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Fabrication of infrared devices via anisotropical Si etching in KOH solution

Fabrication of infrared devices via anisotropical Si etching in KOH solution
通过 KOH 溶液中各向异性硅蚀刻制造红外器件
批准号:
19K05315
负责人:
Yamada Itsunari
金额:
$2.83万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2019
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2019-04-01 至 2023-03-31

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DOI: 10.1080/09500340.2021.1936245
发表时间: 2021-06
期刊: Journal of Modern Optics
影响因子: 1.3
作者: [I. Yamada]
通讯作者: I. Yamada
ゾル-ゲル法を用いて成膜したジルコニア薄膜の赤外評価
溶胶-凝胶法形成的氧化锆薄膜的红外评价
DOI: --
发表时间: 2021
期刊:
影响因子: --
作者: [村松泰雅, 鳥居大希, 山田逸成]
通讯作者: 山田逸成
DOI: 10.1364/ao.392883
发表时间: 2020-06
期刊: Applied Optics
影响因子: 1.9
作者: [I. Yamada;R. Yoshida]
通讯作者: I. Yamada;R. Yoshida
DOI: 10.1364/ao.459721
发表时间: 2022
期刊: Appl. Opt.
影响因子: --
作者: [Koichiro Takao, Juliane Maerz, Moe Matsuoka, Takanori Mashita, Hiroyuki Kazama, Satoru Tsushima, Satoru Tsushima, I. Yamada]
通讯作者: I. Yamada
13
    Fabrication and evaluation of infrared element by low-temperature imprint processing with sol-gel method
    • 批准号:
      15K04698
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $3.24万
    • 财政年份:
      2015
    • 负责人:
      Yamada Itsunari
    • 依托单位: