Basic behavior analysis of the Leidenfrost droplet toward the functional thin film fabrication on the three-dimensional object

莱顿弗罗斯特液滴在三维物体上制作功能薄膜的基本行为分析

基本信息

  • 批准号:
    26630395
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-01 至 2016-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(19)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
狭差二平板間における微小液滴の挙動②
两窄板之间微滴的行为②
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    松崎俊介;太田垣知輝;高木耕平;川原村敏幸
  • 通讯作者:
    川原村敏幸
量子井戸構造および半導体装置
量子阱结构及半导体器件
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
大気開放下によるSnO薄膜の作製とその物性評価
开放气氛下SnO薄膜的制备及其物理性能评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    内田貴之;川原村敏幸;藤田静雄
  • 通讯作者:
    藤田静雄
ライデンフロスト効果を利用したミストCVDによるFe2O3/Ga2O3多重量子井戸の作製
利用莱顿弗罗斯特效应雾气化学气相沉积法制备 Fe2O3/Ga2O3 多量子阱
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    川原村 敏幸;鄧 太 江;新田 紀子
  • 通讯作者:
    新田 紀子
大気圧下における高品質薄膜作製のための高度制御技術
常压下生产高质量薄膜的先进控制技术
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    松崎俊介;太田垣知輝;高木耕平;川原村敏幸;川原村 敏幸
  • 通讯作者:
    川原村 敏幸
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  • 作者:
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Kawaharamura Toshiyuki其他文献

走査ダイヤモンドNV中心プローブを用いた局所磁気イメージング
使用扫描金刚石 NV 中心探头进行局部磁成像
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Dang Giang T.;Suwa Yuta;Sakamoto Masahito;Liu Li;Rutthongjan Phimolphan;Sato Shota;Yasuoka Tatsuya;Hasegawa Ryo;Kawaharamura Toshiyuki;安 東秀
  • 通讯作者:
    安 東秀
Conductive Si-doped α-(AlxGa1-x)2O3 thin films with the bandgaps up to 6.22 eV
带隙高达 6.22 eV 的导电 Si 掺杂 α-(AlxGa1-x)2O3 薄膜
  • DOI:
    10.1063/5.0026095
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.6
  • 作者:
    Dang Giang T.;Tagashira Yuki;Yasuoka Tatsuya;Liu Li;Kawaharamura Toshiyuki
  • 通讯作者:
    Kawaharamura Toshiyuki
Composition control of Zn1-x Mg x O thin films grown using mist chemical vapor deposition
使用雾化学气相沉积生长的 Zn1-x Mg x O 薄膜的成分控制
  • DOI:
    10.7567/1347-4065/aafd18
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Rutthongjan Phimolphan;Liu Li;Nishi Misaki;Sakamoto Masahito;Sato Shota;Pradeep Ellawala K C;Dang Giang T;Kawaharamura Toshiyuki
  • 通讯作者:
    Kawaharamura Toshiyuki
ダイヤモンドNV中心を用いた走査スピンイメージングプローブの開発
利用金刚石NV中心的扫描自旋成像探头的研制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Rutthongjan Phimolphan;Liu Li;Nishi Misaki;Sakamoto Masahito;Sato Shota;Pradeep Ellawala K C;Dang Giang T;Kawaharamura Toshiyuki;安 東秀
  • 通讯作者:
    安 東秀

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  • DOI:
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  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
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  • 作者:
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  • 通讯作者:
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Development of next generation mist CVD enabling atomic level control & development of oxide quantum devices
开发下一代雾气 CVD 实现原子级控制
  • 批准号:
    15H05421
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
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