课题基金 / 基金详情

回転する環状液層内のパターン形成と制御

回転する環状液層内のパターン形成と制御
旋转环形液体层内的图案形成和控制
批准号:
16656240
负责人:
今石 宣之
金额:
$2.18万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Exploratory Research
财政年份:
2004
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2004 至 --

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
Czochralski炉内の融液対流の制御を最終目的として、外管壁加熱、内管壁冷却された環状プール内の薄い液体層中に生じる表面張力対流の3次元振動流の発生条件および発生後の温度・流れの変動パターンに及ぼす、回転の影響について検討を行った。まず、スーパーコンピュータを利用して、出来る限り細かいメッシュを用いた数値解析を実行し、厚さ1mmのシリコンオイル液層内の流れと温度場の時空間変動を検討した。その結果、外管壁温度と内管壁温度の温度差(ΔT)がある臨界値を越えると、環状液層内の流れは軸対称定常流から、細かいスポーク状のパターンが、周方向に伝播するHydrothermal Waveが発生することを確認した。このスポークパターンの波数や臨界温度差は、強い液深依存性を示すことを明らかにした。この環状液層を、中心軸の周囲にゆっくりと回転すると、Hydrothermal waveの発生条件は回転数依存性を示すことを明らかにした。また、スポークパターンの挙動も変化することを確認した。しかし、当初予測していた、回転付与によってHydrothermal Waveの発生を強く抑制することは困難であることが判明した。様々なチェックを行った結果、予測に用いたシミュレーションに使用したメッシュが粗かったために、波数の大きなスポークが計算出来なかったためであることが判明した。このため現在、極めて細かいメッシュを用いた計算を実行した。現在線形安定解析との比較検討も行った。これまでの計算結果をまとめて、2005年7月に西安で開催される国際会議において発表する予定である。
英文摘要
Czochralski炉内の融液対流の制御を最終目的として、外管壁加熱、内管壁冷却された環状プール内の薄い液体層中に生じる表面張力対流の3次元振動流の発生条件および発生後の温度・流れの変動パターンに及ぼす、回転の影響について検討を行った。まず、スーパーコンピュータを利用して、出来る限り細かいメッシュを用いた数値解析を実行し、厚さ1mmのシリコンオイル液層内の流れと温度場の時空間変動を検討した。その結果、外管壁温度と内管壁温度の温度差(ΔT)がある臨界値を越えると、環状液層内の流れは軸対称定常流から、細かいスポーク状のパターンが、周方向に伝播するHydrothermal Waveが発生することを確認した。このスポークパターンの波数や臨界温度差は、強い液深依存性を示すことを明らかにした。この環状液層を、中心軸の周囲にゆっくりと回転すると、Hydrothermal waveの発生条件は回転数依存性を示すことを明らかにした。また、スポークパターンの挙動も変化することを確認した。しかし、当初予測していた、回転付与によってHydrothermal Waveの発生を強く抑制することは困難であることが判明した。様々なチェックを行った結果、予測に用いたシミュレーションに使用したメッシュが粗かったために、波数の大きなスポークが計算出来なかったためであることが判明した。このため現在、極めて細かいメッシュを用いた計算を実行した。現在線形安定解析との比較検討も行った。これまでの計算結果をまとめて、2005年7月に西安で開催される国際会議において発表する予定である。
期刊论文(4)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: 10.1016/j.ijthermalsci.2003.12.003
发表时间: 2004-06
期刊: International Journal of Thermal Sciences
影响因子: 4.5
作者: [You-Rong Li;L. Peng;Shuang-Ying Wu;D. Zeng;N. Imaishi]
通讯作者: You-Rong Li;L. Peng;Shuang-Ying Wu;D. Zeng;N. Imaishi
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: 5th International Symposium on Multiphase Flow, Heat Mass Transfer and Energy Conversion (2005 July 3-6, Xi'an, China) (印刷中)
影响因子: --
作者: [W.Y.Shi, N.Imaishi, Y.R.Li, D.L.Zeng, L.Peng]
通讯作者: L.Peng
GaAsの光化学的ドライエッチングに関する研究
  • 批准号:
    61550695
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $1.02万
  • 财政年份:
    1986
  • 负责人:
    今石 宣之
  • 依托单位:
支持液膜による有機物アニオンの分離・濃縮操作
  • 批准号:
    60550655
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $1.02万
  • 财政年份:
    1985
  • 负责人:
    今石 宣之
  • 依托单位: