Development of ion-assisted surface diffusion polishing method to flatten diamond surfaces in atomic level

开发离子辅助表面扩散抛光方法以在原子水平上平整金刚石表面

基本信息

  • 批准号:
    16K14124
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.33万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016-04-01 至 2018-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(17)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Ogawa Shuichi其他文献

Oxygen Gas Barrier Property of Monolayer CVD Graphene
单层CVD石墨烯的氧气阻隔性能
  • DOI:
    10.5360/membrane.47.92
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yamada Takatoshi;Ogawa Shuichi
  • 通讯作者:
    Ogawa Shuichi
Roles of strain and carrier in silicon oxidation
应变和载流子在硅氧化中的作用
  • DOI:
    10.35848/1347-4065/ab82a9
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Ogawa Shuichi;YOSHIGOE Akitaka;Tang Jiayi;Sekihata Yuki;Takakuwa Yuji
  • 通讯作者:
    Takakuwa Yuji
Interfacial oxidation kinetics at SiO2/Si(001) mediated by the generation of point defects: Effect of raising O2 pressure
由点缺陷的产生介导的 SiO2/Si(001) 界面氧化动力学:提高 O2 压力的影响
  • DOI:
    10.1063/1.5034395
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.6
  • 作者:
    Ogawa Shuichi;Takakuwa Yuji
  • 通讯作者:
    Takakuwa Yuji
Flattening of copper surfaces with a low energy xenon-ion source generated by photoemission-assisted plasma
使用光电子辅助等离子体产生的低能氙离子源平整铜表面
  • DOI:
    10.7567/1347-4065/ab3878
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Ajia Saijian;Ogawa Shuichi;Kamata Nobuhisa;Takakuwa Yuji
  • 通讯作者:
    Takakuwa Yuji
雰囲気制御XPSのこれまでとこれから
气氛控制 XPS 的过去和未来
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Ogawa Shuichi;YOSHIGOE Akitaka;Tang Jiayi;Sekihata Yuki;Takakuwa Yuji;高桑雄二
  • 通讯作者:
    高桑雄二

Ogawa Shuichi的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('Ogawa Shuichi', 18)}}的其他基金

Silicene surrounded by oxide- Development using self-limitation of oxidation and oxidation-induced strain
被氧化物包围的硅烯——利用氧化自限制和氧化诱导应变进行开发
  • 批准号:
    16H05969
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 2.33万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)

相似国自然基金

芯片复杂三维异质表面高均匀性平坦化原理与装备稳定性
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2019
  • 资助金额:
    683 万元
  • 项目类别:
    重大项目
低弹性模量试样的研抛创成机理及关键技术
  • 批准号:
    51775509
  • 批准年份:
    2017
  • 资助金额:
    60.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目
微弧氧化中空化剥离机制及其硅表面平坦化设计
  • 批准号:
    51701153
  • 批准年份:
    2017
  • 资助金额:
    22.0 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
化学机械平坦化过程中抛光垫表面结构对抛光液传递效率的作用机制
  • 批准号:
    21606207
  • 批准年份:
    2016
  • 资助金额:
    20.0 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
晶圆原子尺度粗糙度形成过程中机械化学协同作用机理
  • 批准号:
    51405511
  • 批准年份:
    2014
  • 资助金额:
    25.0 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目

相似海外基金

Relationship between 2D-nucleation and long crystal growth in solution growth of SiC without molten silicon.
无熔融硅溶液生长 SiC 时二维成核与长晶体生长之间的关系。
  • 批准号:
    20H02637
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 2.33万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of finishing methods for creation of atomically flat side-surfaces of three-dimensional nano-devices utilizing defect-site selective reactions
开发利用缺陷位点选择性反应创建三维纳米器件原子级平坦侧面的精加工方法
  • 批准号:
    20H02483
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 2.33万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
The invention of hafnium-based multi-bit non-volatile memory utilizing polarization/charge trap smart functions
利用极化/电荷陷阱智能功能的铪基多位非易失性存储器的发明
  • 批准号:
    19H00758
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 2.33万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Construction of nano-structured functional thin films on flexible nanoimprinted polymer substrates with atomically patterned surfaces
在具有原子图案表面的柔性纳米压印聚合物基底上构建纳米结构功能薄膜
  • 批准号:
    18K18995
  • 财政年份:
    2018
  • 资助金额:
    $ 2.33万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
Formation of graphene with low density of defects by plasma-assisted anneal on flat SiC(0001) surfaces
通过等离子体辅助退火在平坦的 SiC(0001) 表面上形成低缺陷密度石墨烯
  • 批准号:
    15H03902
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 2.33万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了