Dynamics measurement of interfacial reaction at Au thin film/Si substrates by using ambient controlled x-ray photoemission spectroscopy

使用环境控制的 X 射线光电子能谱动态测量金薄膜/硅衬底的界面反应

• 批准号: 19K05269
• 负责人: Toyoda Satoshi
• 金额: $ 2.83万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2019
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2019-04-01 至 2022-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K05269/
• 关键词: シリコン半導体; 金薄膜; 表面・界面反応; 光電子分光; 深さ方向解析; 最大エントロピー法; 正則化法; オペランド計測; Au薄膜/Si基板界面; 反応動態計測技術; 雰囲気制御X線光電子分光; 深さ方向分布時系列解析; データサイエンス応用

项目成果

時空間分割X線光電子分光による界面反応場の計測解析技術開発

时空分裂X射线光电子能谱测量与分析界面反应场技术的发展

• 发表时间: 2021
• 作者: TOYODA Satoshi;YAMAMOTO Tomoki;YOSHIMURA Masashi;SUMIDA Hirosuke;MINEOI Susumu;MACHIDA Masatake;YOSHIGOE Akitaka;SUZUKI Satoru;YOKOYAMA Kazushi;OHASHI Yuji;KUROSAWA Shunsuke;KAMADA Kei;SATO Hiroki;YAMAJI Akihiro;YOSHINO Masao;HANADA Takashi;YOKOTA Yuui;YO;豊田 智史
• 通讯作者: 豊田 智史

XPS計測のデジタル化による埋もれた積層薄膜界面の時空間データ解析

通过数字化 XPS 测量对掩埋层压薄膜界面进行时空数据分析

• 发表时间: 2021
• 作者: 豊田 智史;吉村 真史;住田 弘祐;三根生 晋;町田 雅武;吉越 章隆;吉川 彰 ;鈴木 哲;横山 和司
• 通讯作者: 横山 和司

NAP-HARPESとMEMの有機的な融合による多層積層膜に埋もれた界面の深さ方向分布動態計測

利用 NAP-HARPES 和 MEM 有机融合测量多层膜中埋入界面的深度分布动态

• 发表时间: 2019
• 作者: 豊田 智史;山本 知樹;吉村 真史;住田 弘祐;三根生 晋;町田 雅武; 吉越 章隆;吉川 彰;鈴木 哲;横山 和司
• 通讯作者: 横山 和司

雰囲気制御軟X線光電子分光によるAu薄膜/Si基板界面反応の動的観察

利用气氛控制软X射线光电子能谱动态观察Au薄膜/Si衬底界面反应

• 发表时间: 2019
• 作者: 豊田 智史;山本 知樹;西 静佳;下出 直幸;吉村 真史;住田 弘祐;三根生 晋; 町田 雅武;鈴木 哲;横山 和司;吉川 彰;富永 亜希;吉越 章隆
• 通讯作者: 吉越 章隆

Time series analysis of depth profiles in multi-layered stack-film interfaces studied by near-ambient-pressure hard x-ray angle-resolved photoemission spectroscopy

通过近环境压力硬 X 射线角分辨光电子能谱研究的多层堆叠膜界面深度剖面的时间序列分析

• 发表时间: 2019
• 作者: Satoshi Toyoda;Tomoki Yamamoto;Masashi Yoshimura;Hirosuke Sumida;Susumu Mineoi;Masatake Machida;Akitaka Yoshigoe;Akira Yoshikawa;Satoru Suzuki;Kazushi Yokoyama
• 通讯作者: Kazushi Yokoyama