Basic behavior analysis of the Leidenfrost droplet toward the functional thin film fabrication on the three-dimensional object
Basic behavior analysis of the Leidenfrost droplet toward the functional thin film fabrication on the three-dimensional object
莱顿弗罗斯特液滴在三维物体上制作功能薄膜的基本行为分析
批准号：
26630395
负责人：
Kawaharamura Toshiyuki
金额：
$2.58万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2016-03-31
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狭差二平板間における微小液滴の挙動②
两窄板之间微滴的行为②
两窄板之间微滴的行为②
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[松崎俊介, 太田垣知輝, 高木耕平, 川原村敏幸]
通讯作者：
川原村敏幸
量子井戸構造および半導体装置
量子阱结构及半导体器件
量子阱结构及半导体器件
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
ライデンフロスト効果を利用したミストCVDによるFe2O3/Ga2O3多重量子井戸の作製
利用莱顿弗罗斯特效应雾气化学气相沉积法制备 Fe2O3/Ga2O3 多量子阱
利用莱顿弗罗斯特效应雾气化学气相沉积法制备 Fe2O3/Ga2O3 多量子阱
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[川原村 敏幸, 鄧 太 江, 新田 紀子]
通讯作者：
新田 紀子
大気開放下によるSnO薄膜の作製とその物性評価
开放气氛下SnO薄膜的制备及其物理性能评价
开放气氛下SnO薄膜的制备及其物理性能评价
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[内田貴之, 川原村敏幸, 藤田静雄]
通讯作者：
藤田静雄
大気圧下における高品質薄膜作製のための高度制御技術
常压下生产高质量薄膜的先进控制技术
常压下生产高质量薄膜的先进控制技术
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[松崎俊介, 太田垣知輝, 高木耕平, 川原村敏幸, 川原村 敏幸]
通讯作者：
川原村 敏幸
共 17 条
Development of next generation mist CVD enabling atomic level control & development of oxide quantum devices
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批准号：15H05421
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项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
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资助金额：$13.56万
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财政年份：2015
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负责人：Kawaharamura Toshiyuki
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依托单位：