Formation of polycrystalline silicon by explosive crystallization and its application to solar cells
爆炸结晶法制备多晶硅及其在太阳能电池中的应用
基本信息
- 批准号:15H04154
- 负责人:
- 金额:$ 10.48万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2015
- 资助国家:日本
- 起止时间:2015-04-01 至 2018-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
テクスチャガラス基板上EB蒸着非晶質Si膜のFLAでの結晶化における製膜時の基板温度の影響
成膜过程中衬底温度对毛化玻璃衬底上 EB 沉积非晶硅薄膜 FLA 结晶的影响
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:倉田 啓佑;大平 圭介
- 通讯作者:大平 圭介
フラッシュランプアニールによるCat-CVD a-Si膜の結晶化への起点作製の効果
起始点制备对Cat-CVD a-Si薄膜闪光灯退火结晶的影响
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:佐藤 大暉;大平 圭介
- 通讯作者:大平 圭介
Effect of anti-reflection coating on the crystallization of amorphous silicon films by flash lamp annealing
增透膜对闪光灯退火非晶硅薄膜晶化的影响
- DOI:10.7567/jjap.56.04cs10
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:Y. Momotani;A. Shibata;N. Tsuji;柴田曉伸,村田 有,松岡雄大,桃谷裕二,辻 伸泰;桃谷裕二,柴田曉伸,辻 伸泰;Keisuke Kurata and Keisuke Ohdaira;Daiki Sato and Keisuke Ohdaira;Y. Sonoda and K. Ohdaira
- 通讯作者:Y. Sonoda and K. Ohdaira
テクスチャガラス基板が電子線蒸着非晶質Si膜のFLAでの結晶化機構に与える影響
织构化玻璃基板对FLA电子束沉积非晶硅薄膜结晶机制的影响
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:倉田 啓佑;大平 圭介
- 通讯作者:大平 圭介
FLA でのa-Siの結晶化におけるSiNx反射防止膜とパルス光入射方向の影響
SiNx增透膜和脉冲光入射方向对FLA中a-Si结晶的影响
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:園田 裕生;大平 圭介
- 通讯作者:大平 圭介
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- 影响因子:1.5
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- 影响因子:1.5
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