表面液相外延制备硅纳米结构的研究-猫眼课题宝

表面液相外延制备硅纳米结构的研究

批准号：

18K14129

负责人：

Nishimura Takashi

金额：

$2.66万

依托单位：

Suzuka National College of Technology

依托单位国家：

日本

项目类别：

Grant-in-Aid for Early-Career Scientists

财政年份：

2018

资助国家：

日本

项目状态：

已结题

起止时间：

2018-04-01 至 2020-03-31

来源：

https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-18K14129/

关键词：

表面融液エピタキシャル結晶成長シリサイド微小結晶表面結晶アレイ表面融液液相エピタキシャル結晶成長シリコン準溶融状態液相エピタキシャル成長鉄シリサイド半導体微細加工法溶融凝固エレクトロマイグレーション表面微細パターニング

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会议论文

Microanalysis of silicon protrusions with a titanium cap formed via surface melting and solidification under applied tensile stress

在施加拉应力下通过表面熔化和凝固形成的带有钛帽的硅突出物的微观分析

DOI： 10.7567/1347-4065/aaf46c

发表时间： 2019

期刊：

Japanese Journal of Applied Physics

影响因子： 1.5

作者：

[Akihiro Yamaji, Shinnosuke Yamato, Shunsuke Kurosawa, Masao Yoshino, Satoshi Toyoda, Kei Kamada, Yuui Yokota, Hiroki Sato, Yuji Ohashi and Akira Yoshikawa, Takashi Nishimura1 and Masahiko Tomitori]

通讯作者： Takashi Nishimura1 and Masahiko Tomitori

Formation of Silicon Protrusions via Surface Melting and Solidification Under Applied Tensile Stress

在施加拉应力下通过表面熔化和凝固形成硅突起

DOI： --

发表时间： 2018

期刊：

ANNUAL REPORT OF THE MURATA SCIENCE FOUNDATION

影响因子： --

作者：

[斉藤大志, 柏木行康, 玉井聡行, T.Nishimura]

通讯作者： T.Nishimura

応力印加場での局所表面融液エピタキシャル結晶成長による突起構造形成過程の熱画像解析

应力场下局部表面熔融外延晶体生长突起结构形成过程的热像分析

DOI： --

发表时间： 2020

期刊：

影响因子： --

作者：

[Yamato Shinnosuke, Yamaji Akihiro, Kurosawa Shunsuke, Yoshino Masao, Ohashi Yuji, Kamada Kei, Yokota Yuui, Yoshikawa Akira, Daniel M. Packwood, 西村高志,磯部文哉,富取正彦]

通讯作者：西村高志,磯部文哉,富取正彦

局所応力印加下での金属蒸着表面液相エピタキシャル成長による突起構造形成

局部应力施加下金属蒸发表面液相外延生长形成突起结构

DOI： --

发表时间： 2019

期刊：

影响因子： --

作者：

[西村高志, 富取正彦]

通讯作者：富取正彦

局所応力印加下での表面液相エピタキシャル成長で形成した表面突起構造の断面構造解析

局部应力作用下表面液相外延生长形成的表面突起结构截面结构分析