高密度プラズマ支援製膜によるナノ構造制御次世代酸化物半導体薄膜低温形成法の創成
利用高密度等离子体辅助沉积创建具有纳米结构控制的下一代氧化物半导体薄膜低温形成方法
基本信息
- 批准号:23K21051
- 负责人:
- 金额:$ 2.16万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2024
- 资助国家:日本
- 起止时间:2024-02-28 至 2025-03-31
- 项目状态:未结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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高品質半導体薄膜作製のためのプラズマ支援反応性スパッタリングプロセスの高度制御
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- 发表时间:
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利用高密度等离子体辅助沉积创建具有纳米结构控制的下一代氧化物半导体薄膜低温形成方法
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- 资助金额:
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Grant-in-Aid for Exploratory Research
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- 批准号:
16656226 - 财政年份:2004
- 资助金额:
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コヒーレントフォノン励起による極浅半導体接合の低温活性化に関する基礎研究
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- 资助金额:
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使用低电感多线性内置天线开发大容量射频等离子体源
- 批准号:
12780356 - 财政年份:2000
- 资助金额:
$ 2.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
ヘリコン波励起型反応性高密度金属原子混合プラズマの開発と超硬質薄膜合成への応用
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- 批准号:
09780435 - 财政年份:1997
- 资助金额:
$ 2.16万 - 项目类别:
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- 资助金额:
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使用右旋糖酐-胶原蛋白水凝胶开发 3D 打印皮肤模型,以分析白细胞介素 17 抑制剂的细胞和表观遗传效应
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