Fabrication of infrared devices via anisotropical Si etching in KOH solution
Fabrication of infrared devices via anisotropical Si etching in KOH solution
批准号:
19K05315
负责人:
Yamada Itsunari
金额:
$2.83万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2019
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2019-04-01 至 2023-03-31
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DOI:
10.1080/09500340.2021.1936245
发表时间:
2021-06
期刊:
Journal of Modern Optics
影响因子:
1.3
作者:
[I. Yamada]
通讯作者:
I. Yamada
ゾル-ゲル法を用いて成膜したジルコニア薄膜の赤外評価
溶胶-凝胶法形成的氧化锆薄膜的红外评价
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[村松泰雅, 鳥居大希, 山田逸成]
通讯作者:
山田逸成
DOI:
10.1364/ao.392883
发表时间:
2020-06
期刊:
Applied Optics
影响因子:
1.9
作者:
[I. Yamada;R. Yoshida]
通讯作者:
I. Yamada;R. Yoshida
Fabrication of reflective polarization wavelength filter via anodization of Ti grating film
Ti光栅膜阳极氧化制备反射偏振波长滤波器
DOI:
10.1364/ao.459721
发表时间:
2022
期刊:
Appl. Opt.
影响因子:
--
作者:
[Koichiro Takao, Juliane Maerz, Moe Matsuoka, Takanori Mashita, Hiroyuki Kazama, Satoru Tsushima, Satoru Tsushima, I. Yamada]
通讯作者:
I. Yamada
Silicone grating fabricated using photoresist mold
使用光刻胶模具制作的硅胶光栅
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[村松泰雅, 鳥居大希, 山田逸成, 西川剛,山田逸成, I. Yamada and Y. Ikeda]
通讯作者:
I. Yamada and Y. Ikeda
共 13 条
Fabrication and evaluation of infrared element by low-temperature imprint processing with sol-gel method
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批准号:15K04698
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$3.24万
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财政年份:2015
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负责人:Yamada Itsunari
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依托单位: