Formation of polycrystalline silicon by explosive crystallization and its application to solar cells
Formation of polycrystalline silicon by explosive crystallization and its application to solar cells
批准号:
15H04154
负责人:
Ohdaira Keisuke
金额:
$10.48万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-04-01 至 2018-03-31
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テクスチャガラス基板上EB蒸着非晶質Si膜のFLAでの結晶化における製膜時の基板温度の影響
成膜过程中衬底温度对毛化玻璃衬底上 EB 沉积非晶硅薄膜 FLA 结晶的影响
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[倉田 啓佑, 大平 圭介]
通讯作者:
大平 圭介
フラッシュランプアニールによるCat-CVD a-Si膜の結晶化への起点作製の効果
起始点制备对Cat-CVD a-Si薄膜闪光灯退火结晶的影响
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[佐藤 大暉, 大平 圭介]
通讯作者:
大平 圭介
Effect of anti-reflection coating on the crystallization of amorphous silicon films by flash lamp annealing
增透膜对闪光灯退火非晶硅薄膜晶化的影响
DOI:
10.7567/jjap.56.04cs10
发表时间:
2017
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[Y. Momotani, A. Shibata, N. Tsuji, 柴田曉伸,村田 有,松岡雄大,桃谷裕二,辻 伸泰, 桃谷裕二,柴田曉伸,辻 伸泰, Keisuke Kurata and Keisuke Ohdaira, Daiki Sato and Keisuke Ohdaira, Y. Sonoda and K. Ohdaira]
通讯作者:
Y. Sonoda and K. Ohdaira
テクスチャガラス基板が電子線蒸着非晶質Si膜のFLAでの結晶化機構に与える影響
织构化玻璃基板对FLA电子束沉积非晶硅薄膜结晶机制的影响
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[倉田 啓佑, 大平 圭介]
通讯作者:
大平 圭介
FLA でのa-Siの結晶化におけるSiNx反射防止膜とパルス光入射方向の影響
SiNx增透膜和脉冲光入射方向对FLA中a-Si结晶的影响
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[園田 裕生, 大平 圭介]
通讯作者:
大平 圭介
共 22 条
Development of innovative fabrication technology for silicon solar cells using a novel low-temperature doping method
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批准号:16K14400
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.33万
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财政年份:2016
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负责人:Ohdaira Keisuke
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依托单位:
海外基金