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Establishment of Principles for Machine-Learning Assisted Analysis of Plasma Surface Reactions
等离子体表面反应机器学习辅助分析原理的建立
基本信息
- 批准号：18K18753
- 负责人：
- 金额：$ 3.99万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
- 财政年份：2018
- 资助国家：日本
- 起止时间：2018-06-29 至 2020-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（45）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Molecular dynamic simulation of F-based reactive ion etching of Si, SiO2 and Si3N4 substrates
Si、SiO2和Si3N4基片的F基反应离子刻蚀的分子动力学模拟
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Erin Joy Capdos Tinacba;Michiro Isobe;Kazuhiro Karahashi;and Satoshi Hamaguchi
- 通讯作者：and Satoshi Hamaguchi
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Hamaguchi Satoshi其他文献
Five-step plasma-enhanced atomic layer etching of silicon nitride with a stable etched amount per cycle
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- 作者：
Mauchamp Nicolas A.;Hamaguchi Satoshi - 通讯作者：
Hamaguchi Satoshi
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{{ truncateString('Hamaguchi Satoshi', 18)}}的其他基金
Quantum Theoretical Analyses of Plasma Processing for Novel and Diverse Materials Using Multi-Scale Numerical Simulations
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- 批准号：
24K15183 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 3.99万 - 项目类别：
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- 批准号：
24K15230 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 3.99万 - 项目类别：
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- 批准号：
24K15072 - 财政年份：2024
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开发和可视化用于人口健康管理的检索增强深度学习模型
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2905946 - 财政年份：2024
- 资助金额：
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利用自然语言处理和深度学习驾驭化学空间
- 批准号：
EP/Y004167/1 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 3.99万 - 项目类别：
Research Grant