Establishment of Principles for Machine-Learning Assisted Analysis of Plasma Surface Reactions
Establishment of Principles for Machine-Learning Assisted Analysis of Plasma Surface Reactions
等离子体表面反应机器学习辅助分析原理的建立
批准号：
18K18753
负责人：
Hamaguchi Satoshi
金额：
$3.99万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-06-29 至 2020-03-31
中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(45)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
Molecular dynamic simulation of F-based reactive ion etching of Si, SiO2 and Si3N4 substrates
Si、SiO2和Si3N4基片的F基反应离子刻蚀的分子动力学模拟
Si、SiO2和Si3N4基片的F基反应离子刻蚀的分子动力学模拟
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Erin Joy Capdos Tinacba, Michiro Isobe, Kazuhiro Karahashi, and Satoshi Hamaguchi]
通讯作者：
and Satoshi Hamaguchi
IRHAPS, Osaka University
大阪大学IRHAPS
大阪大学IRHAPS
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
Hamaguchi Labotatory
滨口实验室
滨口实验室
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
ボローニャ大学/バリ大学(イタリア)
博洛尼亚大学/巴里大学（意大利）
博洛尼亚大学/巴里大学（意大利）
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
ルールボーフム大学/カールスルーエ工科大(ドイツ)
鲁尔博鸿大学/卡尔斯鲁厄工业大学（德国）
鲁尔博鸿大学/卡尔斯鲁厄工业大学（德国）
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
共 48 条
Quantum Theoretical Analyses of Plasma Processing for Novel and Diverse Materials Using Multi-Scale Numerical Simulations
-
批准号：15H05736
-
项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
-
资助金额：$97.26万
-
财政年份：2015
-
负责人：Hamaguchi Satoshi
-
依托单位：
Analysis of Cell Response Mechanisms for Plasma Irradiation by Metabolic Model Simulation
-
批准号：15K13608
-
项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
-
资助金额：$2.5万
-
财政年份：2015
-
负责人：Hamaguchi Satoshi
-
依托单位：
海外基金