分子動力学法によるITOのドーピング機構の解明と構造最適化

利用分子动力学方法阐明ITO的掺杂机理和结构优化

基本信息

  • 批准号:
    11750581
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.47万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    1999
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1999 至 2000
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

透明電導性酸化物ITO(Tin doped Indium Oxide)において、SnはInサイトに置換固溶するといわれるが、置換したSn周りの酸素は、置換に伴い緩和されなければならない。さらに、Snの置換に伴い、格子中の電荷のバランスを補うために、格子間に酸素が取り込まれる。一方、スパッタリングにより作製されるITO薄膜は、その製膜条件により、結晶の配向性やSnの取り込み量が異なることが知られている。本研究では、そのようなSnドーピングによる緩和構造を基に、ITO中のSnのドーピングにともなう構造変化を分子動力学法シミュレーションにより調べ、電気伝導度とSnの固溶量・過剰酸素の取り込み量などの実験データと、本研究で得られたシミュレーション結果を比較することにより、より高い電気伝導性を有するITOの構造を検討することが研究の目的である。本年度は、分子動力学シミュレーションの最も重要なポイントとなるポテンシャルの検討を行った。ポテンシャルの型は、酸化物で最も一般的なBorn-Mayer型2体ポテンシャルを用いた。本研究では、構造情報を最も重要視するため、酸化インジウムの複雑な構造をほぼ完全に再現するようなポテンシャルを探査した。同様に、Snのポテンシャルについては酸化スズの結晶構造を用いた。実際には、NTVアンサンブルで、系の圧力が常圧(latm)になるようなポテンシャルを調査し、得られたポテンシャルを用いてNTPアンサンブルで実際のシミュレーションの条件での結果、構造の再現性が認めれられた。そこで、それらのポテンシャルセットを用いて、ITOのシミュレーションを行った。まず、分子動力学に用いるITOの基本セルを構築した。2In^<3+>=2Sn^<4+>+O^<2->と考え、格子内の電荷の中性を考えると、2個のInと2個のSnが置換すると、酸素1個が過剰に格子間に取り込まれる。このようなセルを構築し、分子動力学シミュレーションを行い、Snの置換位置や、格子間酸素の挙動を調べ、酸素6配位のSnは、結晶学で言うb-siteが安定で、置換により格子内に取り込まれた酸素を配位し7配位になったSnは、d-siteが安定であるという結果が得られた。そして、系の温度を上げ、酸素の拡散挙動を調べた結果、d-siteに置換したSn周りには酸素がトラップされやすく、一方のb-siteに置換したSnまわりには酸素のトラップは比較的少なく、b-siteに置換したSnは活性、すなわち、電子伝導性に寄与していると考えられる。このような過剰酸素の挙動の結果から、Snをb-siteに多く置換した構造をもったITOの電気伝導性が高いことがシミュレーションから得られた最適化構造であった。
ITO(Tin Doped Indium Oxide) is a transparent conductive acid compound. In addition, the replacement of Sn is accompanied by the replacement of the charge in the lattice, and the acid between the lattices is removed. The ITO thin films were prepared under different film preparation conditions, and the orientation of Sn was different. In this study, we compared the results of molecular dynamics method, electrical conductivity, Sn solid solubility, acid content, etc. to the results of molecular dynamics method, and compared the results of molecular dynamics method. The purpose of this study is to study the structure of ITO with high conductivity. This year, the most important molecular dynamics study was conducted. The most common Born-Mayer type 2-body complex is used. This study explores the most important aspect of structural information, including structural reconstruction. In the same way, Sn can be used as a crystal structure. In practice, the NTP-enabled system pressure is constant (latm), and the system pressure is constant (latm). The system pressure is constant (latm). In addition to the above, it is also possible to use ITO as a solution to the problem. The basic structure of ITO in molecular dynamics 2In^&lt;3+&gt;=2Sn^&lt;4+&gt;+O^<2->&lt;3 +&gt;, the charge in the lattice is neutral, 2 In and 2 Sn are substituted, and 1 acid is substituted between the lattices. The structure of the molecule, molecular dynamics, substitution position of Sn, lattice acid element movement, acid element 6 coordination of Sn, crystallography, b-site stability, substitution, lattice acid element 7 coordination of Sn, d-site stability, etc. As a result, as the temperature of the system increases and the dispersion of acid is adjusted, the acid can be replaced every time the d-site is replaced, the acid can be replaced every time the b-site is replaced, the acid can be replaced every time the b-site is replaced, and the activity, conductivity and electronic conductivity of the b-site replaced Sn can be considered. The structure of ITO with high conductivity and high conductivity can be optimized.

项目成果

期刊论文数量(6)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
宇都野太、安井至: 第31回分子シミュレーション討論会. (1999)
Futoshi Utsuno,Itaru Yasui:第 31 届分子模拟研讨会(1999 年)。
  • DOI:
  • 发表时间:
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    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
宇都野太 他3名: "SnO2の欠陥構造の分子動力学シミュレーション"セラミックス基礎科学討論会. 138-138 (2001)
Futoshi Utsuno 等 3 人:“SnO2 中缺陷结构的分子动力学模拟”陶瓷基础科学论坛 138-138 (2001)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
宇都野太,安井至: "融体からのMgOの結晶成長シミュレーション"分子シミュレーション討論会. 88-88 (2001)
Futoshi Utsuno、Itaru Yasui:“从熔体中模拟 MgO 晶体生长”分子模拟研讨会 88-88(2001 年)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
宇都野太,安井至: "MgO(100)(111)基板上へのMgO薄膜の成長シミュレーション"計算化学シンポジウム. 67-67 (2000)
Futoshi Utsuno、Itaru Yasui:“MgO(100)(111) 基板上 MgO 薄膜生长的模拟”计算化学研讨会 67-67 (2000)。
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    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
F.Utsuno,I.Yasui: "Growth simulation of MgO on MgO(100) substrate with a step-terrace structure"1^<st> Conference of Crystal Groth and Technology. 127-127 (2000)
F.Utsuno,I.Yasui:“具有阶梯平台结构的 MgO(100) 衬底上 MgO 的生长模拟”1^<st> 晶体生长与技术会议。
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    尾原幸治;冨中悟史;山田大貴;高橋勝國;山口展史;宇都野 太;梅木孝;八百篤史;中田謙吾;廣井慧;辻成希;脇原徹;櫻井吉晴
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    2020
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  • 通讯作者:
    樋口 弘幸

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