Control of carrier doping using atomic layer silicide semiconductors
使用原子层硅化物半导体控制载流子掺杂
基本信息
- 批准号:24656220
- 负责人:
- 金额:$ 2.5万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份:2012
- 资助国家:日本
- 起止时间:2012-04-01 至 2015-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(14)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
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专利数量(0)
Low-barrier heterojunction of epitaxial silicide composed of W encapsulating Si clusters with n-type Si
W封装Si团簇与n型Si组成的外延硅化物低势垒异质结
- DOI:10.1063/1.4767136
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:4
- 作者:N. Okada;N. Uchida and T. Kanayama
- 通讯作者:N. Uchida and T. Kanayama
Electrical properties of amorphous and epitaxial Si-rich silicide films
非晶和外延富硅硅化物薄膜的电学特性
- DOI:10.1063/1.4913859
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:3.2
- 作者:N. Okada;N. Uchida;T. Kanayama
- 通讯作者:T. Kanayama
Fermi-level depinning and contact resistance reduction in metal/n-Ge junctions by insertion of W-encapsulating Si cluster films
通过插入 W 封装硅簇薄膜实现金属/n-Ge 结的费米能级脱钉和接触电阻降低
- DOI:10.1063/1.4864321
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:4
- 作者:Naoya Okada;Noriyuki Uchida;Toshihiko Kayanama
- 通讯作者:Toshihiko Kayanama
遷移金属内包Siクラスターを単位構造としたシリサイド半導体とSiとの接合特性
以含过渡金属的Si簇为单位结构的硅化物半导体与Si之间的键合特性
- DOI:
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:岡田直也;内田紀行;金山敏彦
- 通讯作者:金山敏彦
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('UCHIDA Noriyuki', 18)}}的其他基金
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