Cuprous complex and via filling electrodeposition
亚铜络合物和通孔填充电沉积
基本信息
- 批准号:18K04731
- 负责人:
- 金额:$ 2.5万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2018
- 资助国家:日本
- 起止时间:2018-04-01 至 2021-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(23)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Reduction of TSV thermal stress by low TCE electrolyte
通过低 TCE 电解质减少 TSV 热应力
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Dinh Van Quy;近藤和夫;平藤哲司
- 通讯作者:平藤哲司
A Rotating Ring Disk Study of Accelerators with Cl<sup>-</sup> and Br<sup>-</sup> for Copper Damascene Electrodeposition
铜镶嵌电沉积Cl<sup>-</sup>和Br<sup>-</sup>加速器旋转环盘研究
- DOI:10.4139/sfj.69.352
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Anh Van Nhat Tran;Ha Van Hoang,Tetsuji Hirato and Kazuo Kondo
- 通讯作者:Ha Van Hoang,Tetsuji Hirato and Kazuo Kondo
低線膨張銅めっきが解消する熱応力
通过低线性膨胀镀铜解决热应力
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Xinzhe Jin;Yasuteru Mawatari;Toshihiro Kuzuya;Yusuke Amakai;Yoshinori Tayu;Naoki Momono;and Shinji Hirai;近藤和夫
- 通讯作者:近藤和夫
A Rotating Ring-Disk Study to Monitor the Concentration of 2M5S in Copper Low TEC Electrolyte
监测低 TEC 铜电解液中 2M5S 浓度的旋转环盘研究
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:3.9
- 作者:Anh Van Nhat TRAN;Tetsuji HIRATO;Kazuo KONDO
- 通讯作者:Kazuo KONDO
High TEC Copper to Connect Copper Bond Pads for Low Temperature Wafer Bonding
高 TEC 铜连接用于低温晶圆键合的铜键合焊盘
- DOI:10.1149/2162-8777/abd14a
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:2.2
- 作者:Anh Van Nhat TRAN;Tetsuji HIRATO;Kazuo KONDO
- 通讯作者:Kazuo KONDO
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- 影响因子:0
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- 影响因子:0
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- DOI:
- 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Niki Hanako;Kishimoto Yoshimi;Ibe Susumu;Saita Emi;Sasaki Kenji;Miura Kotaro;Ikegami Yukinori;Ohmori Reiko;Kondo Kazuo;Momiyama Yukihiko;石川 誠,池田 恭浩 - 通讯作者:
石川 誠,池田 恭浩
Regulation of pancreatic β cell mass from the interacion of gene-environmental factors
基因-环境因素相互作用对胰腺β细胞量的调节
- DOI:
- 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Taguchi Chie;Kishimoto Yoshimi;Kondo Kazuo;Tohyama Kazushige;Goda Toshinao;Kido Y - 通讯作者:
Kido Y
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2021 - 期刊:
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松山雅子
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