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プラズマプロセスによる膜形成の一般則の統合研究

プラズマプロセスによる膜形成の一般則の統合研究
等离子体工艺成膜一般规律的综合研究
批准号:
24H00205
负责人:
白谷 正治
金额:
$30.45万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份:
2024
资助国家:
日本
项目状态:
未结题
起止时间:
2024-04-01 至 2029-03-31
关键词:

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Mechanism elucidation of spatio-temporal structure formation of sheath fluctuation using optically trapped fine particles in plasmas
  • 批准号:
    20H00142
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 资助金额:
    $28.87万
  • 财政年份:
    2020
  • 负责人:
    白谷 正治
  • 依托单位:
プラズマを用いたナノカプセルの創製と物質内包技術の開発
  • 批准号:
    18656027
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 资助金额:
    $2.18万
  • 财政年份:
    2006
  • 负责人:
    白谷 正治
  • 依托单位:
プラズマCVD法による銅薄膜の選択形成に関する研究
  • 批准号:
    07750360
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.64万
  • 财政年份:
    1995
  • 负责人:
    白谷 正治
  • 依托单位:
プラズマCVD法による銅薄膜形成機構に関する研究
  • 批准号:
    06750325
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.58万
  • 财政年份:
    1994
  • 负责人:
    白谷 正治
  • 依托单位: