收电流以定量评估扫描电子显微镜中的散射电子
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[森本 健太郎, 伊藤 優花, 小寺 正敏]
通讯作者：
小寺 正敏
Investigation of non-charging exposure conditions for insulating resist films in electron beam lithography
电子束光刻中绝缘抗蚀膜非充电曝光条件的研究
电子束光刻中绝缘抗蚀膜非充电曝光条件的研究
DOI：
10.35848/1347-4065/abf46a
发表时间：
2021
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
[Kubo Kento, Kojima Kentaro, Kono Yoshinobu, Kotera Masatoshi]
通讯作者：
Kotera Masatoshi
電子ビームリソグラフィにおけるレジスト無帯電の露光条件探索
寻找电子束光刻中非静电抗蚀剂的曝光条件
寻找电子束光刻中非静电抗蚀剂的曝光条件
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[小島 健太郎, 久保 建統, 河野 由伸, 小寺 正敏]
通讯作者：
小寺 正敏
共 22 条