マイクロエレクトロメカノキャタリストの創製
マイクロエレクトロメカノキャタリストの創製
批准号:
14654127
负责人:
朝倉 清高
金额:
$1.86万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2002
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2002 至 2003
中文摘要
本研究は、チップ型触媒とマイクロエレクトロマシンシステム(MEMS)を一体化した集積型インテリジェント触媒-マイクロエレクトロメカノキャタリスト(MEMC)を創製することを最終の目的としており,そのプロトタイプを作製して,インテリジェント触媒としての可能性探求を行う。具体的には、以下の基礎技術の確立、可能性の探求を行った。1.Siに酸化物触媒の図形をリソグラフィー法で設計制作した。とくにVSbO4-Sb2O4の短冊状に交互に蒸着し、その幅をミクロンオーダで制御した新しいマイクロキャタリストの作成技術を確立した。また、こうした短冊状の形を有する触媒の活性が向上することも見いだした。2.酸化物触媒図形と近接して、電極を付与し、集積型インテリジェント触媒の原型を作った。CuをSb2O4の直下に選択的に埋め込むことで、Sb2O4に電場をかけることができる。3.小表面積触媒の触媒作用を有効に調べる高感度反応装置を設計・制作した。特にパルスガスを断続的に触媒表面に吹き付け、質量分析器をそれと連動させながら、働かせることで、わずかな生成物をとらえることができるようになった。4.MEMCの触媒作用を調べるためのEXPEEM法、XANAM法などのキャラクタリゼーション手法を開発した。すなわち、不均一な分布を持つMEMCの各部分ごとに元素、化学分析できるEXPEEM法やXANAM法を開発することで、in-situ条件下での状態変化をしることができ、化学反応のメカニズムの解明につながることが期待される。今後、これまでの成果をもとに、MEMCの本格的な開発研究に取り組み、外部電場により、触媒作用を制御した新しいインテリジェント触媒実現を目指す。
英文摘要
本研究は、チップ型触媒とマイクロエレクトロマシンシステム(MEMS)を一体化した集積型インテリジェント触媒-マイクロエレクトロメカノキャタリスト(MEMC)を創製することを最終の目的としており,そのプロトタイプを作製して,インテリジェント触媒としての可能性探求を行う。具体的には、以下の基礎技術の確立、可能性の探求を行った。1.Siに酸化物触媒の図形をリソグラフィー法で設計制作した。とくにVSbO4-Sb2O4の短冊状に交互に蒸着し、その幅をミクロンオーダで制御した新しいマイクロキャタリストの作成技術を確立した。また、こうした短冊状の形を有する触媒の活性が向上することも見いだした。2.酸化物触媒図形と近接して、電極を付与し、集積型インテリジェント触媒の原型を作った。CuをSb2O4の直下に選択的に埋め込むことで、Sb2O4に電場をかけることができる。3.小表面積触媒の触媒作用を有効に調べる高感度反応装置を設計・制作した。特にパルスガスを断続的に触媒表面に吹き付け、質量分析器をそれと連動させながら、働かせることで、わずかな生成物をとらえることができるようになった。4.MEMCの触媒作用を調べるためのEXPEEM法、XANAM法などのキャラクタリゼーション手法を開発した。すなわち、不均一な分布を持つMEMCの各部分ごとに元素、化学分析できるEXPEEM法やXANAM法を開発することで、in-situ条件下での状態変化をしることができ、化学反応のメカニズムの解明につながることが期待される。今後、これまでの成果をもとに、MEMCの本格的な開発研究に取り組み、外部電場により、触媒作用を制御した新しいインテリジェント触媒実現を目指す。
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Ohminami, Y., Asakura, K.: "Preparation and characterization of microfabricated α-Sb_2O_4/VSbO_4 thin films by electron-beam lithography"(To be published).
Ohminami, Y., Asakura, K.:“电子束光刻微加工 α-Sb_2O_4/VSbO_4 薄膜的制备和表征”(待发表)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
[]
通讯作者:
Y.Yasufuku, K.Asakura: "Observation of Energy Filtered Image for X-ray Photoemission Electron Microscopy(XPEEM) Using a Retarding Wien Filter Energy Analyzer"Chem.Lett.. 8. 842-843 (2002)
Y.Yasufuku、K.Asakura:“使用延迟维恩滤波器能量分析仪观察 X 射线光发射电子显微镜 (XPEEM) 的能量过滤图像”Chem.Lett.. 8. 842-843 (2002)
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Suzuki, S., Asakura, K.: "The first observation of a non-contact AFM image of MoO3(010) on an atomic level"Chem.Lett. 1098-1099s (2003)
Suzuki, S., Asakura, K.:“首次在原子水平上观察到 MoO3(010) 的非接触式 AFM 图像”Chem.Lett。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
鈴木秀士, 朝倉清高: "電子線リソグラフィー法による薄膜型微細加工酸化物触媒の調製とそのキャラクタリゼーション"触媒. 44巻6号. 386-388 (2002)
Hideshi Suzuki、Kiyotaka Asakura:“电子束光刻薄膜微制造氧化物催化剂的制备及其表征”,《催化剂》,第 44 卷,第 6 期,386-388 (2002)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
鈴木秀士, 大南祐二, 朝倉清高: "Well-defined inhomogenous catalysts-their reactivity and characterization"Petrotec. 26. 206-210 (2003)
Hideshi Suzuki、Yuji Onami、Kiyotaka Asakura:“明确定义的非均相催化剂 - 它们的反应性和表征”Petrotec。26。206-210(2003)
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 6 条
Ultra Fast X-ray absorption study on photo-excited electron in Pt / one-atomic layer ox ide systems
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批准号:22KF0009
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.47万
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财政年份:2023
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
超高速X線吸収分光による1原子層酸化物担持白金光触媒の光励起電荷移動ダイナミクス
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批准号:22F21331
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.09万
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财政年份:2022
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
超高速X線吸収分光による1原子層酸化物担持白金光触媒の光励起電荷移動ダイナミクス
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批准号:21F21331
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2021
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
Application of Ultra Highly Sensitive PTRF-XAFS to Pt Alloy Nanoparticle Fuel Cell Catalysts
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批准号:20H00367
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$28.79万
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财政年份:2020
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
表面X線分光による燃料電池用白金合金ナノ粒子のin situ解析と酸素還元活性
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批准号:16F16795
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2016
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
酸化物表面欠陥によるナノクラスターの制御と触媒作用
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批准号:20047001
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$2.82万
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财政年份:2008
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
物理的手段による表面反能素過程の精密制御
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批准号:04F04383
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.54万
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财政年份:2004
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
温度傾斜による表面自己組織構造の伝播プロセスの制御
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批准号:09229218
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1997
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
白金表面層Subsurface酸素の挙動と飽和炭化水素の活性化
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批准号:08640754
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$1.22万
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财政年份:1996
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
濃度傾斜表面による表面化学波の伝播プロセス制御
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批准号:08243218
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$0.83万
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财政年份:1996
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
高分散金属微粒子と酸化物基板との界面における化学結合状態に関する構造的研究
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批准号:07640766
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1995
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
熱および光により誘起された準安定励起表面の構造制御と小分子活性化
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批准号:04241205
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1992
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
In-situ蛍光XAFS法による金属表面におけるS,PとCOの共吸着構造
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批准号:03740234
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1991
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
二段階固定化法によりシリカ表面に精密合成した酸化バナジウム超薄膜触媒に関する研究
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批准号:01750748
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1989
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
全反射蛍光偏光EXAFS法による白金表面上におけるエチレン水素化反応機構の研究
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批准号:63740239
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1988
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负责人:朝倉 清高
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依托单位:
偏光全反射蛍光 EXAFS 法による固体触媒表面の研究
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批准号:60740229
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1985
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负责人:朝倉 清高
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依托单位: