気相成長ナノ粒子直接照射による酸化物ナノコンポジット機能材の低温高速成膜法の開発
気相成長ナノ粒子直接照射による酸化物ナノコンポジット機能材の低温高速成膜法の開発
批准号:
16656226
负责人:
節原 裕一
金额:
$2.18万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2004
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2004 至 2006
中文摘要
本研究では、ナノ粒子をビーム状に基板へ直接照射しながらマトリックス材の同時成膜を行う新しい成膜技術を独自のプラズマ生成法を利用して開発することを目的とし、酸化物ナノコンポジット機能材の低温高速成膜を目指している。3年間の研究計画の最終にあたる本年度は、マトリックス材の形成に用いるプラズマ源の特性解明による製膜プロセスの高品質化への指針確立と共に、気相でのナノ粒子改質特性の解明に重点を置いて、以下の研究を行った。まず、マトリックス材の形成に用いる内部アンテナ型誘導結合プラズマにおいて、高品質の製膜プロセスの実現に資することを念頭に、プラズマ生成の起源であるアンテナ周辺でのプラズマパラメータの分布について詳細に調べた。アンテナ周辺での放電は、アンテナのアスペクト比、すなわち誘導電界の分布に大いに依存し、さらに静電結合に伴うプラズマの電位揺動ならびにプラズマ電位を抑制する上で、アンテナの低インダクタンス化が有効であることを明らかにした。これらの知見を基に開発したプラズマ源では、対地に対するイオンエネルギーを5〜10eVまで低減可能であることが明らかとなり、イオンダメージを抑制した高品質プロセスへの足がかりが得られた。さらに、昨年度に開発した誘導結合型プラズマノズルを用いたナノ粒子プロセス系による粒子製膜の重要なポイントとして、気相でのナノ粒子改質特性について調べた。昨年度に得られた結果をさらに詳細に検討し、希土類を含有する3元系酸化物ナノ粒子を用いた実験により、希ガスプラズマのみによる急速加熱を施した場合には相分離を生じるのに対し、反応性気体を微量含有する高密度プラズマを用いることにより、相構造の安定性を保った状態で低温相から高温相への相変換が可能となることを明らかにした。また、プラズマCVD法の併用によりナノ粒子膜へのマトリックス材の形成も容易に可能であることを示した。
英文摘要
本研究では、ナノ粒子をビーム状に基板へ直接照射しながらマトリックス材の同時成膜を行う新しい成膜技術を独自のプラズマ生成法を利用して開発することを目的とし、酸化物ナノコンポジット機能材の低温高速成膜を目指している。3年間の研究計画の最終にあたる本年度は、マトリックス材の形成に用いるプラズマ源の特性解明による製膜プロセスの高品質化への指針確立と共に、気相でのナノ粒子改質特性の解明に重点を置いて、以下の研究を行った。まず、マトリックス材の形成に用いる内部アンテナ型誘導結合プラズマにおいて、高品質の製膜プロセスの実現に資することを念頭に、プラズマ生成の起源であるアンテナ周辺でのプラズマパラメータの分布について詳細に調べた。アンテナ周辺での放電は、アンテナのアスペクト比、すなわち誘導電界の分布に大いに依存し、さらに静電結合に伴うプラズマの電位揺動ならびにプラズマ電位を抑制する上で、アンテナの低インダクタンス化が有効であることを明らかにした。これらの知見を基に開発したプラズマ源では、対地に対するイオンエネルギーを5〜10eVまで低減可能であることが明らかとなり、イオンダメージを抑制した高品質プロセスへの足がかりが得られた。さらに、昨年度に開発した誘導結合型プラズマノズルを用いたナノ粒子プロセス系による粒子製膜の重要なポイントとして、気相でのナノ粒子改質特性について調べた。昨年度に得られた結果をさらに詳細に検討し、希土類を含有する3元系酸化物ナノ粒子を用いた実験により、希ガスプラズマのみによる急速加熱を施した場合には相分離を生じるのに対し、反応性気体を微量含有する高密度プラズマを用いることにより、相構造の安定性を保った状態で低温相から高温相への相変換が可能となることを明らかにした。また、プラズマCVD法の併用によりナノ粒子膜へのマトリックス材の形成も容易に可能であることを示した。
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次世代メートルサイズ大面積プロセス用プラズマ源
适用于大面积工艺的下一代米级等离子体源
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
プラズマ・核融合学会誌 81・2
影响因子:
--
作者:
[T.Mano, O.Sugiyama, Y.Shibuya, H.Nakayama, O.Takai, Y.Setsuhara, Y.Setsuhara, Kosuke TAKENAKA, Hiroshige DEGUCHI, Y.Setsuhara, Y.Setsuhara, H.Deguchi, 節原裕一, 節原裕一]
通讯作者:
節原裕一
Development of Large-Area Uniform RF Plasma Sources with Low-Inductance Internal Antenna Units -Effects of Antenna Size and Configurations-
开发具有低电感内部天线单元的大面积均匀射频等离子体源 -天线尺寸和配置的影响 -
DOI:
--
发表时间:
2006
期刊:
Proc.6^<th> International Conf.on Reactive Plasmas and 23^<rd> Symp.on Plasma Processing, Matsushima, Japan, Jan.24-27, (2006)
影响因子:
--
作者:
[T.Mano, O.Sugiyama, Y.Shibuya, H.Nakayama, O.Takai, Y.Setsuhara, Y.Setsuhara, Kosuke TAKENAKA, Hiroshige DEGUCHI, Y.Setsuhara, Y.Setsuhara, H.Deguchi]
通讯作者:
H.Deguchi
メートルサイズの大面積プロセスに向けたプラズマ技術
用于米级大面积工艺的等离子技术
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
表面技術 56・5
影响因子:
--
作者:
[T.Mano, O.Sugiyama, Y.Shibuya, H.Nakayama, O.Takai, Y.Setsuhara, Y.Setsuhara, Kosuke TAKENAKA, Hiroshige DEGUCHI, Y.Setsuhara, Y.Setsuhara, H.Deguchi, 節原裕一]
通讯作者:
節原裕一
Phase Structure Control of Yttrium Iron Garnet Nanoparticle Films Using Inductively-Coupled High-Pressure RF Plasmas
使用电感耦合高压射频等离子体控制钇铁石榴石纳米粒子薄膜的相结构
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
Proc. 24th Symp. on Plasma Processing, Osaka, Japan, 2007.1.29-31
影响因子:
--
作者:
[T.Mano, O.Sugiyama, Y.Shibuya, H.Nakayama, O.Takai, Y.Setsuhara]
通讯作者:
Y.Setsuhara
Designing of Meters-Scale Ultra-Large Area RF Plasma Sources Sustained with Multiple Low-Inductance-Antenna Modules
多低电感天线模块维持的米级超大面积射频等离子体源设计
DOI:
--
发表时间:
2007
期刊:
Proc. 24th Symp. on Plasma Processing, Osaka, Japan, 2007.1.29-31
影响因子:
--
作者:
[T.Mano, O.Sugiyama, Y.Shibuya, H.Nakayama, O.Takai, Y.Setsuhara, Y.Setsuhara]
通讯作者:
Y.Setsuhara
共 10 条
高密度プラズマ支援製膜によるナノ構造制御次世代酸化物半導体薄膜低温形成法の創成
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批准号:23K21051
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$2.16万
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财政年份:2024
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负责人:節原 裕一
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依托单位:
高密度プラズマ支援製膜によるナノ構造制御次世代酸化物半導体薄膜低温形成法の創成
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批准号:21H01671
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.07万
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财政年份:2021
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负责人:節原 裕一
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依托单位:
超短パルスレーザー誘起断熱励起過程による次世代半導体ナノ表面の非熱的改質プロセス
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批准号:20035009
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$3.01万
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财政年份:2008
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负责人:節原 裕一
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依托单位:
フォノン励起型非熱的ナノ表面改質による次世代半導体活性化プロセスの開発
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批准号:19026009
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.66万
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财政年份:2007
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负责人:節原 裕一
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依托单位:
高周波誘導結合による新しい液中プラズマ生成法の開発と粒子処理プロセスの開拓
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批准号:19654090
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.11万
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财政年份:2007
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负责人:節原 裕一
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依托单位:
コヒーレントフォノン励起による極浅半導体接合の低温活性化に関する基礎研究
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批准号:14655018
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$2.18万
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财政年份:2002
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负责人:節原 裕一
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依托单位:
低インダクタンス型マルチ線状内部アンテナを用いた大容積RFプラズマ源の開発
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批准号:12780356
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.6万
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财政年份:2000
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负责人:節原 裕一
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依托单位:
ヘリコン波励起型反応性高密度金属原子混合プラズマの開発と超硬質薄膜合成への応用
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批准号:09780435
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1997
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负责人:節原 裕一
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依托单位:
海外基金