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Formation of polycrystalline silicon by explosive crystallization and its application to solar cells
爆炸结晶法制备多晶硅及其在太阳能电池中的应用
基本信息
- 批准号：15H04154
- 负责人：
- 金额：$ 10.48万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2015
- 资助国家：日本
- 起止时间：2015-04-01 至 2018-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
テクスチャガラス基板上EB蒸着非晶質Si膜のFLAでの結晶化における製膜時の基板温度の影響
成膜过程中衬底温度对毛化玻璃衬底上 EB 沉积非晶硅薄膜 FLA 结晶的影响
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：倉田 啓佑;大平 圭介
- 通讯作者：大平 圭介
フラッシュランプアニールによるCat-CVD a-Si膜の結晶化への起点作製の効果
起始点制备对Cat-CVD a-Si薄膜闪光灯退火结晶的影响
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：佐藤 大暉;大平 圭介
- 通讯作者：大平 圭介
Effect of anti-reflection coating on the crystallization of amorphous silicon films by flash lamp annealing
增透膜对闪光灯退火非晶硅薄膜晶化的影响
- DOI：10.7567/jjap.56.04cs10
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：Y. Momotani;A. Shibata;N. Tsuji;柴田曉伸，村田 有，松岡雄大，桃谷裕二，辻 伸泰;桃谷裕二，柴田曉伸，辻 伸泰;Keisuke Kurata and Keisuke Ohdaira;Daiki Sato and Keisuke Ohdaira;Y. Sonoda and K. Ohdaira
- 通讯作者：Y. Sonoda and K. Ohdaira
テクスチャガラス基板が電子線蒸着非晶質Si膜のFLAでの結晶化機構に与える影響
织构化玻璃基板对FLA电子束沉积非晶硅薄膜结晶机制的影响
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：倉田 啓佑;大平 圭介
- 通讯作者：大平 圭介
FLA でのa-Siの結晶化におけるSiNx反射防止膜とパルス光入射方向の影響
SiNx增透膜和脉冲光入射方向对FLA中a-Si结晶的影响
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：園田 裕生;大平 圭介
- 通讯作者：大平 圭介
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Ohdaira Keisuke其他文献
Carrier lifetime measurement of perovskite films by differential microwave photoconductivity decay
通过微分微波光电导衰减测量钙钛矿薄膜的载流子寿命
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- 影响因子：1.5
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- DOI：
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- 影响因子：1.5
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- 影响因子：1.5
- 作者：
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Tokumitsu Eisuke
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{{ truncateString('Ohdaira Keisuke', 18)}}的其他基金
Development of innovative fabrication technology for silicon solar cells using a novel low-temperature doping method
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- 批准号：
16K14400 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 10.48万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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闪光灯退火非晶硅薄膜爆炸结晶调制机制的阐明
- 批准号：
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- 资助金额：
$ 10.48万 - 项目类别：
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非晶金属卤化物爆炸结晶过程中微晶形成过程的多道光谱分析
- 批准号：
06452110 - 财政年份：1994
- 资助金额：
$ 10.48万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)