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Development of ion-assisted surface diffusion polishing method to flatten diamond surfaces in atomic level

Development of ion-assisted surface diffusion polishing method to flatten diamond surfaces in atomic level
开发离子辅助表面扩散抛光方法以在原子水平上平整金刚石表面
批准号：
16K14124
负责人：
Ogawa Shuichi
金额：
$2.33万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2018-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-16K14124/
关键词：
光電子制御プラズマ表面平坦化精密加工ダイヤモンド低エネルギーイオンビームダイヤモンドライクカーボン平坦化DLCタウンゼント放電CVDプラズマプロセス超精密加工

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Silicene surrounded by oxide- Development using self-limitation of oxidation and oxidation-induced strain
  • 批准号：
    16H05969
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
  • 资助金额：
    $12.06万
  • 财政年份：
    2016
  • 负责人：
    Ogawa Shuichi
  • 依托单位：
    Tohoku University
国内基金
海外基金
微弧氧化中空化剥离机制及其硅表面平坦化设计
  • 批准号：
    51701153
  • 项目类别：
    青年科学基金项目
  • 资助金额：
    22.0万元
  • 批准年份：
    2017
  • 负责人：
    米天健
  • 依托单位：
    西安理工大学
超低k介质/铜异质表面平坦化中的界面原子/分子迁移行为与损伤机制研究
  • 批准号：
    91023016
  • 项目类别：
    重大研究计划
  • 资助金额：
    58.0万元
  • 批准年份：
    2010
  • 负责人：
    郭丹
  • 依托单位：
    清华大学