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Measurements of mechanical properties of group III-nitride films by in situ transmission electron microscope nanoindentation

Measurements of mechanical properties of group III-nitride films by in situ transmission electron microscope nanoindentation
原位透射电子显微镜纳米压痕测量III族氮化物薄膜的机械性能
批准号：
25820320
负责人：
Tokumoto Yuki
金额：
$2.75万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2013-04-01 至 2016-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25820320/
关键词：
転位窒化物半導体薄膜超微小硬さ試験ひずみ

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会议论文
Correlation between crystal quality and mechanical properties of InN
InN晶体质量与机械性能的相关性
DOI： --
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [M. Deura, Y. Ohkubo, Y. Tokumoto, K. Kutsukake, Y. Ohno and I. Yonenaga]
通讯作者： Y. Ohno and I. Yonenaga
Elastic properties of indium nitrides grown on sapphire substrates determined by nano-indentation: In comparison with other nitrides
DOI： 10.1063/1.4926966
发表时间： 2015-07
期刊： AIP Advances
影响因子： 1.6
作者： [I. Yonenaga;Y. Ohkubo;M. Deura;K. Kutsukake;Y. Tokumoto;Y. Ohno;A. Yoshikawa;Xinqiang Wang]
通讯作者： I. Yonenaga;Y. Ohkubo;M. Deura;K. Kutsukake;Y. Tokumoto;Y. Ohno;A. Yoshikawa;Xinqiang Wang
In situ observation of dislocation dynamics in AlN films
AlN 薄膜位错动力学的原位观察
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： [Y. Tokumoto, K. Kutsukake, Y. Ohno and I. Yonenaga]
通讯作者： Y. Ohno and I. Yonenaga
AlN薄膜への転位導入と伝搬挙動の観察
将位错引入 AlN 薄膜并观察传播行为
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： [徳本有紀, 沓掛 健太朗, 大野裕, 米永一郎]
通讯作者： 米永一郎
共 8 条
    Fabrication of periodic arrays of dislocations in topological insulators and investigation of their electronic properties
    • 批准号：
      19K04984
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.83万
    • 财政年份：
      2019
    • 负责人：
      Tokumoto Yuki
    • 依托单位：
      The University of Tokyo
    海外基金