Control of carrier doping using atomic layer silicide semiconductors

使用原子层硅化物半导体控制载流子掺杂

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Low-barrier heterojunction of epitaxial silicide composed of W encapsulating Si clusters with n-type Si
W封装Si团簇与n型Si组成的外延硅化物低势垒异质结
  • DOI:
    10.1063/1.4767136
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4
  • 作者:
    N. Okada;N. Uchida and T. Kanayama
  • 通讯作者:
    N. Uchida and T. Kanayama
Electrical properties of amorphous and epitaxial Si-rich silicide films
非晶和外延富硅硅化物薄膜的电学特性
  • DOI:
    10.1063/1.4913859
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.2
  • 作者:
    N. Okada;N. Uchida;T. Kanayama
  • 通讯作者:
    T. Kanayama
Fermi-level depinning and contact resistance reduction in metal/n-Ge junctions by insertion of W-encapsulating Si cluster films
通过插入 W 封装硅簇薄膜实现金属/n-Ge 结的费米能级脱钉和接触电阻降低
  • DOI:
    10.1063/1.4864321
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4
  • 作者:
    Naoya Okada;Noriyuki Uchida;Toshihiko Kayanama
  • 通讯作者:
    Toshihiko Kayanama
遷移金属内包Siクラスターを単位構造としたシリサイド半導体とSiとの接合特性
以含过渡金属的Si簇为单位结构的硅化物半导体与Si之间的键合特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    岡田直也;内田紀行;金山敏彦
  • 通讯作者:
    金山敏彦
タングステン内包Siクラスター薄膜を用いたGeとの金属接合技術の開発
利用含钨Si簇薄膜开发与Ge的金属键合技术
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    岡田直也;内田紀行;金山敏彦
  • 通讯作者:
    金山敏彦
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    $ 2.5万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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