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次世代CMB偏光観測衛星の高感度化を目的とした広帯域シリコンレンズの開発

开发宽带硅透镜旨在提高下一代CMB偏振观测卫星的灵敏度

基本信息

批准号：
22K14052
负责人：
長谷部孝
金额：
$ 2.91万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2022
资助国家：
日本
起止时间：
2022-04-01 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究課題は、申請者が開発したシリコン平板への多段ドライエッチング加工による反射防止コーティング加工技術を、レンズ曲面加工へ発展させるための研究を行った。曲面への加工では、平面と同様にフォトマスクによるパターン転写を行っても精度のよいパターンは得られない。そこで文部科学省マテリアル先端リサーチインフラを利用し、豊田工業大学マイクロメカトロニクス研究室の佐々木実教授に、水溶性フィルムを用いた曲面へのパターン転写の技術代行を依頼した。本研究では、1層目パターン用フォトマスク上にポリビニルアルコール(PVA)フィルムを張り付けレジストを塗布した。1層目パターンを露光後、反対面より2層目パターン用フォトマスクを用いて露光することで1層のレジストに2層のパターンを露光することに成功した。次にフィルムのレジスト塗布面をシリコンレンズ曲面に真空チャンバー内で吸着させる。PVAフィルムを水で溶解させた後、レンズ曲面に吸着したレジストのパターン現像を行うことで、曲面上に精度のよいパターンを得る。レンズは直径25mm、曲率半径130mmの平凸シリコンレンズを用いた。レンズ曲面に180マイクロメータ周期で幅135マイクロメータ、73マイクロメータの2種類の正方形パターンを転写した。その後武田先端知クリーンルームにてドライエッチング加工を行うことでシリコンレンズ曲面に2段のステップ構造が加工できることを確認した。本研究の成果によってレンズ曲面上で多段ドライエッチング加工による反射防止コーティング技術の立証に成功した。

This research project aims to develop a new technology for multi-stage machining of flat plates and curved surfaces. Surface machining is the same as surface machining. Ministry of Education, Science and Technology, Ministry of Education, Ministry of Education, Science and Technology, Ministry of Education, Ministry of Education, Ministry of In this study, the first layer was coated with PVA. The first layer of the screen is exposed, and the second layer of the screen is exposed. The surface of the coating is vacuumed and adsorbed. After PVA is dissolved in water, the surface is adsorbed and the image is displayed. The accuracy is obtained on the surface. The diameter of the film is 25 mm, the radius of curvature is 130 mm, and the flat convex film is used. 180 After the take-up of the first knowledge group, the processing of the first two sections of the surface was confirmed. The results of this research are as follows: 1. The establishment of multi-stage reflection prevention technology on curved surface is successful.