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Development of next generation mist CVD enabling atomic level control & development of oxide quantum devices
开发下一代雾气 CVD 实现原子级控制
基本信息
- 批准号：15H05421
- 负责人：
- 金额：$ 13.56万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
- 财政年份：2015
- 资助国家：日本
- 起止时间：2015-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Development of α-Ga2O3-based high power devices
α-Ga2O3基高功率器件的开发
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Giang T. Dang;Toshiyuki Kawaharamura,
- 通讯作者：Toshiyuki Kawaharamura,
ミストCVDにより作製した二硫化モリブデン(MoS2)薄膜の特性評価
雾气CVD制备二硫化钼(MoS2)薄膜的特性评价
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：佐藤 翔太;坂本 雅仁;新田 紀子;劉 麗;E. K. C. プラディープ;鄧 太 江;川原村 敏幸
- 通讯作者：川原村 敏幸
Fabrication of Y2O3 thin film by mist CVD
雾气CVD法制备Y2O3薄膜
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Li Liu;M. Nishi;E.K.C. Pradeep;G.T. Dang;Y. Suwa;T. Kawaharamura
- 通讯作者：T. Kawaharamura
Fabricating High Quality YIG Thin Film by Mist CVD under Open-Air Atmospheric Pressure
露天常压下雾气 CVD 制备高质量 YIG 薄膜
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：L. Liu;Y. Suwa;Y. Nakasone;M. Nishi;E.K.C. Pradeep;T. Kawaharamura
- 通讯作者：T. Kawaharamura
Physics on development of open-air atmospheric pressure thin film fabrication technique using mist droplets: Control of precursor flow
- DOI：10.7567/jjap.53.05ff08
- 发表时间：2014-05-01
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：Kawaharamura, Toshiyuki
- 通讯作者：Kawaharamura, Toshiyuki
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Kawaharamura Toshiyuki其他文献
走査ダイヤモンドNV中心プローブを用いた局所磁気イメージング
使用扫描金刚石 NV 中心探头进行局部磁成像
- DOI：
- 发表时间：
2018 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Dang Giang T.;Suwa Yuta;Sakamoto Masahito;Liu Li;Rutthongjan Phimolphan;Sato Shota;Yasuoka Tatsuya;Hasegawa Ryo;Kawaharamura Toshiyuki;安 東秀 - 通讯作者：
安 東秀
Conductive Si-doped α-(AlxGa1-x)2O3 thin films with the bandgaps up to 6.22 eV
带隙高达 6.22 eV 的导电 Si 掺杂 α-(AlxGa1-x)2O3 薄膜
- DOI：
10.1063/5.0026095 - 发表时间：
2020 - 期刊：
- 影响因子：1.6
- 作者：
Dang Giang T.;Tagashira Yuki;Yasuoka Tatsuya;Liu Li;Kawaharamura Toshiyuki - 通讯作者：
Kawaharamura Toshiyuki
Composition control of Zn1-x Mg x O thin films grown using mist chemical vapor deposition
使用雾化学气相沉积生长的 Zn1-x Mg x O 薄膜的成分控制
- DOI：
10.7567/1347-4065/aafd18 - 发表时间：
2019 - 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：
Rutthongjan Phimolphan;Liu Li;Nishi Misaki;Sakamoto Masahito;Sato Shota;Pradeep Ellawala K C;Dang Giang T;Kawaharamura Toshiyuki - 通讯作者：
Kawaharamura Toshiyuki
ダイヤモンドNV中心を用いた走査スピンイメージングプローブの開発
利用金刚石NV中心的扫描自旋成像探头的研制
- DOI：
- 发表时间：
2018 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Rutthongjan Phimolphan;Liu Li;Nishi Misaki;Sakamoto Masahito;Sato Shota;Pradeep Ellawala K C;Dang Giang T;Kawaharamura Toshiyuki;安 東秀 - 通讯作者：
安 東秀
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Basic behavior analysis of the Leidenfrost droplet toward the functional thin film fabrication on the three-dimensional object
莱顿弗罗斯特液滴在三维物体上制作功能薄膜的基本行为分析
- 批准号：
26630395 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 13.56万 - 项目类别：
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相似海外基金
液晶エラストマーの多軸変形挙動の探究とシワを形成しない機能膜への展開
液晶弹性体多轴变形行为的探索及不形成皱纹的功能薄膜的开发
- 批准号：
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原子水平氧空位控制的纳米层压复合功能膜及巨介电常数机理
- 批准号：
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采用Zn/Al/Ni功能膜的新型SiC功率器件键合技术
- 批准号：
19H02044 - 财政年份：2019
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$ 13.56万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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开发一种简单方法将覆盖有钝化膜的金属钛表面转化为锐钛矿型光催化功能膜
- 批准号：
19K05112 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 13.56万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Fabrication of functional film with thermo-responsive nanocylinder-channels induced by liquid-crystal orientation
液晶取向诱导的热响应纳米圆柱通道功能薄膜的制备
- 批准号：
16K21210 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 13.56万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Functional film and characteristic evaluation of magnesium alloy by metal foil lining and laser irradiation
金属箔衬里和激光辐照镁合金的功能膜及特性评价
- 批准号：
25420060 - 财政年份：2013
- 资助金额：
$ 13.56万 - 项目类别：
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The generating of a functional film by multiply nitriding of aluminum using the In situ reduction reaction.
使用原位还原反应通过铝的多重氮化生成功能膜。
- 批准号：
17560643 - 财政年份：2005
- 资助金额：
$ 13.56万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
両親媒性分子によって構成される機能膜に関する分子論的研究
两亲性分子组成的功能膜的分子研究
- 批准号：
03J11651 - 财政年份：2003
- 资助金额：
$ 13.56万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
生体機能膜倣型マイクロバイオチップの設計・開発とプロテオーム解析への応用
生物功能模拟膜微生物芯片的设计与开发及其在蛋白质组分析中的应用
- 批准号：
14655310 - 财政年份：2002
- 资助金额：
$ 13.56万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Exploratory Research