Fabrication of infrared devices via anisotropical Si etching in KOH solution

通过 KOH 溶液中各向异性硅蚀刻制造红外器件

基本信息

  • 批准号:
    19K05315
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2023-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(13)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Fabrication of polarization colour filter device via direct Au film imprinting
  • DOI:
    10.1080/09500340.2021.1936245
  • 发表时间:
    2021-06
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.3
  • 作者:
    I. Yamada
  • 通讯作者:
    I. Yamada
ゾル-ゲル法を用いて成膜したジルコニア薄膜の赤外評価
溶胶-凝胶法形成的氧化锆薄膜的红外评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    村松泰雅;鳥居大希;山田逸成
  • 通讯作者:
    山田逸成
Fabrication of an infrared wire-grid polarizer via anisotropical Si etching in KOH solution
  • DOI:
    10.1364/ao.392883
  • 发表时间:
    2020-06
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.9
  • 作者:
    I. Yamada;R. Yoshida
  • 通讯作者:
    I. Yamada;R. Yoshida
Fabrication of reflective polarization wavelength filter via anodization of Ti grating film
Ti光栅膜阳极氧化制备反射偏振波长滤波器
  • DOI:
    10.1364/ao.459721
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Koichiro Takao;Juliane Maerz;Moe Matsuoka;Takanori Mashita;Hiroyuki Kazama;Satoru Tsushima;Satoru Tsushima;I. Yamada
  • 通讯作者:
    I. Yamada
Silicone grating fabricated using photoresist mold
使用光刻胶模具制作的硅胶光栅
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    村松泰雅;鳥居大希;山田逸成;西川剛,山田逸成;I. Yamada and Y. Ikeda
  • 通讯作者:
    I. Yamada and Y. Ikeda
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Fabrication and evaluation of infrared element by low-temperature imprint processing with sol-gel method
溶胶-凝胶法低温压印红外元件的制备与评价
  • 批准号:
    15K04698
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 2.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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