Development of the miniaturized hydrocarbon sensor using the nanocarbon multilayers

使用纳米碳多层的小型化碳氢化合物传感器的开发

• 批准号: 25600123
• 负责人: TAJIMA Satomi
• 金额: $ 2.58万
• 依托单位: Nagoya University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
• 财政年份: 2013
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2013-04-01 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-25600123/
• 关键词: 吸着; カーボン膜; ＰＥＣＶＤ; ばらつき制御; 表面電位; 炭化水素; センサー; 国際研究者交流 スロベニア; PECVD; ガスセンサー; 大気圧プラズマ; ＣＶＤ; 生体模倣材料; 表面改質; MEMS

项目成果

Low-speed etching technique and etching equipment using F2 and NO2 gases

使用F2和NO2气体的低速蚀刻技术和蚀刻设备

• 发表时间: 2015

The challenges and issues of plasma-assisted adhesion improvement

等离子体辅助附着力改善的挑战和问题

• 发表时间: 2015
• 作者: S. Tajima

Anisotropic chemical dry silicon wafer etching using F2 + NO  F + FNO reaction

使用 F2 NO 的各向异性化学干法硅片蚀刻

• 发表时间: 2014
• 作者: S. Tajima;T. Hayashi;K. Yamakawa;M. Sasaki;K. Ishikawa;M. Sekine;M. Hori
• 通讯作者: M. Hori

Chemical Dry Etching of the Si Sacrificial Layer in MEMS Devices

MEMS 器件中硅牺牲层的化学干法蚀刻

• 发表时间: 2014
• 作者: S. Tajima;T. Hayashi;M. Sasaki
• 通讯作者: M. Sasaki

The change in growth, differentiation, and adhesion characteristics of plasma-treated A549 and Saos-2 cells

等离子体处理的 A549 和 Saos-2 细胞生长、分化和粘附特性的变化

• 发表时间: 2014
• 作者: X. Dong;K. Koga;D. Yamashita;H. Seo;N. Itagaki;M. Shiratani;塩田達俊;S. Tajima
• 通讯作者: S. Tajima