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Development of innovative fabrication technology for silicon solar cells using a novel low-temperature doping method

Development of innovative fabrication technology for silicon solar cells using a novel low-temperature doping method
使用新型低温掺杂方法开发硅太阳能电池创新制造技术
批准号：
16K14400
负责人：
Ohdaira Keisuke
金额：
$2.33万
依托单位：
Japan Advanced Institute of Science and Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-16K14400/
关键词：
シリコンドーピング太陽電池ヘテロ接合シリコンヘテロ接合太陽電池触媒分解パッシベーション半導体物性

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