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Spatial Distribution Analysis of Photo Resist Using Resonant Soft X-ray Reflectmetry and Scattering methods

Spatial Distribution Analysis of Photo Resist Using Resonant Soft X-ray Reflectmetry and Scattering methods
使用共振软 X 射线反射测量和散射方法分析光刻胶的空间分布
批准号：
19K12644
负责人：
Harada Tetsuo
金额：
$2.75万
依托单位：
University of Hyogo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K12644/
关键词：
フォトレジスト軟Ｘ線共鳴散乱軟Ｘ線共鳴反射率EUVリソグラフィー軟Ｘ線共鳴軟Ｘ線散乱共鳴軟Ｘ線反射率軟Ｘ線CMOSカメラ

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Removal of Surface Contamination by Atomic Hydrogen Annealing
通过原子氢退火去除表面污染
DOI： 10.2494/photopolymer.33.419
发表时间： 2020
期刊： Journal of Photopolymer Science and Technology
影响因子： 0.8
作者： [Heya Akira, Harada Tetsuo, Niibe Masahito, Sumitomo Koji, Watanabe Takeo]
通讯作者： Watanabe Takeo
軟Ｘ線共鳴散乱・反射率法による有機材料の構造解析
使用软 X 射线共振散射/反射法分析有机材料的结构
DOI： --
发表时间： 2020
期刊：
影响因子： --
作者： [原田哲男, 山川進二, 渡邊健夫]
通讯作者： 渡邊健夫
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DOI： 10.1117/12.2600896
发表时间： 2021
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影响因子： --
作者： [Watanabe Takeo, Harada T., Yamakawa S.]
通讯作者： Yamakawa S.
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用于 EUV 光刻胶厚度方向化学分析的共振软 X 射线反射率
DOI： 10.2494/photopolymer.32.333
发表时间： 2019
期刊： Journal of Photopolymer Science and Technology
影响因子： 0.8
作者： [Ishiguro Takuma, Tanaka Jun, Harada Tetsuo, Watanabe Takeo]
通讯作者： Watanabe Takeo
共 12 条
    Linguistic skills of children in a Japanese-English two-way immersion program: Implications for English language teaching in elementary school
    • 批准号：
      16K02982
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.83万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      Harada Tetsuo
    • 依托单位：
      Waseda University