Fabrication of periodic arrays of dislocations in topological insulators and investigation of their electronic properties
拓扑绝缘体中周期性位错阵列的制作及其电子特性的研究
基本信息
- 批准号:19K04984
- 负责人:
- 金额:$ 2.83万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2019
- 资助国家:日本
- 起止时间:2019-04-01 至 2022-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(19)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
High-Density Well-Aligned Dislocations Introduced by Plastic Deformation in Bi1-xSbx Topological Insulator Single Crystals
Bi1-xSbx 拓扑绝缘体单晶中塑性变形引入的高密度对齐位错
- DOI:10.3390/cryst9060317
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:2.7
- 作者:Tokumoto Yuki;Fujiwara Riku;Edagawa Keiichi
- 通讯作者:Edagawa Keiichi
Pb(Bi,Sb)2Te4トポロジカル絶縁体における準粒子干渉
Pb(Bi,Sb)2Te4 拓扑绝缘体中的准粒子干涉
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:服部裕也;徳本有紀、鷺坂恵介、枝川圭一
- 通讯作者:徳本有紀、鷺坂恵介、枝川圭一
Conductive and Non-conductive Dislocations in Bi-Sb Topological Insulators
- DOI:10.7566/jpsj.89.023703
- 发表时间:2020-02-15
- 期刊:
- 影响因子:1.7
- 作者:Hamasaki, Hiromu;Tokumoto, Yuki;Edagawa, Keiichi
- 通讯作者:Edagawa, Keiichi
Electrical conduction along dislocations in topological insulators
拓扑绝缘体中沿位错的导电
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Y. Tokumoto;H. Hamasaki;and K. Edagawa
- 通讯作者:and K. Edagawa
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- 影响因子:0
- 作者:
Tokumoto Yuki;Fujiwara Riku;Edagawa Keiichi;MATSUSHITA Masafumi - 通讯作者:
MATSUSHITA Masafumi
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