Fabrication of high-performance and low-power-consumption graphene FETs using substrates with ultra-fine metal patterns

使用具有超精细金属图案的基板制造高性能和低功耗的石墨烯FET

• 批准号: 19K04531
• 负责人: Toshiharu Kubo
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: Nagoya Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2019
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2019-04-01 至 2022-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K04531/
• 关键词: グラフェン; FET; 金属凝集; 電子ビーム露光; グ ラ フ ェ ン 膜; 金属凝集法; 極微細金属パ タ ー ン; ア ニ ー リ ン グ; ラ マ ン 分光; グラフェン膜; 極微細金属パターン; アニーリング; ラマン分光; EBSD; 極微細金属パターン付き基板

项目成果

転写フリーグラフェンの結晶性に及ぼすNi金属触媒の結晶性の効果II

Ni金属催化剂结晶度对转移游离石墨烯II结晶度的影响

• 发表时间: 2021
• 作者: 高橋明空;芝南々子;久保俊晴;三好実人;江川孝志
• 通讯作者: 江川孝志

微細構造を有するNiパターンの凝集現象を用いたサファイア基板上転写フリーグラフェン膜の作製

利用微结构镍图案的团聚现象在蓝宝石衬底上制备转移的游离石墨烯薄膜

• 发表时间: 2021
• 作者: 高橋明空;加藤一朗;久保俊晴;三好実人;江川孝志
• 通讯作者: 江川孝志

Motoki Kobayashi, Bilguun Dorjdagva, Toshiharu Kubo, Makoto Miyoshi, and Takashi Egawa

小林元树、Bilguun Dorjdagva、久保敏晴、三好诚、江川隆

• 发表时间: 2020
• 作者: Masayuki Nakamoto;Jonghyun Moon;Kosuke Shimizu;Effect of crystal quality of Ni metal catalyst on electrical properties of transfer-free graphene FETs
• 通讯作者: Effect of crystal quality of Ni metal catalyst on electrical properties of transfer-free graphene FETs

転写フリーグラェンの結晶性に及ぼすNi金属触媒の結晶性の効果

Ni金属催化剂结晶度对转移游离晶粒结晶度的影响

• 发表时间: 2019
• 作者: 小林幹;Dorjdagva Bilguun;久保俊晴;三好実人;江川孝志
• 通讯作者: 江川孝志

触媒金属凝集法を用いて作製した転写フリー多層膜グラフェンの光応答特性の評価2

催化金属聚集法制备的无转移多层石墨烯光响应性能评价2

• 发表时间: 2019
• 作者: Dorjdagva Bilguun;小林幹;久保俊晴;三好実人;江川孝志
• 通讯作者: 江川孝志