Development of silicon heterojunction solar cells with tunneling oxide passivation layers

具有隧道氧化物钝化层的硅异质结太阳能电池的开发

• 批准号: 16H06796
• 负责人: Nakada Kazuyoshi
• 金额: $ 1.91万
• 依托单位: Tokyo Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
• 财政年份: 2016
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2016-08-26 至 2018-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-16H06796/
• 关键词: シリコン太陽電池; キャリア選択層; パッシベーション; ヘテロ接合; 太陽電池; 結晶シリコン太陽電池; 電子材料

项目成果

Influence of MoOx hole selective contact thickness on the performance of c-Si heterojunction solar cells

MoOx空穴选择性接触厚度对晶硅异质结太阳能电池性能的影响

• 发表时间: 2019
• 作者: A. S. Gupta;H. Akamatsu;F. G. Brown;M. T. Nguyen;M. E. Strayer;S. Lapidus;S. Yoshida;K. Fujita;K. Tanaka;I. Tanaka;T. E. Mallouk;and V. Gopalan;Kazuyoshi Nakada
• 通讯作者: Kazuyoshi Nakada

Evaluation of microcrystalline silicon oxide thin films for application as a hole selective contact for c-Si solar cells

微晶硅氧化物薄膜用作晶硅太阳能电池空穴选择性接触的评估

• 发表时间: 2018
• 作者: H. Akamatsu;K. Fujita;A. Sen Gupta;A. Togo;K. Tanaka;I. Tanaka;V. Gopalan;Kazuyoshi Nakada
• 通讯作者: Kazuyoshi Nakada

Passivation effect of SiOx interfacial layer in MoOx hole selective contact

MoOx空穴选择性接触中SiOx界面层的钝化效应

• 发表时间: 2018
• 作者: Katayama Tsukasa;Yasui Shintaro;Hamasaki Yosuke;Shiraishi Takahisa;Akama Akihiro;Kiguchi Takenori;Itoh Mitsuru;望月 泰英，赤松 寛文， 熊谷 悠，大場 史康;萩原里香;Kazuyoshi Nakada
• 通讯作者: Kazuyoshi Nakada

p-μc-SiOx:H/酸化物積層構造のパッシベーション効果と抵抗値評価

p-μc-SiOx:H/氧化物叠层结构的钝化效果及电阻值评估

• 发表时间: 2017
• 作者: Katayama Tsukasa;Yasui Shintaro;Hamasaki Yosuke;Shiraishi Takahisa;Akama Akihiro;Kiguchi Takenori;Itoh Mitsuru;望月 泰英，赤松 寛文， 熊谷 悠，大場 史康;萩原里香;Kazuyoshi Nakada;萩原里香;中田和吉
• 通讯作者: 中田和吉

山田・宮島研究室

山田/宫岛研究所