高分散金属微粒子と酸化物基板との界面における化学結合状態に関する構造的研究

高分散金属微粒与氧化物基体界面化学键状态的结构研究

• 批准号: 07640766
• 负责人: 朝倉 清高
• 金额: $ 1.28万
• 依托单位: The University of Tokyo
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
• 财政年份: 1995
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1995 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-07640766/
• 关键词: EXAFS; 偏光全反射; 蛍光EXAFS; 単結晶表面; 触媒; 担体金属相互作用

本研究では、偏光全反射蛍光EXAFS法を発展させ、低温から室温まで測定温度を変化させてEXAFSを測定し、基板と超微粒子との結合の強さや相互作用ポテンシヤルを決定し、理論計算と比較することにより、基板と金属超微粒子との界面化学結合状態や電子移行の度合についての新しい知見を得るとともに、超微粒子の物性や反応性に対し、基板の持つ物理的化学的な役割に関し、構造的側面から明らかにする事を目的とし,以下の事柄を行った.1)全反射蛍光EXAFSによるPt/A1203,Mo/Ti02の表面構造の決定室温において、新たにPt/A1203,Mo/Ti02の系の全反射蛍光EXAFSを測定し,その表面構造の決定に成功した.2)低温用in-situ全反射蛍光EXAFS装置の製作温度を低温50K-300Kまで変化させ,EXAFSを測定するための装置を設計製作した.特徴としては,活性処理後,反応後,外気と触れさせずにin-situ条件で,測定セルに移し,偏光全反射蛍光EXAFSを測定できるようにしたものである.3)検出器の評価セルを用いた場合,蛍光を取り出せる有効面積が減るため,通常よりも小型の検出器を使用する必要がある.そこで,CdTe,小型シンチレーションについてその性能と本研究に応用したときの長所短所を検討した.その結果,CdTeは,感度が高く,非常にコンパクトにできるものの,雑音レベルが小型シンチレーシヨンより高いため,本実験には適さず,小型シンチレーシヨンカウンターを用いて測定することにした.温度可変EXAFSの測定平成7年11月文部省高エネルギー研究所の放射光実験施設で第1回の測定を試みたが,低温装置と全反射調節装置との接合があわず,全反射ビームを取り出すことができなかった.現在,その点を改良し,平成8年春の実験に備えている.

This study で は, polarization method of total reflection light 蛍 EXAFS を 発 exhibition さ せ, low temperature か ら room-temperature ま で を measurement temperature variations change さ せ て EXAFS を determination し, substrate と utrasmall particle と の combined with strong の さ や interaction ポ テ ン シ ヤ ル を decided し, comparison of theoretical calculation と す る こ と に よ り, substrate と metal utrasmall particle と の や electronic interface chemical bonding state Transitional の degrees or に つ い て の new し い knowledge を have る と と も に, utrasmall particle の sexual や anti 応 に し seaborne, substrate の つ cut physical chemistry な service に masato し, structure profile か ら Ming ら か に す る matter を purpose と し, handle the following の things を line っ た. 1) the total reflection 蛍 light EXAFS に よ る Pt/A1203, Mo/Ti02 の surface Tectonic の decided to room temperature に お い て, new た に Pt/A1203, Mo/Ti02 の is の determination of total reflection light 蛍 EXAFS を し, そ の surface structure の decided に successful し た. 2) low temperature with the in - situ total reflection 蛍 light EXAFS device を の production temperature low temperature 50 k to 300 k ま で variations change さ せ, EXAFS を す Youdaoplaceholder0 るため device を design and manufacture た た. Special 徴 と し て は, active 処 reason, after the 応 outside 気 と touch れ さ せ ず に で the in - situ condition, the determination of セ ル に し, polarization determination of total reflection light 蛍 EXAFS を で き る よ う に し た も の で あ る. 3) 検 extractor の review 価 セ ル を with い た occasions, 蛍 を take り out light せ が る have working area reduction る た め, usually よ り も small の 検 extractor を use す る necessary が あ る. そ こ で, CdTe, small シ ン チ レ ー シ ョ ン に つ い て そ の performance と this study に 応 with し た と き の is short long を beg し 検 た. そ の results, CdTe は, sensitivity high が く, very に コ ン パ ク ト に で き る も の の, 雑 sound レ ベ ル が small シ ン チ レ ー シ ヨ ン よ り high い た め, this be 験 に は optimum さ ず, small シ ン チ レ ー シ ヨ ン カ ウ ン タ ー を with い て determination す る こ と に し た. Temperature can - determination of EXAFS の pp.47-53 November 7 or higher エ ネ ル ギ ー institute の radiation light be 験 facilities で 1 back の determination を み た が, cryogenic device と total reflection conditioning と の joint が あ わ ず, total reflection ビ ー ム を take り out す こ と が で き な か っ た. Now,そ を is to be improved を. In the spring of Heisei 8, <s:1> experiment に is available at えて る る.

项目成果

W.J.Chun et al: "AppliCation of CdTeSSD to PTRFXAFS Measure ment" J.Synchro Radiation. (in press). (1996)

W.J.Chun 等人：“CdTeSSD 在 PTRFXAFS 测量中的应用”J.Synchro Radiation。

K.Asakura et aI.: "In-situ asymmetric structure anaIysis of Pt clusters on a-Al203(0001)in Hz reduetion and NO adsorption" Physica B. 208/209. 637-640 (1995)

K.Asakura 等人：“Hz 还原和 NO 吸附中 a-Al2O3(0001) 上 Pt 簇的原位不对称结构分析”Physica B. 208/209。

W.J.Chun et at.: "Surface Structure change of a [Pt_4(mu-CH3cou)_8/SCO_2Cafalyst active for the Decomposition of Formic A cid" J.Chem.Soc.,Faraday Trans.91. 4161-4170 (1995)

W.J.Chun 等人：“[Pt_4(mu-CH3cou)_8/SCO_2Cafalyst 对甲酸分解活性的表面结构变化”J.Chem.Soc.，Faraday Trans.91。

K.AsaKura.et.al.: "A local structure of P adsorbedon Ni(7.9.11)Step surface" Physica B. 208/209. 465-466 (1995)

K.AsaKura.et.al.：“P 吸附在 Ni(7.9.11)Step 表面上的局部结构”Physica B. 208/209。

W,J.Chun et at.: "PTR X-ray absorption fine structure as a new technique for cataIyst characteri zation" J.MoI.Catal. (in piess). (1996)

W,J.Chun 等人：“PTR X 射线吸收精细结构作为催化剂表征的新技术”J.Mol.Catal。