非対称反射による縮小露光を用いたX線リソグラフィー

使用减少曝光和不对称反射的 X 射线光刻

• 批准号: 11750015
• 负责人: 斉藤 彰
• 金额: $ 1.41万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1999
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1999 至 2000
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-11750015/
• 关键词: X線; シンクロトロン放射; 非対称反射; 縮小露光; 動力学的回折; 高分子; 単分子膜; 自己組織化

非対称反射によるX線縮小露光において、像の歪みが発生することを示す報告のあることが本研究を勧めてゆく過程で明らかになった^<1)>。この報告では縦横二方向に対する像縮小比の違いを論じ、「分光器を含む光学素子の位置関係」と「角度発散」を不具合の原因としている。しかし、像縮小の縦横における相違よりもむしろ困難な問題で重要と思われる「像の歪み」については、文献に言及されていない反射の原理的問題(入射光の発散、分散および波動場の伝播)と、レジストの滲みが深く関与する。そこで本研究では像変形の原因をより詳しく調べ、歪まない露光条件を得るために、反射の原理的評価とレジスト材の反応性評価を進めてきた。前者で重要なのは動力学的回折現象の理解であり、その応用に際して波動場の歪みを考察するために、酸化物結晶を用いて動力学的回折の原理的研究が行われた^<2)>。光学的には、歪みのない露光には低エミッタンス放射光源と狭いエネルギー幅を用いることが有効である。一方、レジスト材については高分子材料の反応が像の歪みに大きく影響するため、膜についてよく定義された制御条件を求めて単分子膜形成と光重合反応、および膜内分子間相互作用が評価された^<3)>。その結果、重合の前提となる良質な単分子膜の配列について制御条件が求められた^<4)>。1)M.Morigami et al. : Photon Factory Activity Report 1989.p.241.2)A.Saito et al. : Proceedings of the 9th international conference on production engineering 1999.p.787-791.3)Y.Kuwahara.A.Saito, and M.Aono :生産と技術.Vol.51(4).1999.p.55.4)G.Zhang. Y.Kuwahara. J.Wu. M.Akai. A.Saito and M.Aono : Surf.Sci.Lett. in press.

Non-symmetrical reflection of X-ray reduced exposure, image distortion and generation of the report, the study of the process of light. This report discusses the reasons for the discrepancy between the image reduction ratio in the horizontal direction, the positional relationship between the beam splitter and the optical element, and the angular dispersion. The problem of image distortion is discussed in the literature. The principle of reflection is discussed in the literature.(The dispersion of incident light, the dispersion of wave field), the penetration of light and the penetration of light are deeply related.) This paper discusses the causes of image distortion in detail, the light exposure conditions, the reflection principles and the reflection characteristics of the materials. The former is important for the understanding of the kinetic regression phenomenon, the investigation of the distortion of the ratio field, and the study of the principle of the kinetic regression of the acid crystallization. Optics: Light source, narrow range, wide range. A single molecule film is formed by the reaction of polymer materials, the reflection of polymer images, the definition of polymer films, the determination of control conditions, and the evaluation of molecular interactions within polymer films. The results, coincidence conditions, and alignment conditions of good quality single molecular films are discussed. 1)M.Morigami et al. : Photon Factory Activity Report 1989.p.241.2)A.Saito et al. : Proceedings of the 9th international conference on production engineering 1999.p.787-791.3)Y.Kuwahara.A.Saito, and M.Aono : Production and Technology. Vol. 51 (4). 1999.p.55.4) G. Zhang. Y.Kuwahara. J.Wu. M.Akai. A.Saito and M.Aono : Surf.Sci.Lett. in press.

项目成果

Yuji Kuwahara: "Control of Two Dimensional Surface Structure of Self-Assembled Organic Molecules"生産と技術. Vol.51,4. 55-58 (1999)

Yuji Kuwahara：“自组装有机分子的二维表面结构的控制”生产和技术第 51,4 卷（1999 年）。

H.Oyanagi: "Rapid and Sensitive XAFS using a tunalle X-ray undulator at BLIOXV of Spring-8"Journal of Synchrotron Radiation. 7.part 2. 89-94 (2000)

H.Oyanagi：“在 Spring-8 的 BLIOXV 上使用 tunalle X 射线波荡器进行快速灵敏的 XAFS”同步辐射杂志。

Akira SAITO: "Newly Applied X-ray Standing Wave Analysis to the YSZ crystal"Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering, JSPE publication series No.3. 787-791 (1999)

Akira SAITO：“YSZ 晶体新应用的 X 射线驻波分析”第九届国际生产工程会议论文集，JSPE 出版物系列第 3 期。

Akira SAITO: "Preliminary Study for the X-ray Standing Wave Analysis of the Electrecle Zirconia Interface"SPring-8 User Experiment Reprot. No.3. 103 (1999)

Akira SAITO：“Electrecle Zirconia 界面 X 射线驻波分析的初步研究”SPring-8 用户实验报告。

Akira SAITO: "Newly Applied X-ray Stancling Wave Analysis to the YSZ Crystal"Proceedings of the 9th International Conference on Production Engineering, JSPE pullication series No.3. 787-791 (1999)

Akira SAITO：“Newly Applied X-ray Stanling Wave Analysis to the YSZ Crystal”第九届国际生产工程会议论文集，JSPE 论文集第 3 期。