Development of the miniaturized hydrocarbon sensor using the nanocarbon multilayers
Development of the miniaturized hydrocarbon sensor using the nanocarbon multilayers
使用纳米碳多层的小型化碳氢化合物传感器的开发
批准号：
25600123
负责人：
TAJIMA Satomi
金额：
$2.58万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2013
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2013-04-01 至 2015-03-31
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Low-speed etching technique and etching equipment using F2 and NO2 gases
使用F2和NO2气体的低速蚀刻技术和蚀刻设备
使用F2和NO2气体的低速蚀刻技术和蚀刻设备
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
The challenges and issues of plasma-assisted adhesion improvement
等离子体辅助附着力改善的挑战和问题
等离子体辅助附着力改善的挑战和问题
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[S. Tajima]
通讯作者：
S. Tajima
Anisotropic chemical dry silicon wafer etching using F2 + NO  F + FNO reaction
使用 F2 NO 的各向异性化学干法硅片蚀刻
使用 F2 NO 的各向异性化学干法硅片蚀刻
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[S. Tajima, T. Hayashi, K. Yamakawa, M. Sasaki, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori]
通讯作者：
M. Hori
Chemical Dry Etching of the Si Sacrificial Layer in MEMS Devices
MEMS 器件中硅牺牲层的化学干法蚀刻
MEMS 器件中硅牺牲层的化学干法蚀刻
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[S. Tajima, T. Hayashi, M. Sasaki]
通讯作者：
M. Sasaki
The change in growth, differentiation, and adhesion characteristics of plasma-treated A549 and Saos-2 cells
等离子体处理的 A549 和 Saos-2 细胞生长、分化和粘附特性的变化
等离子体处理的 A549 和 Saos-2 细胞生长、分化和粘附特性的变化
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, 塩田達俊, S. Tajima]
通讯作者：
S. Tajima
共 22 条
Development of a small-scale heavy metal detection system using pulse-modulated inductively coupled He microplasma combined with micro total analysis system
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批准号：22760051
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项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额：$2.16万
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财政年份：2010
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负责人：TAJIMA Satomi
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依托单位：