Development of in situ Real Space Obserbation Method of Spin Transport

自旋输运原位真实空间观测方法的发展

基本信息

  • 批准号:
    18K19014
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.91万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
  • 财政年份:
    2018
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2018-06-29 至 2024-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

スピン圧とは、上向き電子の化学ポテンシャルと下向き電子の化学ポテンシャルの差のことを言うが、本研究はスピン圧を「局所的」かつ「電気的」に簡便に測定できる、メカニカルなプローブを開発することを目的としている。そのためにはスピン圧と電圧を変換するための機構をプローブ先端の微細なスペースに作りこむことが必要であるが、その原理に磁性体・非磁性体界面のスピン圧生成メカニズムを利用することを考えており、その構造や材質の選定が研究の要となっている。微細加工施設の使用可能時間が限られており、開発は遅れていたが、課題期間の延長により、プローブの経年変化を検討することができた。プローブにはスピン圧を測定するための異種金属接触が存在し、湿度と酸素濃度に敏感に反応するが、劣化の程度はプロセス各工程での洗浄プロセスの差によることがわかった。また、スピンの計測・注入効率がプローブ間で大きく異なる問題が従来から存在し、プローブ実用への大きな妨げとなっていたが、これはプローブ先端の実効的な接触面積によるもので、表面に保護層を用いることで改善が期待できることが判明した。保護層は、酸化されず、スピン拡散に優れ、キャリアが多く、摩耗の少ない物質である必要がある。炭素原子からなる層状物質であるグラフェンはスピンの拡散に優れ、安定した物質で摩耗に強い。特にスピン拡散長は通常の金属よりも10倍~100倍程度長く、スピン圧測定の配線として用いることで大幅な能力の向上が期待できる。このグラフェンを用いることができないか、プロセス設計を始めている。
To き ス ピ ン 圧 と は, electronic の chemical ポ テ ン シ ャ ル と next to き electronic の chemical ポ テ ン シ ャ ル の poor の こ と を said う が, this study は ス ピ ン 圧 を "bureau" か つ 気 "electricity" easy に に determination で き る, メ カ ニ カ ル な プ ロ ー ブ を open 発 す る こ と を purpose と し て い る. そ の た め に は ス ピ ン 圧 と electric 圧 を variations in す る た め の institutions を プ ロ ー ブ apex の imperceptible な ス ペ ー ス に as り こ む こ と が necessary で あ る が, そ の principle に magnetic body, non-magnetic body interface の ス ピ ン 圧 generated メ カ ニ ズ ム を using す る こ と を exam え て お り, そ の structure や materials の が study selected の to と な っ て い る. Micro machining facilities の が use may time limit ら れ て お り, open 発 は 遅 れ て い た が, subject during the extended の に よ り, プ ロ ー ブ の 経 years - the を beg す 検 る こ と が で き た. プ ロ ー ブ に は ス ピ ン 圧 を determination す る た め の dissimilar metal contact が し, humidity と acid sensitive element concentration に に 応 す る が, degradation is の は プ ロ セ ス each engineering で の プ at ロ セ ス の poor に よ る こ と が わ か っ た. ま た, ス ピ ン の metering, injection rate of unseen が プ ロ ー ブ で between big き く different な る problem が 従 to か ら し, プ ロ ー ブ be used へ の big き な hinder げ と な っ て い た が, こ れ は プ ロ ー ブ apex の be な sharper contact area に よ る も の で, surface protective layer に を い る こ と で improve が expect で き る こ と が.at し た. Protective layer は, acidification さ れ ず, ス ピ ン company, scattered に れ, キ ャ リ ア が く more, less friction consumption の な い material で あ る necessary が あ る. Carbon atoms か ら な る layered material で あ る グ ラ フ ェ ン は ス ピ ン の company, scattered に optimal れ, stable し た material で に strong い consumption. Special に ス ピ ン metal company, taking long は usually の よ り も long く 10 times and 100 times, ス ピ ン 圧 determination の wiring と し て in い る こ と で な ability の sharply upward が expect で き る. こ の グ ラ フ ェ ン を with い る こ と が で き な い か, プ ロ セ ス design を め て い る.

项目成果

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Modern Technologies for Creating the Thin-film Systems and Coatings
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  • 通讯作者:
    A. Takayama
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    保原 麗;秋山 了太;長谷川 修司
  • 通讯作者:
    長谷川 修司
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    久保田 雄也;平田 靖透;田口 宗孝;宮脇 淳,山本 達;保原 麗;山本 真吾;山本 航平;染谷隆史;田久保 耕;横山 優一;荒木 実穂子;藤澤正美;原田 慈久;角田 匡清;和達 大樹;辛 埴,松田 巌
  • 通讯作者:
    辛 埴,松田 巌
純スピン流生成プローブの開発
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  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    保原 麗;秋山 了太;長谷川 修司
  • 通讯作者:
    長谷川 修司

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