Quantum Theoretical Analyses of Plasma Processing for Novel and Diverse Materials Using Multi-Scale Numerical Simulations
Quantum Theoretical Analyses of Plasma Processing for Novel and Diverse Materials Using Multi-Scale Numerical Simulations
批准号:
15H05736
负责人:
Hamaguchi Satoshi
金额:
$97.26万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-05-29 至 2020-03-31
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ハンガリー科学アカデミー(ハンガリー)
匈牙利科学院(匈牙利)
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
浜口研究室HP
滨口实验室HP
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Enhanced SiN Etching by Hydrogen Radicals during Fluorocarbon/Hydrogen Plasma Etching; Molecular Dynamics Simulation Analyses
氟碳/氢等离子体蚀刻期间氢自由基增强 SiN 蚀刻;
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Keizo Ito, Nao Takahashi, Kaoru Hattori, Yoko Goto, TakuyaNakanowatari, Kay I. Ohshima, Takanori Horimoto, Yoshinori Ikenaka, Shouta M. Nakayama, Hazuki Mizukawa, Mayumi Ishizuka, Kazushi Miyashita, Yoko Mitani, Yuichi Muarakami]
通讯作者:
Yuichi Muarakami
Analyses of surface reactions and damage formation in plasma etching processes: a study based on beam experiments and molecular dynamics simulation
等离子刻蚀过程中表面反应和损伤形成的分析:基于束流实验和分子动力学模拟的研究
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Suzuki, T. Horinouchi and C. Furusawa, 浜口智志]
通讯作者:
浜口智志
一酸化炭素プラズマからのイオン照射によるニッケルスパッタリングの解析
一氧化碳等离子体离子辐照镍溅射分析
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Kubo Tetsuro, Tou Hideki, Kotegawa Hisashi, Harima Hisatomo, Higashinaka Ryuji, Nakama Akihiro, Aoki Yuji, Sato Hideyuki, 伊山修, 熊本顕人]
通讯作者:
熊本顕人
共 189 条
Establishment of Principles for Machine-Learning Assisted Analysis of Plasma Surface Reactions
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批准号:18K18753
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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资助金额:$3.99万
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财政年份:2018
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负责人:Hamaguchi Satoshi
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依托单位:
Analysis of Cell Response Mechanisms for Plasma Irradiation by Metabolic Model Simulation
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批准号:15K13608
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.5万
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财政年份:2015
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负责人:Hamaguchi Satoshi
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依托单位:
海外基金