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Development of high-accuracy measurement technique for micro/nano-scale strain and residual strain distributions of semiconductor devices

Development of high-accuracy measurement technique for micro/nano-scale strain and residual strain distributions of semiconductor devices
半导体器件微纳尺度应变及残余应变分布高精度测量技术开发
批准号：
18K13665
负责人：
Wang Qinghua
金额：
$2.66万
依托单位：
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-04-01 至 2020-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-18K13665/
关键词：
ひずみ計測変形分布光学技術モアレ法画像処理結晶欠陥残留応力微小ひずみ残留ひずみ熱変形半導体全視野計測位相解析非破壊評価熱変形分布半導体評価非破壊測定

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通讯作者： Kemao Qian
共 22 条
    Development of 3D micro-deformation distribution measurement technique using optical methods
    Development of high-accuracy and large-view-field deformation measurement technique to investigate micro-nano-scale deformation distributions around interfaces
    海外基金