Formation of polycrystalline silicon by explosive crystallization and its application to solar cells

爆炸结晶法制备多晶硅及其在太阳能电池中的应用

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テクスチャガラス基板上EB蒸着非晶質Si膜のFLAでの結晶化における製膜時の基板温度の影響
成膜过程中衬底温度对毛化玻璃衬底上 EB 沉积非晶硅薄膜 FLA 结晶的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    倉田 啓佑;大平 圭介
  • 通讯作者:
    大平 圭介
フラッシュランプアニールによるCat-CVD a-Si膜の結晶化への起点作製の効果
起始点制备对Cat-CVD a-Si薄膜闪光灯退火结晶的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    佐藤 大暉;大平 圭介
  • 通讯作者:
    大平 圭介
Effect of anti-reflection coating on the crystallization of amorphous silicon films by flash lamp annealing
增透膜对闪光灯退火非晶硅薄膜晶化的影响
  • DOI:
    10.7567/jjap.56.04cs10
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Y. Momotani;A. Shibata;N. Tsuji;柴田曉伸,村田 有,松岡雄大,桃谷裕二,辻 伸泰;桃谷裕二,柴田曉伸,辻 伸泰;Keisuke Kurata and Keisuke Ohdaira;Daiki Sato and Keisuke Ohdaira;Y. Sonoda and K. Ohdaira
  • 通讯作者:
    Y. Sonoda and K. Ohdaira
テクスチャガラス基板が電子線蒸着非晶質Si膜のFLAでの結晶化機構に与える影響
织构化玻璃基板对FLA电子束沉积非晶硅薄膜结晶机制的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    倉田 啓佑;大平 圭介
  • 通讯作者:
    大平 圭介
FLA でのa-Siの結晶化におけるSiNx反射防止膜とパルス光入射方向の影響
SiNx增透膜和脉冲光入射方向对FLA中a-Si结晶的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    園田 裕生;大平 圭介
  • 通讯作者:
    大平 圭介
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Carrier lifetime measurement of perovskite films by differential microwave photoconductivity decay
通过微分微波光电导衰减测量钙钛矿薄膜的载流子寿命
  • DOI:
    10.35848/1347-4065/ac5d22
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Ohdaira Keisuke;Thi Cam Tu Huynh;Shimazaki Ai;Kaneko Ryuji;Sumai Yuka;Shahiduzzaman Md.;Taima Tetsuya;Wakamiya Atsushi
  • 通讯作者:
    Wakamiya Atsushi
Use of n-type amorphous silicon films as an electron transport layer in the perovskite solar cells
n型非晶硅薄膜作为电子传输层在钙钛矿太阳能电池中的应用
  • DOI:
    10.35848/1347-4065/ac2c99
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Song Zhancheng;Sumai Yuuka;Tu Huynh Thi Cam;Shahiduzzaman Md.;Taima Tetsuya;Ohdaira Keisuke
  • 通讯作者:
    Ohdaira Keisuke
Enhancement of ferroelectricity in sputtered HZO thin films by catalytically generated atomic hydrogen treatment
通过催化产生原子氢处理增强溅射 HZO 薄膜的铁电性
  • DOI:
    10.35848/1347-4065/ac5a95
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Mohit;Wen Yuli;Hara Yuki;Migita Shinji;Ota Hiroyuki;Morita Yukinori;Ohdaira Keisuke;Tokumitsu Eisuke
  • 通讯作者:
    Tokumitsu Eisuke

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