Spatial Distribution Analysis of Photo Resist Using Resonant Soft X-ray Reflectmetry and Scattering methods

使用共振软 X 射线反射测量和散射方法分析光刻胶的空间分布

• 批准号: 19K12644
• 负责人: Harada Tetsuo
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: University of Hyogo
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2019
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2019-04-01 至 2022-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K12644/
• 关键词: フォトレジスト; 軟Ｘ線共鳴散乱; 軟Ｘ線共鳴反射率; EUVリソグラフィー; 軟Ｘ線; 共鳴軟Ｘ線散乱; 共鳴軟Ｘ線反射率; 軟Ｘ線CMOSカメラ

项目成果

Removal of Surface Contamination by Atomic Hydrogen Annealing

通过原子氢退火去除表面污染

• DOI: 10.2494/photopolymer.33.419
• 发表时间: 2020
• 期刊: Journal of Photopolymer Science and Technology
• 影响因子: 0.8
• 作者: Heya Akira;Harada Tetsuo;Niibe Masahito;Sumitomo Koji;Watanabe Takeo
• 通讯作者: Watanabe Takeo

軟Ｘ線共鳴散乱・反射率法による有機材料の構造解析

使用软 X 射线共振散射/反射法分析有机材料的结构

• 发表时间: 2020
• 作者: 原田哲男;山川進二;渡邊健夫
• 通讯作者: 渡邊健夫

Fundamental research activities on EUV lithography at NewSUBARU synchrotron light facility

NewSUBARU 同步加速器光设施的 EUV 光刻基础研究活动

• DOI: 10.1117/12.2600896
• 发表时间: 2021
• 期刊: SPIE Proc.
• 作者: Watanabe Takeo;Harada T.;Yamakawa S.
• 通讯作者: Yamakawa S.

Resonant Soft X-ray Reflectivity for the Chemical Analysis in Thickness Direction of EUV Resist

用于 EUV 光刻胶厚度方向化学分析的共振软 X 射线反射率

• DOI: 10.2494/photopolymer.32.333
• 发表时间: 2019
• 期刊: Journal of Photopolymer Science and Technology
• 影响因子: 0.8
• 作者: Ishiguro Takuma;Tanaka Jun;Harada Tetsuo;Watanabe Takeo
• 通讯作者: Watanabe Takeo

Fundamental Evaluation of Resist on EUV Lithography at NewSUBARU Synchrotron Light Facility

NewSUBARU 同步加速器光源设施 EUV 光刻抗蚀剂的基本评估

• DOI: 10.2494/photopolymer.34.49
• 发表时间: 2021
• 期刊: Journal of Photopolymer Science and Technology
• 影响因子: 0.8
• 作者: Watanabe Takeo;Harada Tetsuo;Yamakawa Shinji
• 通讯作者: Yamakawa Shinji