高分散金属微粒子と酸化物基板との界面における化学結合状態に関する構造的研究
高分散金属微粒子と酸化物基板との界面における化学結合状態に関する構造的研究
批准号:
07640766
负责人:
朝倉 清高
金额:
$1.28万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1995
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1995 至 --
中文摘要
本研究では、偏光全反射蛍光EXAFS法を発展させ、低温から室温まで測定温度を変化させてEXAFSを測定し、基板と超微粒子との結合の強さや相互作用ポテンシヤルを決定し、理論計算と比較することにより、基板と金属超微粒子との界面化学結合状態や電子移行の度合についての新しい知見を得るとともに、超微粒子の物性や反応性に対し、基板の持つ物理的化学的な役割に関し、構造的側面から明らかにする事を目的とし,以下の事柄を行った.1)全反射蛍光EXAFSによるPt/A1203,Mo/Ti02の表面構造の決定室温において、新たにPt/A1203,Mo/Ti02の系の全反射蛍光EXAFSを測定し,その表面構造の決定に成功した.2)低温用in-situ全反射蛍光EXAFS装置の製作温度を低温50K-300Kまで変化させ,EXAFSを測定するための装置を設計製作した.特徴としては,活性処理後,反応後,外気と触れさせずにin-situ条件で,測定セルに移し,偏光全反射蛍光EXAFSを測定できるようにしたものである.3)検出器の評価セルを用いた場合,蛍光を取り出せる有効面積が減るため,通常よりも小型の検出器を使用する必要がある.そこで,CdTe,小型シンチレーションについてその性能と本研究に応用したときの長所短所を検討した.その結果,CdTeは,感度が高く,非常にコンパクトにできるものの,雑音レベルが小型シンチレーシヨンより高いため,本実験には適さず,小型シンチレーシヨンカウンターを用いて測定することにした.温度可変EXAFSの測定平成7年11月文部省高エネルギー研究所の放射光実験施設で第1回の測定を試みたが,低温装置と全反射調節装置との接合があわず,全反射ビームを取り出すことができなかった.現在,その点を改良し,平成8年春の実験に備えている.
英文摘要
本研究では、偏光全反射蛍光EXAFS法を発展させ、低温から室温まで測定温度を変化させてEXAFSを測定し、基板と超微粒子との結合の強さや相互作用ポテンシヤルを決定し、理論計算と比較することにより、基板と金属超微粒子との界面化学結合状態や電子移行の度合についての新しい知見を得るとともに、超微粒子の物性や反応性に対し、基板の持つ物理的化学的な役割に関し、構造的側面から明らかにする事を目的とし,以下の事柄を行った.1)全反射蛍光EXAFSによるPt/A1203,Mo/Ti02の表面構造の決定室温において、新たにPt/A1203,Mo/Ti02の系の全反射蛍光EXAFSを測定し,その表面構造の決定に成功した.2)低温用in-situ全反射蛍光EXAFS装置の製作温度を低温50K-300Kまで変化させ,EXAFSを測定するための装置を設計製作した.特徴としては,活性処理後,反応後,外気と触れさせずにin-situ条件で,測定セルに移し,偏光全反射蛍光EXAFSを測定できるようにしたものである.3)検出器の評価セルを用いた場合,蛍光を取り出せる有効面積が減るため,通常よりも小型の検出器を使用する必要がある.そこで,CdTe,小型シンチレーションについてその性能と本研究に応用したときの長所短所を検討した.その結果,CdTeは,感度が高く,非常にコンパクトにできるものの,雑音レベルが小型シンチレーシヨンより高いため,本実験には適さず,小型シンチレーシヨンカウンターを用いて測定することにした.温度可変EXAFSの測定平成7年11月文部省高エネルギー研究所の放射光実験施設で第1回の測定を試みたが,低温装置と全反射調節装置との接合があわず,全反射ビームを取り出すことができなかった.現在,その点を改良し,平成8年春の実験に備えている.
期刊论文(10)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
W.J.Chun et al: "AppliCation of CdTeSSD to PTRFXAFS Measure ment" J.Synchro Radiation. (in press). (1996)
W.J.Chun 等人:“CdTeSSD 在 PTRFXAFS 测量中的应用”J.Synchro Radiation。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
K.Asakura et aI.: "In-situ asymmetric structure anaIysis of Pt clusters on a-Al203(0001)in Hz reduetion and NO adsorption" Physica B. 208/209. 637-640 (1995)
K.Asakura 等人:“Hz 还原和 NO 吸附中 a-Al2O3(0001) 上 Pt 簇的原位不对称结构分析”Physica B. 208/209。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
W.J.Chun et at.: "Surface Structure change of a [Pt_4(mu-CH3cou)_8/SCO_2Cafalyst active for the Decomposition of Formic A cid" J.Chem.Soc.,Faraday Trans.91. 4161-4170 (1995)
W.J.Chun 等人:“[Pt_4(mu-CH3cou)_8/SCO_2Cafalyst 对甲酸分解活性的表面结构变化”J.Chem.Soc.,Faraday Trans.91。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
K.AsaKura.et.al.: "A local structure of P adsorbedon Ni(7.9.11)Step surface" Physica B. 208/209. 465-466 (1995)
K.AsaKura.et.al.:“P 吸附在 Ni(7.9.11)Step 表面上的局部结构”Physica B. 208/209。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
W,J.Chun et at.: "PTR X-ray absorption fine structure as a new technique for cataIyst characteri zation" J.MoI.Catal. (in piess). (1996)
W,J.Chun 等人:“PTR X 射线吸收精细结构作为催化剂表征的新技术”J.Mol.Catal。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Ultra Fast X-ray absorption study on photo-excited electron in Pt / one-atomic layer ox ide systems
-
批准号:22KF0009
-
项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
-
资助金额:$1.47万
-
财政年份:2023
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
超高速X線吸収分光による1原子層酸化物担持白金光触媒の光励起電荷移動ダイナミクス
-
批准号:22F21331
-
项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
-
资助金额:$1.09万
-
财政年份:2022
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
超高速X線吸収分光による1原子層酸化物担持白金光触媒の光励起電荷移動ダイナミクス
-
批准号:21F21331
-
项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
-
资助金额:$1.41万
-
财政年份:2021
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
Application of Ultra Highly Sensitive PTRF-XAFS to Pt Alloy Nanoparticle Fuel Cell Catalysts
-
批准号:20H00367
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
-
资助金额:$28.79万
-
财政年份:2020
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
表面X線分光による燃料電池用白金合金ナノ粒子のin situ解析と酸素還元活性
-
批准号:16F16795
-
项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
-
资助金额:$1.41万
-
财政年份:2016
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
酸化物表面欠陥によるナノクラスターの制御と触媒作用
-
批准号:20047001
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$2.82万
-
财政年份:2008
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
物理的手段による表面反能素過程の精密制御
-
批准号:04F04383
-
项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
-
资助金额:$1.54万
-
财政年份:2004
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
マイクロエレクトロメカノキャタリストの創製
-
批准号:14654127
-
项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
-
资助金额:$1.86万
-
财政年份:2002
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
温度傾斜による表面自己組織構造の伝播プロセスの制御
-
批准号:09229218
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$1.34万
-
财政年份:1997
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
濃度傾斜表面による表面化学波の伝播プロセス制御
-
批准号:08243218
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$0.83万
-
财政年份:1996
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
白金表面層Subsurface酸素の挙動と飽和炭化水素の活性化
-
批准号:08640754
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额:$1.22万
-
财政年份:1996
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
熱および光により誘起された準安定励起表面の構造制御と小分子活性化
-
批准号:04241205
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$0.64万
-
财政年份:1992
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
In-situ蛍光XAFS法による金属表面におけるS,PとCOの共吸着構造
-
批准号:03740234
-
项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
-
资助金额:$0.64万
-
财政年份:1991
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
二段階固定化法によりシリカ表面に精密合成した酸化バナジウム超薄膜触媒に関する研究
-
批准号:01750748
-
项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
-
资助金额:$0.58万
-
财政年份:1989
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
全反射蛍光偏光EXAFS法による白金表面上におけるエチレン水素化反応機構の研究
-
批准号:63740239
-
项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
-
资助金额:$0.58万
-
财政年份:1988
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
偏光全反射蛍光 EXAFS 法による固体触媒表面の研究
-
批准号:60740229
-
项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
-
资助金额:$0.58万
-
财政年份:1985
-
负责人:朝倉 清高
-
依托单位:
海外基金