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Kohärente Röntgenstreuung an individuellen SiGe/Si Nanostrukturen

Kohärente Röntgenstreuung an individuellen SiGe/Si Nanostrukturen
单个 SiGe/Si 纳米结构的相干 X 射线散射
批准号:
35840079
负责人:
Privatdozent Dr. Michael Hanke
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
2007
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2006-12-31 至 2009-12-31

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Nanostrukturphysik fokussiert sich zunehmend auf die Erzeugung, Manipulation und Charakterisierung individueller nanoskaliger Objekte. Das vorliegende Projekt widmet sich in diesem Kontext mit Hilfe des Modellsystems SiGe/Si einem hochinteressanten Teilaspekt: der detaillierten Charakterisierung dreidimensionaler Deformationsfelder innerhalb und in der Umgebung einzelner Inselstrukturen und zielt somit auf ein tieferes Verständnis der zugrunde liegenden Wachstumsmechanismen. Zum einen lässt sich das Deformationsfeld mittels Planwellentopographie quasi direkt abbilden, zum anderen ermöglichen seit kurzem verfügbare, bis auf wenige 100 nm Spotgröße fokussierbare Synchrotronstrahlungsquellen die Untersuchung individueller nano-skaliger Objekte auch mittels hochaufgelöster diffuser Röntgenstreuung, einer Methode die bislang nur Inselensemblen vorbehalten war. Allerdings erlauben beide Verfahren keine direkte Rückrechnung und liefern Ergebnisse im Ortsraum nur im Rahmen numerischer Streusimulationen, für die der Takagi-Taupin Formalismus bzw. ein von uns entwickelter kinematische Streuansatz zum Einsatz kommen.
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