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Silicene surrounded by oxide- Development using self-limitation of oxidation and oxidation-induced strain

Silicene surrounded by oxide- Development using self-limitation of oxidation and oxidation-induced strain
被氧化物包围的硅烯——利用氧化自限制和氧化诱导应变进行开发
批准号：
16H05969
负责人：
Ogawa Shuichi
金额：
$12.06万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16H05969/
关键词：
熱酸化シリセン酸化誘起歪み点欠陥リアルタイム光電子分光熱酸化プロセス酸化反応測度論歪み誘起反応工学半導体超微細化電子・電気材料酸化反応速度論歪み計測表面・界面物性酸化反応自己停止シリコン熱酸化歪み誘起反応制御

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O2 pressure dependence of initial oxidation kinetics on Ni(111) surfaces
Ni(111) 表面初始氧化动力学的 O2 压力依赖性
DOI： --
发表时间： 2018
期刊：
影响因子： --
作者： [S. Ogawa, R. Taga, T. Ozaki, A. Yoshigoe, and Y. Takakuwa]
通讯作者： and Y. Takakuwa
Detection of molecular oxygen adsorbate during room-temperature oxidation of Si(100)2×1 surface: In situ synchrotron radiation photoemission study
Si(100)2×1表面室温氧化过程中分子氧吸附物的检测：原位同步辐射光电子研究
DOI： 10.7567/jjap.55.100307
发表时间： 2016
期刊： Japanese Journal of Applied Physics
影响因子： 1.5
作者： [A. Yoshigoe, Y. Yamada, R. Taga, S. Ogawa, Y. Takakuwa]
通讯作者： Y. Takakuwa
O2 Pressure Dependence of Oxidation Rate on p- and n-Si(001) Surfaces
p- 和 n-Si(001) 表面氧化速率与 O2 压力的关系
DOI： --
发表时间： 2018
期刊：
影响因子： --
作者： [Y. Sekihata, S. Ogawa and Y. Takakuwa]
通讯作者： S. Ogawa and Y. Takakuwa
O2 Pressure Dependence of SiO2/Si Interfacial Oxidation Rate Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy
实时光电子能谱研究SiO2/Si界面氧化速率对O2压力的依赖性
DOI： --
发表时间： 2017
期刊：
影响因子： --
作者： [S. Ogawa, A. Yoshigoe, S. Ishidzuka, Y. Takakuwa]
通讯作者： Y. Takakuwa
共 24 条
    Development of ion-assisted surface diffusion polishing method to flatten diamond surfaces in atomic level
    • 批准号：
      16K14124
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.33万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      Ogawa Shuichi
    • 依托单位：
      Tohoku University
    海外基金