Fabrication of periodic arrays of dislocations in topological insulators and investigation of their electronic properties
Fabrication of periodic arrays of dislocations in topological insulators and investigation of their electronic properties
拓扑绝缘体中周期性位错阵列的制作及其电子特性的研究
批准号：
19K04984
负责人：
Tokumoto Yuki
金额：
$2.83万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
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High-Density Well-Aligned Dislocations Introduced by Plastic Deformation in Bi1-xSbx Topological Insulator Single Crystals
Bi1-xSbx 拓扑绝缘体单晶中塑性变形引入的高密度对齐位错
Bi1-xSbx 拓扑绝缘体单晶中塑性变形引入的高密度对齐位错
DOI：
10.3390/cryst9060317
发表时间：
2019
期刊：
Crystals
影响因子：
2.7
作者：
[Tokumoto Yuki, Fujiwara Riku, Edagawa Keiichi]
通讯作者：
Edagawa Keiichi
Pb(Bi,Sb)2Te4トポロジカル絶縁体における準粒子干渉
Pb(Bi,Sb)2Te4 拓扑绝缘体中的准粒子干涉
Pb(Bi,Sb)2Te4 拓扑绝缘体中的准粒子干涉
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[服部裕也, 徳本有紀、鷺坂恵介、枝川圭一]
通讯作者：
徳本有紀、鷺坂恵介、枝川圭一
DOI：
10.7566/jpsj.89.023703
发表时间：
2020-02-15
期刊：
JOURNAL OF THE PHYSICAL SOCIETY OF JAPAN
影响因子：
1.7
作者：
[Hamasaki, Hiromu, Tokumoto, Yuki, Edagawa, Keiichi]
通讯作者：
Edagawa, Keiichi
東京大学 生産技術研究所 徳本研究室
东京大学产业科学研究所德本实验室
东京大学产业科学研究所德本实验室
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
Helical spin texture of Bi doped PbSb2Te4 topological insulator
Bi掺杂PbSb2Te4拓扑绝缘体的螺旋自旋织构
Bi掺杂PbSb2Te4拓扑绝缘体的螺旋自旋织构
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yuya Hattori, Yuki Tokumoto, Keisuke Sagisaka, Keiichi Edagawa]
通讯作者：
Keiichi Edagawa
共 18 条
Measurements of mechanical properties of group III-nitride films by in situ transmission electron microscope nanoindentation
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批准号：25820320
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项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额：$2.75万
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财政年份：2013
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负责人：Tokumoto Yuki
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依托单位：
海外基金