強誘電体薄膜作成に向けたBa-Si界面反応の制御
控制Ba-Si界面反应以制备铁电薄膜
基本信息
- 批准号:12750029
- 负责人:
- 金额:$ 1.41万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份:2000
- 资助国家:日本
- 起止时间:2000 至 2001
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
本研究課題では、酸化物強誘電体の一種であるチタン酸バリウム薄膜をシリコン基板上に作成する際に問題になるバリウム(Ba)-シリコン(Si)反応について、走査型トンネル顕微鏡(STM)を用いて、主に構造と言う観点から研究を行なった。その内容は次の通りである。BaをSi(100)表面上に吸着させると様々な表面超構造を取ることが低速電子回折(LEED)の研究より知られている。しかしながらSTMによる実空間での報告例はほとんど無く、吸着構造が明らかにされていなかった。そこで、表面超構造のうち、(1)2x3とc(2x6)、(2)1x2、(3)シリサイドのそれぞれの構造についてSTM観察を行なった。まず、(1)についてはc(2x6)は2x3と同じ構成要素を有しており2x3が2x方向に半周期ずれることで形成されること、2x3構造はBa吸着量に依存せず1つの吸着構造しかないことを明らかにし、新しい吸着モデルを提唱した。次に(2)については、Baは表面でジグザグなチェーン形吸着構造をとり、この構造は鏡像な2つのユニットから成り立つことを明らかにした。また、ダイマー化したSi表面上にBaが吸着するモデルを提唱し、Baの吸着構造に関係無く電子回折で1x2が観察されることを説明した。(3)については、基板を加熱した状態でBaを吸着させるとテラス幅が広がり3つの表面構造が形成されるが、Baを蒸着後に試料を加熱すると表面はパッチで覆われ、2つの構造しか形成されないことが分かった。さらに、トンネル分光を測定することでシリサイドのギャップは約1.3eVであること、さらにある一つの構造は約2.5eVにピークを持ちこれはこれまでに光電子分光の研究で報告されているピークに対応することを明らかにした。最後に、Si基板の水素終端化について、Baは表面でクラスター化することから反応の制御の可能性があることを見出した。
This research topic で は, acidification of strong electricity body の lure a で あ る チ タ ン acid バ リ ウ ム film を シ リ コ ン substrate に made す る interstate に problem に な る バ リ ウ ム (Ba) - シ リ コ ン (Si) against 応 に つ い て, walkthroughs ト ン ネ ル 顕 micro mirror (STM) を い て う, Lord に structure と words 観 point か ら を line な っ た. The content of そ である is similar to そ である. Ba に を Si (100) surface sorption さ せ る と others 々 な surface ultra structure を take る こ と が electronic inflexion at low speed (LEED) の よ り know ら れ て い る. し か し な が ら STM に よ る be space で の report cases は ほ と ん ど く, smoking a tectonic が Ming ら か に さ れ て い な か っ た. そ こ で, surface ultra structure の う ち, (1) 2 x3 と c (2 x6), 1 x2 (2), (3) シ リ サ イ ド の そ れ ぞ れ の tectonic に つ い て STM 観 examine を line な っ た. ま ず, (1) に つ い て は c (2 x6) は 2 x3 と with じ components を have し て お り 2 x3 が 2 x direction に half cycle ず れ る こ と で form さ れ る こ と, 2 x3 structural は Ba the uptake に dependent せ ず 1 つ の sorption tectonic し か な い こ と を Ming ら か に し, new し い sorption モ デ ル を mention sing し た. に (2) に つ い て は, Ba は surface で ジ グ ザ グ な チ ェ ー ン form smoking a tectonic を と り, こ の tectonic は mirror な 2 つ の ユ ニ ッ ト か ら made into り つ こ と を Ming ら か に し た. ま た, ダ イ マ ー change し た に Ba Si surface が sorption す る モ デ ル を sing し, Ba の sorption tectonic に masato is no く electronic inflexion で 1 x2 が 観 examine さ れ る こ と を illustrate し た. (3) に つ い て は, substrate を heating し た state で Ba を sorption さ せ る と テ ラ ス picture が hiroo が り 3 つ の tectonic が formation on the surface of さ れ る が, Ba を steamed after に sample を heating す る と surface は パ ッ チ で fu わ れ, 2 つ の tectonic し か form さ れ な い こ と が points か っ た. さ ら に, ト ン ネ ル spectroscopic determination of を す る こ と で シ リ サ イ ド の ギ ャ ッ プ は is about 1.3 eV で あ る こ と, さ ら に あ る a つ は の structure is about 2.5 eV に ピ ー ク を hold ち こ れ は こ れ ま で に photoelectron spectroscopic の study で report さ れ て い る ピ ー ク に 応 seaborne す る こ と を Ming ら か に し た. Finally に, Si substrate の water element terminal に つ い て, Ba は surface で ク ラ ス タ ー change す る こ と か ら anti 応 の suppression の possibility が あ る こ と を shows し た.
项目成果
期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
小嶋 薫: "走査型トンネル顕微鏡によるBa/Si(100)の成長過程の観察"真空. 44・3. 358 (2001)
小岛薰:“使用扫描隧道显微镜观察Ba/Si(100)的生长过程”真空44・3。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Kaoru Ojima: "New structural model of Si(100)2x3-Ba surface"Proceedings of The 4th Japan-Russia Seminar on Semiconductor Surfaces. 201-205 (2001)
小岛薰:《Si(100)2x3-Ba表面的新结构模型》第四届日俄半导体表面研讨会论文集。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Kaoru Ojima: "Effect of Hydrogen Termination on Ba Reaction on the Si(100) Surface"Japanese Journal of Applied Physics. 40・6B. 4384-4387 (2001)
小岛薰:“氢终止对 Si(100) 表面 Ba 反应的影响”日本应用物理学杂志 40・6B 4384-4387 (2001)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Kaoru Ojima: "STM observation of the 2x3 and c(2x6) structures on Ba/Si(100)"Surface Science. 491. 169-174 (2001)
Kaoru Ojima:“Ba/Si(100) 上 2x3 和 c(2x6) 结构的 STM 观察”表面科学。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Kaoru Ojima: "Observation of the Si(100)"1x2"-Ba surface by scanning tunneling microscopy"Physical Review B. 65. 075408 (2002)
小岛薰:“通过扫描隧道显微镜观察 Si(100)”1x2”-Ba 表面”Physical Review B. 65. 075408 (2002)
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
小嶋 薫其他文献
小嶋 薫的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
相似海外基金
リチウムイオン電池における層状シリコン負極の反応制御およびその反応機構の解明
锂离子电池层状硅负极反应控制及反应机理阐明
- 批准号:
23K21150 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
ワイドギャップシリコン新材料:シリコン同素体Si46はエピタキシャル成長するか?
新型宽禁带硅材料:硅同素异形体Si46可以外延生长吗?
- 批准号:
24K07584 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
シリコンMOS構造を基盤とした電子流体エレクトロニクス創生
基于硅MOS结构的电子流体电子器件的创建
- 批准号:
24H00312 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
次世代高エネルギー重イオン衝突実験に向けた先進的シリコン検出器開発
开发用于下一代高能重离子碰撞实验的先进硅探测器
- 批准号:
24K00663 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
フレキシブルテラヘルツデバイスに向けたシリコン有効媒質材料の基盤研究
柔性太赫兹器件硅有效介质材料基础研究
- 批准号:
24K00933 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
シリコン塑性変形技術を用いた高角度分解能で軽量な次世代X線望遠鏡の開発
利用硅塑性变形技术开发下一代高角分辨率轻型X射线望远镜
- 批准号:
24K17090 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
多結晶シリコン基板を用いたⅢ族窒化物半導体面状発光デバイスの開発に関する研究
使用多晶硅衬底的III族氮化物半导体平面发光器件的开发研究
- 批准号:
24K07603 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
多孔質炭素へのシリコンおよび熱分解炭素被覆によるリチウムイオン電池負極材料の合成
多孔碳上硅与热解碳包覆合成锂离子电池负极材料
- 批准号:
24K08589 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
高圧相変態が拓くシリコン―ゲルマニウム合金の結晶多型と新奇物性解明
阐明高压相变开发的硅锗合金的晶体多态性和新的物理性能
- 批准号:
23K26405 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
単結晶シリコンの多条微細V溝構造をかみ合わせた直動ステージ
单晶硅互锁多排微V型槽结构线性平台
- 批准号:
24K07255 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 1.41万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)