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磁性流体シールを用いた高真空・長時間安定稼動型X線回転対陰極ターゲット部の開発

磁性流体シールを用いた高真空・長時間安定稼動型X線回転対陰極ターゲット部の開発
开发采用磁流体密封的X射线旋转对阴极靶，实现高真空和长期稳定运行
批准号：
57850022
负责人：
入戸野 修
金额：
$2.24万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
财政年份：
1982
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1982 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-57850022/
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シャドウ効果と幾何学的効果を活用したポーラスな機能性薄膜の作製
スパッタ法で合成した金属間化合物膜の構造と物性
  • 批准号：
    98F00422
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $1.15万
  • 财政年份：
    1999
  • 负责人：
    入戸野 修
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
銅系人工格子膜の界面構造の回折結晶学的評価
  • 批准号：
    07650760
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.47万
  • 财政年份：
    1995
  • 负责人：
    入戸野 修
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
X線複結晶回折法による多孔質シリコン薄層の格子ひずみ評価
  • 批准号：
    04680054
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $0.9万
  • 财政年份：
    1992
  • 负责人：
    入戸野 修
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology